PL43488B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL43488B1
PL43488B1 PL43488A PL4348859A PL43488B1 PL 43488 B1 PL43488 B1 PL 43488B1 PL 43488 A PL43488 A PL 43488A PL 4348859 A PL4348859 A PL 4348859A PL 43488 B1 PL43488 B1 PL 43488B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
titanium
vacuum
high vacuum
ion
electrode
Prior art date
Application number
PL43488A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL43488B1 publication Critical patent/PL43488B1/pl

Links

Description

^v *!£!% IfaiBLiferEKAj J» Urzedu Petent I jk JtWifefejjzeczjrr^^itRj owego! ,«.POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 43488 El. 21 %, 13/30 Przeragsloujg Instptrrt Elektroniki-) Warsaawa, Polaka Sposób wytwarzania bar Immp eiektroitowycli m wysokiej prAini zwla urzadzenie jon sposobu Patent trwa od dnia 29 grudnia 1959 r. do~col6w produkcji do s*oo**vnta Praedimiotem niniejszego wynalazku jest spo- -sób wytwarzania bandzo wysokiej prózni, rae- du 10-& mm Hg, zwlaszcza w celach produkoji lamp elektronowych, oraz urzadzenie jonowo- tytanowe do stosowania tego sposobu.Dotychczas znane sposoby wytwarzania wy¬ sokiej prózni polegaja na zastosowaniu ukla¬ dów prózniowych, zlozonych z pomp próznio¬ wych, rotacyjnych, wytwarzajacych próznie wstepna rzedu 10-3 mm Hg oraz pomp dyfuzyj¬ nych, wytwarzajacych próznie rzedu 10-7 mm Hg .. Wada tych ukladów jesit powstawanie stru¬ mienia wstecznego w pampie dyfuzyjnej, wsku¬ tek czego próznia otrzymywana tym sposobem nie moze przekroczyc 10;7 mm Hg, a ponadto przenikanie czasteczek czynnika pompujacego (aajcaescaej oleje organiczne) do wnetrza od- * Wlafescifil patentu oswiadczyl, ze wspot- twifanimi wynalaritu sa Wenancjuaz Czarycki i Ca«b*w Kiiliszek. pompowywanej lampy elektronowei które po¬ woduje zaklócenia w pracy lampy.Wytwarzanie bardzo wysokiej prózni, ale naj¬ wyzej rzedu 10-8 mm Hg, uzyskiwane bylo* do¬ tychczas przez wprowadzanie do odpompowy¬ wanej lampy elektronowej: banu, cyrkonu lub innych metali sorbcyjnych, pochlaniajacych czesc pozostalych i wydzielajacych sie w lam¬ pie gazów.Znane sa takze sposoby wytwarzania bartfae- wysokiej prózni w ukladach prótiajowych graez obnizanie temperatury caesoi ukladu do tem¬ peratury bliskiej Bera bezwzglednego, w kttoej nastepuje zestalenie garów, wydaifiteiyyclt ma w ukladzie. Sposób ten: wiaze jdc jednak m ko¬ niecznoscia instalowania nieziwykde kosztewns&ek urzadzen oraz rówme k&utomma, ick eksploa¬ tacja i stosowanie go me jetó rknrawnirTiLf.Wsayrfteie powyiRie wady uaunea spoatitr wy- twariEaflua benteo wysokiej pcóini wUflug wy-gazów przez warstwe tytanu, oraz doprawadlaa- niu czasteczek gaizow do tej warstwy pnzez Ach jonizacje, dzieki czemu mozliwe jest uzyskanie bardzo wysokiej prózmi, rzedu 10-» mm Hg, bez zanieczyszczen parami olejów organicznych, a koszty zwiazane zarówno z instalacja (urza¬ dzen, jak i ich eksploatacja sa znacznie nizsze w stosunku do innych, znanych sposobów.Sposób wedlug wynalazku zilustrowany jest, w przykladowych rozwiazaniach ukladów próz¬ niowych, na rysunku, na którym fig. 1 psrtzed- stawia schemat urzadzenia jonowo-tytanowe- go do stosowania tego sposobu, fig. 2 — prze¬ krój poprzeczny urzadzenia, flUg. 3 — zastctso- wanie urzadzenia jonowo-Jtytanowego do od¬ pompowywania niewielkich lamp prózniowych, fig. 4 — zastosowanie urzadzenia jonowo-tyta¬ nowego, jako stalego elementu, przy ilampie prózniowej duzej mocy, na przyklad magnetro- nie, a fig. 5 — uklad zlozony z pompy rotacyj¬ nej, olejowej pompy dyfuzyjnej oraz urzadze¬ nia jonowo-tytanowego, w zastosowaniu do se¬ ryjnej produkcji lamp prózniowych.Istota sposobu wytwarzania bardzo wysokiej prózni wedlug wynalazku polega na wykorzy¬ staniu wlasnosci sorbcyjnych napylonej war¬ stwy tytanu oraz doprowadzaniu do tej war¬ stwy zjonizowanych czasteczek gazu przez na¬ danie jej ujemnego potencjalu elektrycznego.Schemat urzadzenia do stosowania sposobu we¬ dlug wynalazku przedstawiony jest na fig. 1 i 2.Urzadzenie ito sklada sie z Obudowy 1, we¬ wnatrz której znajduje sie wolframowa katoda 2 oraz otaczajaca ja metalowa siatka 3, pokry¬ ta kataforetycznie tytanem. W przypadku, gdy obudowa 1 wykonana jest ze szkla, wewnetrz¬ na jej powierzchnia pokryta jest na przyklad przez napylenie termiczne cienka warstwa sre¬ bra 4, stanowiaca kolektor jonów i polaczona ze zródlem napiecia za posrednictwemmolib¬ denowego przepustu 8. W przypadku obudowy metalowej kolektor jonów stanowi wewnetrz¬ na powienzchnia obudowy. W srodkowej swej czesci obudowa 1 posiada podwójne scianki, tworzace w przestrzeni miedzyscianfcowej chlod¬ nice wodna 5. Elektrody molibdenowe 7, lacza¬ ce siatke i katode wolframowa ze zródlem pra¬ du, sa zapawane w cokole 6 urzadzenia. W gór¬ nej czesci urzadzenia znajduje sie wlot 9, la¬ czacy je z ukladem prózniowym.Dzialanie urzadzenia przedstawione na fig. 1 i 2 jest nastepujace: wlot 9 urzadzenia polaczo¬ ny zostaje z ukladem prózniowym, na przyklad lampa prózniowa, w której wytworzono juz wstepne podcisnienie rzedu 10-5 mm Hg, a jego elektrody 7 i 8 — z zasilaczem 10.Napiecie zasilania siatki 3 wynosi kilka ty¬ siecy woltów, napiecie zasilania katody 2 — kil¬ kadziesiat woltów, a kolektora 4 jonów — kil¬ kaset woltów.Pod wplywem przeplywu pradu nastepuje rozgrzanie katody, która emituje wokie elek¬ trony, przyciagane przez siatke 3, posiadajaca dodatni potencjal. Pod wplywem bombardowa¬ nia elektronami siatka 3 ogrzewa sie powodu¬ jac parowanie tytanu, który osadza sie na po¬ wierzchni elektrody 4. Elektrony, emitowane przez katode 1, napotykajac na swojej drodze czasteczki gazu jonizuja je, przy czym dodatnie jony gazu przyciagane sa przez naladowana ujemnie elektrode 4 i pochlaniane pnzez znajdu¬ jaca sie na niej warstwe tytanu. Warstwa ty¬ tanu pokrywajaca elektrode 4 chlodzona jest plaszczem wodnym i odnawiana w czasie pra¬ cy urzadzenia przez ciagle parowanie tytanu siatki 3.Fig. 3 przedstawia zastosowanie urzadzenia jonowo-tytanowego 11, wedlug wynalazku do wy¬ twarzania bardzo wysokiej prózni, w polaczo¬ nej z nim bezposrednio lampie prózniowej 20.Po dokonanym odpompowaniu lampe próznio¬ wa 10 odcina sie i równoczesnie zapawa ogrze¬ wajac miejsce zwezenia 21 — do temperatury topnienia szkla.Fig. 4 przedstawia zastosowanie urzadzenia, wedlug wynalazku, jako stalego elementu lam¬ py prózniowej wielkiej mocy, na przyklad ma- gnetronu 12. Urzadzenie jonowo-tytanowe 11 po¬ laczone z lampa 12 przewodem 13 umozliwia okresowe ilub ciaglle odpompowywanie wydzie¬ lajacych sie w lampie gazów.Fig. 5 przedstawia zastosowanie urzadzenia wedlug wynalazku do odpompowywania lamp prózniowych w warunkach produkcji seryjnej.W tym przypadku urzadzenie zainstalowane jest jako element ukladu prózniowego na prze¬ wodzie 14, laczacym odpompowywane lampy 20 z pompa dyfuzyjna 151 która moze byc odcieta od przewodu za pomoca zaworu 16. Dalsza czesc ukladu stanowi pompa rotacyjna 17, polaczona z pompa dyfuzyjna przewodem 18 przez zawór 19. Proces wytwarzania bardzo wysokiej prózni w ukladzie na fig. 5 obejmuje kolejno nastepu¬ jace operacje: wytworzenie wstepnego podctLs- nienia, przy uzyciu pompy rotacyjnej 17. wy¬ tworzenie wysokiej prózni za pomoca pompy dyfuzyjnej 15, przy równoczesnym ogrzewaniu lampy 20 i urzadzenia jonowo-tytanowego 11 W piecu elektrycznym, oraz wytworzenie bardzo wysokiej prózni sposobem wedlug wynalazku -2za pomoca urzadzenia jonowo-tytanowego 11 przy zamknietym zaworze 16.Sposób wytwarzania bardzo wysokiej prózni, wedlug wynalazku, moze znalezc zastosowanie do celów produkcji lamp prózniowych, a po¬ nadto w procesach laboratoryjnych i innych za¬ stosowaniach przemyslowych. PL

Claims (4)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania bardzo wysokiej próz¬ ni po uzyskaniu wysokiej prózni za pomoca pompy dyfuzyjnej lufo Innym sposobem, zwlaszcza do celów produkcji lamp elektro¬ nowych, znamienny tym, ze sorbcje zjoni- zowanych gazów, w ukladzie prózniowym, prowadzi sie za pomoca warstwy tytanu na¬ pylonego na elektrode, stanowiaca kolektor jonów.
