PL45148B1 - - Google Patents

Description

A Opubl jy $ **£**< dnia 20 grudnia 1961 r. j^S»^i POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 45148 KI. 42 h, 17/06 Jan Wysoczynski Gdansk, Polska Absorbcyjno-refleksyjny mostek fotoelektryczny dla badania przezroczystosci gazów i cieczy Patent trwa od dnia 11 marca 1961 r.Przedmiotem wynalazku jest fotoelektryczny uklad dla badania przezroczystosci gazów i cie¬ czy.. Ciagla analiza stopnia przezroczystosci gazów i cieczy posiada zasadnicze znaczenie zarówno dla wielu procesów przemyslowych, gdzie prze¬ zroczystosc osrodka ma bezposredni wplyw na procesy technologiczne jak i dla badania zjawisk w których przezroczystosc — jako czynnik po¬ sredni — moze byc zródlem waznych informacji.Analiza tej przezroczystosci jest dokonywana na drodze fotometrycznej, gdzie stopien pochla¬ niania kontrolnego strumienia swietlnego prze¬ chodzacego przez warstwe badanego medium jest miara jego przezroczystosci. Istnieja rózne uklady fotoelektryczne i fotometryczne, sluzace do badania przezroczystosci cial plynnych i ga¬ zowych.Absorbcyjno-refleksyjny mostek fotoelektrycz¬ ny wedlug wynalazku, którego schemat przed¬ stawiony jest na rysunku (fig. 1), sluzy do do¬ kladnego, ciaglego badania przezroczystosci ga¬ zów i cieczy, a odznacza sie szczególnie duza czuloscia przy pomiarach malych zmetnien, t. j. duzych przezroczystosci.Fig. 2 i 3 przedstawiaja geometryczne roz¬ mieszczenie fotokomórek wzgledem zródla swia¬ tla oraz bieg promieni swietlnych w stanie rów¬ nowagi mostka, tj. przy idealnej przezroczystosci badanego medium {fig. 2) i przy pewnym stop¬ niu jego metnosci (fig. 3).Fig. 4 przedstawia graficzna analize zjawisk, zachodzacych w mostku. Mostek sklada sie z trzech komórek fotoelektrycznych 1, 2 i 3 oraz stalego oporu 4. Calosc polaczona jest ze soba i zasilana napieciem Usy Komórki fotoelektrycz¬ ne 1 i 3 sa oswietlone w sposób staly strumie¬ niem swietlnym zarówki 5.Przestrzenne rozmieszczenie fotokomórek i lampy przedstawione jest na fig. 2 rysunku.Wszystkie fotokomórki posiadaja oslony zapo¬ biegajace bocznemu ich oswietleniu. Badane medium — gaz lub ciecz — znajduje sie w prze¬ strzeni miedzy lampa 5, a fotokomórka 1.Fotokomórka 3 jest utóii^szczona^w ten sposób, ze przy stanie idealnej przezroczystosci bada¬ nego osrodka jej oswietlenie jesj równe oswie¬ tleniu fotokomórki 1, gdyz strumien swietlny 6 jest równy strumieniowi 7. Fotokomórka 2 w tym stanie nie jest oswietlona. Jest to stan rów¬ nowagi mostka, bowiem opornosci lóiófcomseek 1 i 3 sa soiftie równe, a opornik 4 jest tek do¬ brany, by jego opornosc równala sie opornosci nieoswietlonej fofokomórki 2. Róznica potencja¬ lów miedzy punktami A i B mostka wynosi wtedy 0.Krzywa opornosci JA =*= t (U) fotokomórki 1 oswietlonej strumieniem 6 : fit (0 6) jest iden¬ tyczna z krzywa fotokomórka 3 oswietlanej stru¬ mieniem 7 : R3 (07 = 06), wiec spadki napiec na nich sa sobie równe i wynosza polowe na¬ piecia Us. Równiez spadek napiecia na oporniku 4 jest równy spadkowi na nieoswietlonej foto¬ komórce 2 : R2 (0 = 0) i wynosi równiez polowe napiecia Us. Stad punkty A IB posiadaja iden¬ tyczne potencjaly.Jesli teraz przezroczystosc badanego osrodka 10 ulegnie pogorszeniu, wówczas — jak to jest uwidocznione na fig. 3 — strumien swietlny 7 oswietlajacy fotokomórke 3 nie ulegnie zmianie, lecz strumien 6 zostanie czesciowo pochloniety i dotrze do fotokomórki 1 jako zmniejszony strumien 8, powodujac wzrost jej opornosci. Na¬ tomiast czesc rozproszonego strumienia 6 zosta¬ nie odbita od czasteczek powodujacych zmetnie¬ nie osrodka 10 i jako strumien 9 dotrze do foto¬ komórki 2, powodujac zmniejszenie jej oporno¬ sci (fig. 4).Krzywe opornosci J = f(U) fotokomórki 3 : R3 (07 = 06) oraz opornika 4 : R4 nie ulegly zmia¬ nie. Natomiast zmianie ulegly krzywe fotoko¬ mórki 1 : Rx (08) i fotokomórki 2 : Rj (09) w zwiazku ze zmiana ich oswietlenia.Przy niezmiennym napieciu zasilania mostka Us — w galezi A napiecie na fotokomórce 1 waroslo o AU a , zas napiecie na fotokomórce 3 zmalalo o AUA , natomiast w galezi B napie¬ cie na fotokomórce 2 zmalalo o AU B , zas na¬ piecie na oporniku 4 wzroslo o AU B, stad mie¬ dzy puniktajmi A i B pojawi sie róznica poten¬ cjalów AUAB=AUA +AUB, bedaca miara stopnia przejrzystosci wzglednie metnosci ba¬ danego medium.Zastosowane w mostku tym powiazanie foto¬ komórek 1 i 2 podnosi wielokrotnie czulosc ukladu. W ukladzie tym ' fotokomórka 1 jest specjalnie uczulona na zmetnienia spowodowac ne zawiesinami barwy ciemnej, zas fotokomór¬ ka 2 na zmetnienia jasne, odbijajace strumien swietlny. Fotokomórka 3 kompensuje ewentual¬ ne zmiany natezenia strumienia swietlnego. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Absorbcyjno-refleksyjny mostek fotoelek- tryczny dla badania przezroczystosci gazów i cieczy, znamienny tym, ze zawiera dwie fotokomórki (1 i 2), które wytwarzaja w mo¬ stku, TÓanace f^rtenejalów AUAB = AUA _|_ + AUB 9 bedaca wynikiem zarówno zjawis¬ ka pochlaniania jak i odbicia strumienia swietlnego (6) 'przez czasteczki (10) powodu¬ jace zmetnienie badanego medium.. %. Absoribcyjno^refkksyjiny mostek fotóeletetay- czny wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze za^ wiera trzecia fotokomórke (3), która sluzy do kompensacji zaklócajacego wplyw ewen¬ tualnego wahania strumienia swiatla. Jan Wysoczynski% Do opisu patentowego nr. 49148 C4^ Fig? 0,. ' „01 3 g^^.^ , ys} fazOBBzB,' u ,"» r * '^^ "^ r.i |J' _ Ut ¦ J «»ii! • 0 -jJliL , 1814. RSW „Prasa", Kielce f9.4 PL