PL53842B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 31.VIII.1967 53842 KI. 67 a, 4 MKP B24b UKD 3\*o Twórca wynalazku: inz. Mieczyslaw Smólka Wlasciciel patentu: Instytut Geodezji i Kartografii, Warszawa (Polska) Przyrzad do ostrzenia rylców rytowniczych Przedmiotem wynalazku jest przyrzad do ostrze¬ nia rylców rytowniczych uzywanych do rytowania warstw na podlozu szkla, mas plastycznych i in¬ nych materialów.Dotychczas ostrzenie rylców odbywa sie przez pocieranie oselka odpowiednich powierzchni ryl¬ ców badz to osadzonych w przyrzadach rytowni¬ czych badz tez trzymanych w reku. Przy tego ro¬ dzaju ostrzeniu, rylec nie ma przymusowego pro¬ wadzenia w stosunku do roboczej powierzchni oselki co powoduje, ze ostrza skrawajace rylca nie otrzymuja prawidlowego ksztaltu utrudniajac tym samym rytowanie i obnizaja jakosc wykonywane¬ go rysunku.Ostrzenie rylców przy uzyciu przyrzadu wedlug wynalazku usuwa wymienione wady przez nada¬ nie rylcowi prawidlowego uksztaltowania krawedzi tnacych a samo ostrzenie jest latwe i szybkie.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony na ry¬ sunku, na którym fig. la i b przedstawia rylec z wykazanymi katami nachylenia ostrzonych po¬ wierzchni rylca, fig. 2 i 7 poprzeczny przyrzad przekroju przyrzadu wraz z rylcem w dwu róz¬ nych jego polozeniach ostrzenia, fig. 6 przedstawia przyrzad w widoku podluznym, fig. 5 uchwyt ryl¬ ca w przekroju poprzecznym oraz fig. 3 i 4 sposób ustawiania oselki.Przyrzad wedlug wynalazku zbudowany jest z oprawki 4 sluzacej do umocowania oselki 5 plyt¬ ka dociskajaca 8 blokowana wkretami 10. Górne 10 15 20 25 30 2 powierzchnie oprawki 4 i plytki dociskajacej 8 sa dokladnie obrobione i leza w jednej pla¬ szczyznie.Ustawienia oselki 5 w oprawce 4 dokonuje sie za pomoca plaszczyzny lub wystepu plytki kon¬ trolnej 9.Oprawke 4 wraz z oselka 5 i plytka dociskaja¬ ca 8 ustawia sie w polozeniu odwróconym na pla¬ szczyznie plytki kontrolnej 9 po czym odkreca sie wkrety 10. Oselka 5 i plytka kontrolna 9 pod wplywem wlasnego ciezaru opadaja i ustawiaja sie w plaszczyznie oprawki 4 i plytki dociskajar cej 8. Przy tym polozeniu elementów opisanych wyzej dokreca sie wkrety 10 i ustawia sie opraw¬ ke w normalnej pozycji.Chcac ustawic robocza powierzchnie oselki 5 ponizej plaszczyzny oprawki 4 i plytki dociskaja¬ cej 8 ustawia sie przyrzad jak wyzej wzdluz wy¬ stepu plytki kontrolnej 9 tak, aby powierzchnia robocza oselki 5 calkowicie lezala na tym wyste¬ pie. Po odkreceniu i dokreceniu wkretów 10 uzy¬ skuje sie polozenie roboczej powierzchni oselki 5 ponizej i równolegle do plaszczyzny oprawki 4 i plytki dociskajacej 8.W swojej srodkowej czesci podstawka 6 ma wy¬ ciecie a w górnej — dwa kanaly pryzmowe o jed¬ nakowych wymiarach sluzace do umocowania uchwytu rylca 7 walkiem cylindrycznym 11. Wa¬ lek cylindryczny 11 osadzony jest uchylnie i moze byc przekladany w kanalach pryzmowych o 180°. 538423 Os x—x walka cylindrycznego 11 jest równolegla do podstawy podstawki 6. Uchwyt rylca 7 ma dwie powierzchnie oporowe 12 i 13 oraz jarzmo 14, którego tulejka stozkowa 15 dociska rylce 18 do powierzchni oporowej 12 i 13 przez dokrecenie zacisku 17. Powierzchnie oporowe 12 i 13 uchwytu rylca 7 sa tak ustawione, ze powierzchnia oporo¬ wa 12 jest równolegla a powierzchnia oporowa 13 jest prostopadla do osi x—x walka cylindryczne¬ go 11. ^o ostrzenia rylców o wiekszych wymiarach lub innym ksztalcie moga byc wykonane wymienne uchwyty rylców o podobnym rozwiazaniu.Rylec jest prawidlowo naostrzony wtedy, kiedy jego krawedz zbierajaca 1, przedstawiona na fig. la, jest prostopadla do osi rylca. Dla rytowania na podlozu ze szkla krawedz zbierajaca warstwe uksztaltowana jest przez, przedstawiona na fig. Ib, powierzchnie 2 prostopadla do powierzchni ryto- wanej i przez powierzchnie 3 nachylona pod ka¬ tem a do tej powierzchni. Do rytowania warstwy na miekkim podlozu, np. z mas plastycznych, rylce od strony powierzchni natarcia ma dodatkowa powierzchnie pracy pochylona do powierzchni ry- tiwania pod katem p. Rylec, który ma byc ostrzo¬ ny nalezy wsunac w uchwyt tak gleboko, aby po¬ wierzchnia ostrzona zajela wlasciwe polozenie wzgledem roboczej powierzchni oselki 5. Przez wsuwanie lub wysuwanie rylca reguluje sie kat nachylenia rylca a tym samym katy ostrzenia a i p.Spelnienie warunków równoleglosci i prostopa¬ dlosci poszczególnych plaszczyzn, wymienionych 53842 4 wyzej, do osi x—x walka cylindrycznego 11 za¬ pewnia stale jednakowe ksztaltowanie sie krawe¬ dzi zbierajacej rylca prostopadle do jego osi.Ksztaltowanie ujemnej powierzchni natarcia ryl- 5 ca pod katem p odbywa sie po przelozeniu uchwy¬ tu rylca o 180° w kanalach pryzmowych.Ostrzenie odbywa sie przez przesuwanie pod¬ stawki 6 po górnej powierzchni oprawki 4 i plyt¬ ki dociskajacej 8 z jednoczesnym dociskaniem po- io wierzchni ostrzonej do oselki 5 przez nacisk na uchwyt rylca 7. PL

