Pierwszenstwo: Opublikowano: 30. Xl. 1964 48628 KI 42 b, 26/01 MKP wfej/ei.UKD 7 Wspóltwórcy wynalazku: iinz. Antoni Kasper, Wlodzimierz Plewik Wlasciciel patentu: Krasnicka Fabryka Wyrobów Metalowych irn. Mariana Buczka, Krasnik Fabryczny (Polska) Uklad elektroniczny do pomiaru srednicy i owalnosci oraz selekcji przedmiotów cylindrycznych zwlaszcza pierscieni lozysk tocznych Przedmiotem wynalazku jest uklad dx jedno¬ czesnego pomiaru srednicy i owalnosci oraz se¬ lekcji przedmiotów cylindrycznych zwlaszcza pierscieni lozysk tocznych. Zmierzone przedmio¬ ty sa selekcjonowane automatycznie na 3 grupy: 5 „dobre", „zle" i do „poprawy", przy zachowaniu zdolnosci rozdzielczej okolo 1 mikrona.Dotychczas znane uklady do tego celu nie po¬ zwalaja na jednoczesny pomiar srednicy i owal¬ nosci, co powoduje koniecznosc oddzielnego mie- io rzenia kazdego z tych parametrów.Opisywane urzadzenie elektroniczne obejmuje: dwa niezalezne czujniki C4 i C2 umieszczone wzgledem przedmiotu badanego „O" w* dwu przekrojach wzdluznych usytuowanych wzgledem 15 siebie prostopadle, sluzace do wytworzenia na¬ piec sterujacych, które po- wzmocnieniu w dwTu niezaleznych torach wzmacniaczy Wi i W2, oraz po poddaniu jednoczesnemu dzialaniu operacyj¬ nemu w czlonie sumujacym S, oraz czlonie róz- 20 nicujacym R, steruja ukladaimi spustowymi Pif P2 oraz P3, które w rezultacie koóocwym powo¬ duja skierowanie zmierzonego przedmiotu od¬ powiednio do jednej z trzech grup selekcyjnych.Wszystkie podzespoly zasilane sa ze stabilizowa- 25 nego elektronowo zasilacza Zc. Uklad jest opisa¬ ny ponizej z powolaniem sie na rysunek, na któ¬ rym fig. 1 oznacza schemat ideowy czujnika elek- taxniczneigo, fig. 2 uklad blokowy (poszczególnych czlonów w kolejnosci funkcjonalnej ich dzialania, 30 fiig. 3 szczególowy elektroniczny uklad ideowy calego urzadzenia nie zawezajac przy tym zakre¬ su wynalazku.Kazdy z obu niezaleznych czujników Ci i C2 posiada generator z którego napiecie zmienne o czestotliwosci okolo 0,5 MHz zasila galez dzielni¬ ka pojemnosciowego, skladajaca sie ze stalej po¬ jemnosci Cs, oraz ze zmieniajacej sie w funkcji odleglosci plytek kondensatora pojemnosci czuj¬ nikowej Cx. Spadek napiecia zmiennego z galezi pojemnosciowej C4 przykladany jest na przeciw- scxbny uklad detekcyjny pracujacy na dwu 'dio¬ dach Lt i L2. Otrzymana z tego ukladu wielkosc skladowej stalej napiecia, proporcjonalna do srednicy przedmiotu badanego, zasila czlon wzmacniacza pradu stalego Wi z czujnika Cif oraz wzmacniacz W2 z czujnika C2; w ten sposób wzmocnione napiecia z obu wzmacniaczy. Wi i W2 przykladane sa jednoczesnie na czlon opera¬ cyjny sumujacy S, z którego otrzymuje sie na¬ piecie proporcjonalne do sredniej srednicy, oraz na czlon operacyjny róznicujacy \R, z którego otrzymuje sie wielkosc napiecia proporcjonalna do róznicy napiec z obu wzmacniaczy, co w przy¬ padku opisywanym odpowiada owalnosci przed¬ miotu.Napieciem otrzymanym z czlonu operacyjnego róznicujacego R sterowany jest uklad spustowy P3, który dziala po przekroczeniu ustalonej tole¬ rancji owalnosci. Napieciem otrzymanym z czlo- 4862848 628 nu operacyjnego sumujacego S sterowane sa dwa uklady spustowe Pi i P2, które dzialaja po przekroczeniu ustalonej tolerancji srednicy. PLPriority: Published: 30. Xl. 1964 48628 KI 42 b, 26/01 MKP interface / e.UKD 7 Inventors of the invention: iinz. Antoni Kasper, Wlodzimierz Plewik Patent owner: Krasnicka Fabryka Wyrobów Metalowych irn. Mariana Buczka, Krasnik Fabryczny (Poland) Electronic system for measuring diameter and ovalness and selection of cylindrical objects, especially rolling bearing rings. The subject of the invention is a system for simultaneous measurement of diameter and ovalness and selection of cylindrical objects, especially rolling bearing rings. Measured objects are automatically selected into 3 groups: 5 "good", "bad" and "improvement", while maintaining a resolution of about 1 micron. So far known systems for this purpose do not allow simultaneous measurement of the diameter and the oval. Each of these parameters needs to be measured separately. The electronic device described includes: two independent sensors C4 and C2 positioned with respect to the test object "O" in two longitudinal sections situated perpendicular to each other, used to produce the furnace control units, which, when amplified in the two independent paths of the amplifiers Wi and W2, and after being subjected to a simultaneous operation in the summing member S, and the differential member R, control the trigger circuits Pif P2 and P3, which as a result of the final result the measured object is directed to one of the three selection groups. All components are powered by an electron-stabilized power supply. but Zc. The system is described below with reference to the drawing, in which Fig. 1 denotes a schematic diagram of an electrical sensor, Fig. 2 a block layout (individual components in the functional order of their operation, 30 Fig. 3 detailed electronic circuit diagram of the whole of the device without limiting the scope of the invention. Each of the two independent sensors Ci and C2 has a generator from which an alternating voltage with a frequency of about 0.5 MHz feeds the capacitive divider consisting of a constant capacity Cs, and a variable as a function of the distance between the capacitor plates of the sensor capacitance Cx. The drop in the alternating voltage from the capacitive branch C4 is applied to a counter-scatter detection system working on two diodes Lt and L2. The value of the constant voltage component obtained from this system, proportional to the diameter of the tested object, it supplies the DC amplifier element Wi from the Cif sensor and the W2 amplifier from the C2 sensor; thus, the from both amplifiers. Wi and W2 are applied simultaneously to the summation operational element S, from which the voltage proportional to the mean diameter is obtained, and to the differential operational element R, from which the voltage proportional to the voltage difference from both amplifiers is obtained, which in In the described case it corresponds to the ovality of the object. The voltage received from the operating differential R is controlled by the trigger system P3, which operates after exceeding the predetermined tolerance of the ovality. The voltage received from the summing operating nun S 4862848 628 is controlled by two trigger systems Pi and P2, which operate after exceeding the set diameter tolerance. PL