PL55510B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 20.VI.1968 55510 KI. 82 a, 5/24 Cr^hz3/2 MKP C 03 b UKD 666.1.031.13 (18 Wspóltwórcy wynalazku: Wlodzimierz Czyz, Janusz Kulisa Wlasciciel patentu: Huta Szkla Okiennego „Zabkowice", Zabkowice Be¬ dzinskie (Polska) Sposób pomiaru poziomu masy szklanej w wannie szklarskiej i urzadzenie do stosowania tego sposobu i Przedmiotem wynalazku jest sposób pomiaru po¬ ziomu masy szklanej w wannie szklarskiej i urza¬ dzenie do stosowania tego sposobu.W przemysle szklarskim do pomiaru poziomu masy szklanej stosuje sie kilka rodzajów urzadzen. 5 Urzadzenia: plywakowe, z elektroda nieruchoma, z elektroda ruchoma, pneumatyczne, posiadaja wspólna wade zasadnicza polegajaca na bezpo¬ srednim stykaniu sie urzadzenia z masa, oraz umiejscowienie urzadzenia w wannie szklarskiej 10 gdzie panuje wysoka temperatura.Urzadzenie plywakowe posiada dodatkowa wade, polegajaca na zuzywaniu sie plywaka i zwiazana z tym zmiennosc pomiaru. Urzadzenie z elektroda nieruchoma i z elektroda ruchoma posiadaja do- 15 datkowa wade, polegajaca na czestym zanieczysz¬ czaniu elektrod, przyklejaniu masy do elektrod i zwiazany z tym demontaz urzadzenia w celu przeczyszczenia, mala dokladnosc, a urzadzenie z elektroda nieruchoma nie posiada mozliwosci pod- 20 laczenia rejestracji.Urzadzenie pneumatyczne posiada dodatkowa wa¬ de, polegajaca na czestym przyklejaniu sie dyszy do masy szklanej i zwiazany z tym demontaz dy¬ szy szamotowej, polaczony niejednokrotnie z jej 25 zniszczeniem, mala dokladnoscia, skomplikowana budowa.Urzadzenie izotopowe posiada wade, polegajaca na koniecznosci scienienia scian wanny szklarskiej w punkcie pomiaru, skomplikowanej bu*dowie, ma- 30 lej dokladnosci, zmiennosci wskazan w czasie, brak mozliwosci rejestracji i niebezpieczenstwie promie¬ niowania.Sposób wedlug wynalazku polega na projekcji szczeliny swietlnej pod katem do powierzchni masy szklanej w celu odbicia jej od powierzchni masy i rzutowaniu na uklad fotooporników po przeciw¬ nej stronie wanny.W zaleznosci od zmiany poziomu masy szklanej w góre czy tez w dól strumien swietlny zostaje kierowany tak samo. Uklad pomiarowy nie styka sie z mierzona masa szklana, zamontowany jest na zewnatrz wanny cechuje go prosta budowa, niska cena wykonania, bardzo duza dokladnosc po¬ miaru rzedu 0,03 mm., mozliwosc podlaczenia re¬ jestracji i automatyki.Zasade wynalazku pokazuje fig. 1. Wanna szklarska 1 napelniona masa szklana 2 posiada umocowane w otworach rury stalowe 3 dlugosci 0,5 m zamkniete szczelnie szybkami 4. Tak skon¬ struowane wzierniki daja czysta projekcje bez za-, klócen i drgan. Z jednej strony wanny jest umo¬ cowany na stojaku rzutnik 5 z obiektywem 6, któ¬ ry rzuca waski strumien swiatla 7 na mase szkla¬ na. Odbite swiatlo od masy trafia po drugiej stro¬ nie wanny do sondy pomiarowej 8.Budowe rzutnika pokazuje fig. 2. Sklada sie on z obiektywu 6 szczeliny 9 kondensatora 10 lampy projekcyjnej 11, do której napiecie doprowadza przewód 12, lustra 13 i obudowy 5. Calosc umoco- 5551055510 wana jest na stojaku 21, który posiada pokretlo 18, regulujace kat rzutowania promienia oraz pokretlo 20, regulujace wysokosc rzutnika 5. Natomiast bu¬ dowe sondy pomiarowej pokazuje fig. 3. Sklada sie ona z obudowy 8 szybki 14 fotooporników 15, umo¬ cowanych na plytce izolacyjnej 17 i laczonych ze zródlem pradu i miernikiem przewodem trójzylo- wym 16. Calosc zamontowana jest na stojaku.Schemat ukladu pomiarowego przedstawia fig. 4, który wyposazony jest w dwa fotooporniki F1 i F2, umieszczone w sondzie pomiarowej 15 i dwa opor¬ niki regulacyjne Rx i R2 wraz z miernikiem M umieszczonym poza sonda pomiarowa, polaczone w ukladzie mostkowo-róznicowym.W przypadku kiedy-^odbity od masy szklanej strumien swiatla oswietla jednakowo oba foto¬ oporniki uklad jest w równowadze i miernik po¬ kazuje zero. Natomiast zmiana poziomu powoduje przesuniecie czesciowe strumienia swietlnego w gó¬ re czy tez w dól powodujac zachwianie równowagi mostka a miernik wychylil sie na plus czy tez na minus informujac dokladnie o faktycznej zmia¬ nie poziomu masy szklanej w wannie. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób pomiaru poziomu masy szklanej w wan- 25 nie szklarskiej, znamienny tym, ze waska szcze- 10 15 20 line swiatla rzutuje sie pod katem za pomoca rzutnika na mase szklana i po przesunieciu kata strumienia swiatla w góre albo w dól w zaleznosci od poziomu masy szklanej, stru¬ mien swietlny po odbiciu kieruje sie do sondy pomiarowej, umieszczonej po przeciwnej stro¬ nie wanny, w której odczytuje sie poziom masy szklanej.
2. 2. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug za¬ strzezenia 1, znamienne tym, ze zamocowany w boku wanny szklarskiej (1) rzutnik (5) na stojaku (21), zaopatrzonym w pokretla (18) i (20) do nastawiania kata nachylenia rzutnika, za¬ wiera obiektyw ( 6) który za posrednictwem kondensatora (10), lampy projekcyjnej (11) i lu¬ stra (13), rzuca poprzez szczeline (9) waski stru¬ mien swiatla (7) na powierzchnie masy szkla¬ nej, od której odbija sie pod odpowiednim ka¬ tem i trafia do zamocowanej po przeciwnej' stronie wanny sondy pomiarowej (8), wyposa¬ zonej w fotooporniki (Fx i F2) umocowane na plytce izolacyjnej (17) i polaczone ze zródlem pradu i opornikami regulacyjnymi (Ri , i R2) przewodami w ukladzie mostkowo-róznicowym oraz miernikiem poziomu masy (M). $6437 2 13 4 8 FiaA PZG w Palb., zam. 283-68, nakl. 250 egz. PL