Claims (4)

1. Zastrzezenia patentowe 15 1. Przyrzad do ostrzenia rylców rytowniczych, znamienny tym, ze zaopatrzony jest w oprawke 4 mocujaca oselke 5 plytka dociskajaca 8 i wkretami 10, podstawke 6 z uchwytem rylca 7 swobodnie przesuwana po górnej powierzchni 20 oprawki 4, oraz w plytke kontrolna 9. 2. Przyrzad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze uchwyt rylca 7, umocowany uchylnie na pod¬ stawce 6, ma os obrotu x—x, w postaci walka cylindrycznego 11, równolegla do dolnej po- 25 wierzchni podstawki 6 oraz dwie powierzchnie oporowe 12 i 13, z których powierzchnia oporo¬ wa 12 jest równolegla zas powierzchnia oporo¬ wa 13 jest prostopadla do osi obrotu x—x. 3. Przyrzad wedlug zastrz. 1—2, znamienna tym, ze jarzmo 14, uchwytu rylca 7 ma tulejke stoz¬ kowa 15 dociskajaca rylec 18 do powierzchni oporowej 12 i 13 przez dokrecenie zacisku 17. 30KI. 67 a, 4 53842 MKP B 24 b A-A \A JL I Fig.

2 Fig.6 A-A S~3 -iu r- ffl- Fig.

3 Ftg.

4 PL