PL52186B1 - - Google Patents

Description

Przedmiotem niniejszego wynalazku jest taikze urzadzenie do stoisowania opisanego wyzej sposobu. 521853 52186 4 Urzadzenie to sklada sie z podluznej komory, naj¬ korzystniej o ksztalcie cylindrycznym, w której znajduje sie przynajmniej jedna elektroda umiesz¬ czona czesciowo w izolacji elektrycznej oraz z do¬ wolnego ukladu elektrycznego powodujacego wy¬ ladowania elekltryczne wewnatrz wspomnianej ko¬ mory.

Wynalazek zostal blizej zilustrowany na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia ideowo urzadzenie wedlug wynalazku zaopaltrizone w przykladowy Uklad elektrycznego zasilania, zas fig. 2 i fig. 3 przedstawiaja wycinkowy przekrój palnika plaz¬ mowego, z odmiennie zamontowanymi komorami, w których wytwarzany jest zgestek plazmy.

Kat nachylenia osi komory wzgledem osi palnika dobiera sie w zaleznosci od tego czy w palniku stosuje sie osiowy czy tez wirowy przeplyw gazu.

Uklad elektrycznego zasilania urzadzenia wedlug wynalazku sklada sie z zasilacza, kondensatora ro¬ boczego i generatora iskry.

Napiecie zmienne Us po piizetrainsformowaniu na transformatorze 7 dio napiecia Vl i wyprostowaniu doprowadzone jest przez zesltyki 8—9 stycznika 10 na okladki kondensatora 6. Okladki kondensatora 6 polaczone sa z elektroda 1 (katoda) i lufa 3. Elek¬ troda 1 jeist osadzona w lufie 3 za pomoca izolacji 2.

Rozladowanie kondensatora 6 w komorze lufy 3 nastepuje za pomoca generatora wielkiej czesto¬ tliwosci. Generator sklada sie z cewki 11, konden¬ satora 12, iskiernika 13 i kondensatora 14. Genera¬ tor jest zasilany napieciem Uz poprzez zestyki 15—16.

Kondensator 12 jest impulsowo rozladowywany w komorze lufy 3 i energia tego rozladowania po- 5 woduje wzrost temperatury gazu, który sitaje sie plazma.

Oczywiste jest* ze plazma ta moze byc wprowa¬ dzana miedzy elektrody glówne 4 i 5 palnika po¬ przez lufe 3 zarówno prostopadle, jak i pod katem w stosunku do osi elektrody palnika plazmowego, co uwidaczniaja odpowiednio fig. 2 i 3 rysunku.

Zaslt rzezenia patentowe 1. Sposób zaplonu lukowego palnika plazmowego, znamienny tym, ze wytwarza .sie zgestek plazmy w podluznej komorze, po czym wprowadza sie go z odpowiednia predkoscia miedzy elektrody glówne palnika, do których uprzednio lub w czasie niedluzszym - od czasu potrzebnego na zdejonizowanie sie zgesitka przyklada sie napie¬ cie robocze. 2. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug za- istrz. 1„ znamienne tym, ze sklada sie z podluz¬ nej komory najkorzystniej o ksztalcie cylin¬ drycznym, w której znajduje sie przynajmniej jedna elektroda umieszczona czesciowo w izola¬ cji elektrycznej oraz z dowolnego ukladu elek¬ trycznego powodujacego wyladowania elektrycz¬ ne wewnatrz wymienionej komory. 15 20 25KI 21 h, 30/13 52186 MKP H 05 b r/g. if KI 21 h, 30/13 52186 MKP H 05 b FLg.2 Fig. 3 i BIBLIOTEK 7 [ i Urzedu Patentowa ,| ZG „Ruch" W-wa, zam. 1329-66, nakl. 510 egz.