PL57275B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 20.Y.1969 57275 KI. 21 h, 30/13 MKP B 23 k UKD Kbo Wspóltwórcy wynalazku: dr inz. Czeslaw Królikowski, mgr inz. Ryszard Niewiedzial Wlasciciel patentu: Politechnika Poznanska (Katedra Urzadzen Elek¬ trycznych i Wysokich Napiec), Poznan (Polska) Urzadzenie zaplonowe do lukowych palników plazmowych Przedmiotem wynalazku jest 4urzadzenie zaplo¬ nowe do lukowych palników plazmowych pradu stalego za pomoca wysokonapieciowych impulsów, posiadajacych wielka czestotliwosc rzedu 1 MHz.Znane sa wysokonapieciowe uklady zaplonowe wielkiej czestotliwosci rzedu 1 MHz i wiecej, skladajace sie z transformatora, kondensatorów, iskiernika i cewki indukcyjnej tworzace zatem proste uklady generatora LC.Wada tych ukladów jest to, ze cewka induk¬ cyjna obwodu rezonansowego, wlaczona w glów¬ ny obwód pradowy palnika, posiadajaca obciazal¬ nosc pradowa rzedu 500 A i wiecej nie jest chlo¬ dzona, co ipociaga za isoba znaczny wzrost wymia¬ rów tej cewki oraz wagi, a ponadto powoduje ko¬ niecznosc oddzielnego doprowadzenia przewodami rurowymi wody chlodzacej do palnika, szczególnie od strony katody.Celem wynalazku jest wyeliminowanie wad w zakresie samej konstrukcji ukladu, jak równiez polepszenie jego warunków eksploatacyjnych.Cel ten osiagnieto przez wprowadzenie do ukla¬ du zaplonowego z generatorem LC, zapewniaja¬ cego bezpieczna prace przy wysokich napieciach, cewki indukcyjnej wykonanej z przewodu ruro¬ wego, chlodzonej woda, przy czym woda dopro¬ wadzona jest do katody palnika. Tak wykonana cewka indukcyjna jest na stale wlaczona w glów¬ ny obwód pradowy pracujacy pod obciazeniem od 500 do 1000 A, sluzac jednoczesnie jako element 10 15 20 25 30 wygladzajacy napiecie zasilajace z pradnicy lub prostowników.Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest przy¬ kladowo na rysunku, na którym fig. 1 przedsta¬ wia schemat ideowy urzadzenia, fig. 2 — cewke indukcyjna wykonana z przewodu rurowego, a fig. 3 — ciag oscylacji tlumionych obwodu rezo¬ nansowego.W galaz ukladu zasilania laczaca biegun ujem¬ ny generatora 1, poprzez cewke indukcyjna 2, z katoda 3 lukowego palnika plazmowego 4, wla¬ czone jest urzadzenie zaplonowe A zasilane z sie¬ ci 220 V, 50 Hz. Jest ono zatem przystosowane do równoleglego zasilania glównego obwodu prado¬ wego palnika.Cewka indukcyjna 2 wykonana z przewodu ru¬ rowego laczy sie z jednej strony z biegunem ujemnym pradnicy 1, kondensatorem C3 i prze¬ wodem doprowadzajacym wode oraz jedna gale¬ zia transformatora, a z drugiej strony z druga galezia transformatora zawierajaca kondensatory Ct i C2 i dalej katoda 3 palnika.Transformator 5 zasilajacy urzadzenie A po¬ siada po stronie wysokiego napiecia przykladowo trzy odczepy na napiecia 4,5 kV, 6,0 kV i 7,5 kV.Odczepy te pozwalaja na dobór odpowiedniej war¬ tosci napiecia w zaleznosci od rodzaju stosowa¬ nego gazu roboczego i geometrii przerwy mie- dzyelektrodowej lukowego palnika plazmowego 4. 572753 W obwód urzadzenia A z transformatorem 5, wlaczone sa kondensatory Ct i C2 oraz cewka indukcyjna 2. Równolegle do cewki 2 oraz kon¬ densatora Ci wlaczony jest iskiernik 6. Obwód re¬ zonansowy ulozony z (pojemnosci "fCi l indukcyj- nosci 2, o okreslonej znanym wzorem czestotliwo¬ sci wlasnej, stanowi uklad oscylacyjny urzadze¬ nia. Kondensator Ci jest ladowany do chwili wy¬ stapienia przeskoku iskrowego na iskierniku 6.Z chwila zamkniecia obwodu rezonansowego po¬ przez wyladowanie na iskierniku 6, nastepuje roz¬ ladowanie sie kondensatora Ci przez cewke induk¬ cyjna 2, w postaci tlumionych oscylacji, o okresie stanowiacym wedlug znanego wzoru odwrotnosc czestotliwosci. Ciag tak powstalych oscylacji tlu¬ mionych przedstawia przykladowo fig. 3, na któ¬ rej krzywa 7 charakteryzuje przebieg napiecia zasilajacego w ukladzie wspólrzednych, gdzie „U" oznacza napiecie, a „t" — czas, natomiast odci¬ nek 8 okresla wartosc napiecia ladowania kon¬ densatora Ci.Odleglosc pomiedzy elektrodami iskiernika — jest dowolnie regulowana. Zwiekszenie odstepu elektrod powieksza napiecie wyjsciowe urzadze¬ nia zaplonowego. 57275 4 Kondensator C2 w urzadzeniu zaplonowym chro¬ ni przed przeciazeniem pradowym, wysokonapie¬ ciowe uzwojenie transformatora 5, w czasie wy¬ stepowania wyladowania elektrycznego na iskier- 5 niku 6. Kondensator C8 natomiast zainstalowany w glównym obwodzie pradowym lukowego pal¬ nika plazmowego, zabezpiecza zródlo zasilania 1 przed wysokim napieciem z urzadzenia zaplono¬ wego A, które mogloby powodowac przebicie izo- 1Q lacji zródla zasilania 1. 15 PL

Claims (3)

1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie zaplonowe do lukowych palników plazmowych, posiadajace w ukladzie transforma¬ tor wysokonapieciowy, kondensatory, iskiernik i 20 cewke indukcyjna, tworzace uklad generatora LC, wlaczone w galaz glównego ukladu zasilania pal¬ nika, znamienne tym, ze cewke indukcyjna (2) stanowi zwijany przewód rurowy chlodzony wo¬ da, przez który woda doprowadzana jest do ka- 25 tody palnika.KI. 21 h, 30/13 57275 MKP B 23 k °f-^-%iMib-^—f i V % /KI. 21 h, 30/13 57275 MKP B 23 k Fig.

2. Fig.

3. ZG „Ruch" W-wa, zam. 52-69 nakl. 290 egz. PL