Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Metali Nieżelaznych W GliwicachfiledCriticalInstytut Metali Nieżelaznych W Gliwicach
Priority to PL420017ApriorityCriticalpatent/PL238741B1/pl
Publication of PL420017A1publicationCriticalpatent/PL420017A1/pl
Publication of PL238741B1publicationCriticalpatent/PL238741B1/pl
Mounting, Exchange, And Manufacturing Of Dies
(AREA)
Length Measuring Devices By Optical Means
(AREA)
Abstract
Przedmiotem zgłoszenia jest matryca płaska oraz sposób jej wykrywania. Matryca płaska charakteryzuje się tym, że za paskiem kalibrującym posiada odpuszczenie kątowe (3), a kąt ? pomiędzy płaszczyzną paska kalibrującego, a płaszczyzną odpuszczenia wynosi 3 ÷ 10°.
PL420017A2016-12-232016-12-23Matryca płaska oraz sposób jej wykrawania
PL238741B1
(pl)
Sistema de análisis voltamétrico, método para análisis voltamétrico y producto de programa informático para usar con el sistema de análisis voltamétrico