Opublikowano dnia 17 listopada 1960 r. # 5^ ^•si^. O POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 43926 Wytiuórnie Wyrobóiu Gumowych*) Spóldzielni Imualidóiu ir Wairrze Warszawa-Wawer, Polska KI. 61 a, 29/10 Pólmaska pylochlonna gabczasta Patent dodatkowy do patentu nr 38828 Patent trwa od dnia 28 kwietnia 1960 r.Znane dotychczas pólmaski, np. wedlug pa¬ tentu nr 38828, wykonane z gumy piankowej, posiadaly zbyt mala pyloszczelnosc. Pólmaski ta¬ kie zatrzymywaly tylko okolo 70% pylów o sred¬ nicy okolo 0,5^ . Posiadaly one na swojej po¬ wierzchni dosc duze pory otwarte, wskutek cze¬ go oczyszczanie ich bylo utrudnione. Poza tym pólmaski, wykonane bez dodatkowych srodków uszczelniajacych, nie przylegaly szczelnie do twarzy.Wedlug wynalazku unika sie wymienionych wad przez takie wykonanie pólmaski, aby na swojej powierzchni byly pokryte mikroporowatym na¬ skórkiem, a zwiekszenie szczelnosci osiaga sie przez umocowanie w materiale pólmaski miek¬ kiego dnitu aluminiowego.Pólmaska wedlug wynalazku jest uwidocznio¬ na na rysunku. Fig. 1 przedstawia pólmaske *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórca wynalazku jest Kazimierz Rutkowski. w widoku z boku, a fig. 2 — w widoku z góry.Pólmaska jest wykonana jako jednolity odlew z gumy piankowej o jednakowej grubosci war¬ stwy filtracyjnej 1. W celu zapewnienia dobrego przylegania pólmaski do twarzy, zwlaszcza w okolicy nosa, wewnatrz warstwy 1 jest osa¬ dzony miekki drut aluminiowy 2 na czesci ob¬ wodu pólmaski przylegajacej do nosa uzytkow¬ nika. Przez odpowiednie wygiecie tego drutu mozna nadac pólmasce ksztalt dostosowany do ksztaltu twarzy uzytkownika. Czasza 3 pólmaski jest pokryta po obu stronach mikroporowatym naskórkiem 4, dzieki czemu osiaga sie pyloszczel¬ nosc okolo 90%. Tak wykonana pólmaska pra¬ we calkowicie zatrzymuje pyly, a przepuszcza powietrze. Do jej umocowania sluza paski gu¬ mowe 5, zamocowane na zatrzaski 6. Konce pasków sa polaczone klamerka przesuwna. Pas¬ ki sa wykonane z gumy lateksowej metoda ma¬ czania. PLPublished November 17, 1960. # 5 ^ ^ • si ^. ON THE POLISH PEOPLE'S REPUBLIC PATENT DESCRIPTION No. 43926 Wytiuórnie Wyrobóiu Gumowych *) Spóldzielnia Imualidóiu ir Wairrze Warszawa-Wawer, Poland KI. 61 a, 29/10 Sponge dust mask. Additional patent to patent No. 38828 The patent has been in force since April 28, 1960. The half-masks known so far, for example, according to patent No. 38828, made of foam rubber, had too little dust-tightness. These half-masks retained only about 70% of dusts with a diameter of about 0.5 µ. They had quite large open pores on their surface, which made cleaning them difficult. In addition, the half-masks, made without additional sealing agents, did not adhere tightly to the face. According to the invention, the above-mentioned disadvantages are avoided by making the half-mask on its surface covered with a microporous skin, and increasing the tightness is achieved by attaching a soft half-mask to the material. The half-mask of the invention is shown in the drawing. Fig. 1 shows a half-mask *) The owner of the patent stated that the inventor is Kazimierz Rutkowski. in side view, and Fig. 2 in top view. The half mask is made of a single foam rubber molding with the same thickness of the filter layer 1. In order to ensure good adhesion of the mask to the face, especially around the nose, inside layer 1 a soft aluminum wire 2 is seated on a portion of the perimeter of the half mask adjacent to the user's nose. By appropriately bending this wire, the half-mask can be shaped to suit the shape of the user's face. The hood 3 of the half-mask is covered on both sides with a microporous skin 4, so that a dust tightness of about 90% is achieved. A half-mask made in this way completely retains dust and is breathable. To fasten it there are rubber strips 5 fastened with snaps 6. The ends of the straps are connected by a sliding buckle. The strips are made of latex rubber by the soaking method. PL