Pierwszenstwo: 14.1.1964 Niemiecka Republika Demokratyczna Opublikowano: 15.XI.1968 56357 KL 12 », 2 MKP BOld \\ll Twórca wynalazku: Reinhard Barmann Wlasciciel patentu: VEB Chemiefaserwerk „Friedrich Engels", Prem- nitz/Kr. Rathenow (Niemiecka Republika Demokra¬ tyczna) Urzadzenie do rozprowadzania cieczy o duzej lepkosci po scian¬ kach warstewkowych aparatów wyparnych Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do roz¬ prowadzania cieczy o duzej lepkosci po wewnetrz¬ nych powierzchniach scianek pionowych aparatów wyparnych.W celu wytworzenia z cieczy cienkiej blony na sciankach aparatów wyparnych, na obrotowym wa¬ le, usytuowanym centrycznie wewnatrz aparatu, umieszcza sie róznego rodzaju urzadzenia rozprowa¬ dzajace ciecz. Urzadzenia te zamocowane sa na wa¬ le w sposób sztywny lub w sposób wahliwy umozli¬ wiajacy im zmiane polozenia.Urzadzenia, które zamocowane sa na wale wa¬ hadlowo i przestawnie, wskutek dzialania sily od¬ srodkowej lub tez dzieki sprezynujacemu umoco¬ waniu do walu przesuwane sa w kierunku scianek i zeskrobuja albo rozmazuja w formie cienkiej war¬ stwy doplywajaca mase, sciekajaca w czasie obrób¬ ki po sciankach.Urzadzenia rozprowadzajace (rozmazujace lub zeskrobujace) zbudowane sa jako elementy w ksztalcie luku lub skrzydel i umieszczone w krót¬ kich odstepach jeden za drugim tworzac rodzaj za¬ luzji. Inne znane elementy maja postac walków lub tasm sprezynujacych usytuowanych promieniscie na calej dlugosci walu.Znane jest ponadto zamocowanie na obracajacym sie zakonczeniu walu w stozkowej czesci wyparki wchodzacym w koncowa czesc aparatu, róznego ro¬ dzaju skrzydelek. 15 20 25 30 Za pomoca tych znanych urzadzen mozna wpraw¬ dzie zeskrobac albo rozmazac na cienka warstwe doprowadzona, mniej lub bardziej plynna mase, sciekajaca po wewnetrznych sciankach aparatu, ale dzialanie to nie jest dostatecznie skuteczne. W przypadku urzadzen, które jedynie rozmazuja ciecz po sciankach, istnieje niebezpieczenstwo, ze czesc cieczy rozmazanej zawisnie na sciankach, tworzac osady, co zmniejsza wydajnosc powierzchni grzejnej i wplywa ujemnie na jakosc produktu koncowego.Urzaczenia zeskrobujace ciecz ze scianek nie za¬ pewniaja calkowitego zeskrobywania cieczy na ca¬ lej dlugosci aparatu, co w rezultacie prowadzi do tworzenia sie narostów i wplywa ujemnie na wy¬ miane ciepla. Niedogodnosci te usuwa urzadzenie wedlug wynalazku.Urzadzenie to sklada sie z obrotowego walu cen¬ trycznie zamontowanego w aparacie wypamym, na calej dlugosci którego zamocowane sa za pomoca prostopadlych do niego ramion ruchomo elementy rozprowadzajace ciecz splywajaca po sciankach aparatu wyparnego.Element rozprowadzajacy ma ksztalt plytki usta¬ wionej równolegle do scianki aparatu i w swojej górnej czesci ma zagieta w kierunku obrotu i stycz¬ na do powierzchni scianek aparatu boczna pla¬ szczyzne przeznaczona do zgarniania cieczy ze scia¬ nek, a w swojej dolnej czesci ma krawedz lekko odchylona w kierunku obrotów i przeznaczona do rozmazywania cieczy po sciankach aparatu. 