  2. 2. Urzadzenie jonowo-tytanowe do stosowania sposobu wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze sklada sie z obudowy (1), której powierz¬ chnia wewnetrzna stanowi elektrode (4), na przyklad w postaci warstwy srebra, polaczona z zasilaczem — przepustem (8) oraz znajdu¬ jacej sie wewnatrz nliej katody (2), na przy¬ klad z wolframu, otoczonej metalowa sia¬ teczka (3) pokryta katatforetycznie tytanem.
  3. 3. Urzadzenie wedlug zastrz, 2, znamienne tym, ze jego obudowa (1) zaopatrzona jest w pod¬ wójne solanki, wewnatrz których przeply¬ wa woda, tworzac chlodnice (5).
  4. 4. Urzadzenie wedlug zastrz, 2 i 3, znamien¬ ne tym, ze polaczone jest przewodem (13) z lampa elektronowa wysokiej mocy, na przyklad magnetronem i stanowi jej staly element umozliwiajac ciagle lub okresowe pochlanianie wydzielajacych sie w lampie gazów. Przemyslowy Instytut Elektroniki Zastepca: inz. Zbigniew Kaminski rzecznik patentowy W IDo Giplsu patentowego nr 43488 P.W.H. wzór Jednotaz. zarn. PL/Ke, Czst. *arrt nfis 9,6. 5. 60. 100 egz. Al pism. ki, 3* ^flUOTEK, |Urzedu PoterHowegój PL
PL43488A 1959-12-29 PL43488B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL43488B1 true PL43488B1 (pl) 1960-06-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2796555A (en) High-vacuum pump
CN109979794B (zh) 一种射频感应耦合等离子体中和器
CN104411083B (zh) 一种产生连续低温大截面大气压等离子体羽的装置及方法
CN104505325A (zh) 一种高电压气体放电电子枪装置
JP2008518759A (ja) 光触媒プロセス
Ben Hamida et al. Three dimensional dynamic study of a metal halide thallium iodine discharge plasma powered by a sinusoidal and square signal
CN103474318A (zh) 溅射离子枪
US3296115A (en) Sputtering of metals wherein gas flow is confined to increase the purity of deposition
CN108601193B (zh) 一种长尺度均匀热等离子体弧产生方法及装置
CN110137056B (zh) 悬浮加热式电子源组件
PL43488B1 (pl)
US4246434A (en) Work support for vacuum electric furnaces
US3464907A (en) Triode sputtering apparatus and method using synchronized pulsating current
RU87065U1 (ru) Устройство для создания однородной газоразрядной плазмы в технологических вакуумных камерах больших объемов
CN108878249A (zh) 一种脉冲潘宁放电等离子体发生装置
RU2215383C1 (ru) Плазменный электронный источник
US2404953A (en) Electric discharge lamp
SU1361640A1 (ru) Высоковольтный вакуумный ввод дл установки ионного азотировани
RU2553745C2 (ru) Установка для наводораживания тонкопленочных композитов в водородной плазме и способ наводораживания тонкопленочных композитов в водородной плазме с ее помощью
KR100698591B1 (ko) 토우치 어셈블리 및 이를 이용한 형광램프 제조장치
CN105977116A (zh) 一种长杆状可伸缩旋转型离子源
RU2542211C2 (ru) Установка для обработки нанокомпозитов в водородной плазме
RU2560898C2 (ru) Установка для обработки нанокомпозитов в водородной плазме
CN205564699U (zh) 真空高温定型设备
CN102923321B (zh) 一种真空中采用热电子发射制造带电污染物的装置及方法