56 35756 3 Elementy rozprowadzajace ciecz po sciankach umieszczone sa na wale jeden pod drugim w odle¬ glosciach odpowiadajacych szerokosci czesci rozma¬ zujacej, z jednoczesnym przesunieciem ich w kie¬ runku ruchu obrotowego walu. Ciecz rozprowadza¬ na na sciankach przez czesc rozmazujaca jednego elementu usuwana jest ze scianki przez czesc zgar¬ niajaca nastepnego elementu po mniej wiecej jed¬ nym obrocie walu mieszadla i w ten sposób masa przenoszona jest w sposób ciagly po sciankach apa¬ ratu wyparnego z góry na dól.Odmiana urzadzenia wedlug wynalazku jest urza¬ dzenie, w którym na calej dlugosci walu zamoco¬ wane sa plytki, które kolejno naprzemian stanowia osobne wyzej opisane czesci rozmazujace i zeskro- bujace ciecz ze scianek.W celu szybkiego usuwania cieczy korzystne jest zamocowanie na dolnym koncu walu mieszadla czesci zeskrobujacej.Konstrukcja urzadzenia wedlug wynalazku i jego odmiany zapewnia utrzymanie stalego obiegu cie¬ czy w aparacie z góry na dól, dzieki czemu cala powierzchnia scianek aparatu pokrywana jest cien¬ ka warstwa cieczy, co sprzyja dobrej wymianie cie¬ pla, a tym samym zwieksza sie znacznie wydajnosc powierzchni grzejnej aparatu. Dzieki temu nie two¬ rza sie narosty, co ma szczególne znaczenie zwla¬ szcza w przypadku odparowywania substancji o duzej lepkosci oraz substancji, które na przyklad w wysokich temperaturach traca swoje cenne wla¬ snosci, jak na przyklad roztwory przedne o duzej lepkosci, stosowane w przemysle wlókien sztucz¬ nych.Urzadzenie wedlug wynalazku przykladowo zo¬ stalo przedstawione na rysunkach, na których fig. 1 przedstawia przekrój podluzny aparatu wyparne¬ go z urzadzeniem wedlug wynalazku, fig. 2 — prze¬ krój poprzeczny wzdluz linii A—A na fig. 1 z ele¬ mentem rozprowadzajacym ciecz, fig. 3 — rzut po¬ ziomy elementu rozprowadzajacym ciecz, fig. 4 — przekrój elementu rozprowadzajacego wzdluz linii B—B na fig. 3 oraz fig. 5 — przekrój elementu roz¬ prowadzajacego wzdluz linii C—C na fig. 3.W korpusie 2 aparatu z plaszczem grzejnym 1 usytuowany jest wal 3 mieszadla. Na ramionach 4 zamocowanych sztywno na wale rozmieszczone sa ruchomo w odstepach równych szerokosci wycie¬ rania, przy zastosowaniu resorowania teleskopowe- 357 4 go, rozprowadzajace elementy 5 przystosowane (patrz fig. 2) do krzywizn scianek.Na skutek obrotu walu mieszadla, a tym samym elementów rozprowadzajacych, ciecz doprowadzona 5 na scianki korpusu aparatu przez doplyw 6 i ko¬ more rozdzielcza 7 a pierscieniowa szczelina 8 usu¬ wana jest ze scianki przez skosna zgarniajaca kra¬ wedz 5' elementu 5, na nastepnie kierowana do skos¬ nej rozmazujacej powierzchni 5" elementu rozpro- 10 wadzajacego, która rozmazuje ja po sciankach w postaci cienkiej warstwy. Po okolo jednym obro¬ cie walu mieszadla ciecz zgarniana jest znowu ze scianki aparatu przez obracajaca sie czesc zgarnia¬ jaca nastepnego elementu, która to czesc znajduje l5 sie na wysokosci czesci rozmazujacej poprzedniego elementu. PL