PL41964B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL41964B1 PL41964B1 PL41964A PL4196457A PL41964B1 PL 41964 B1 PL41964 B1 PL 41964B1 PL 41964 A PL41964 A PL 41964A PL 4196457 A PL4196457 A PL 4196457A PL 41964 B1 PL41964 B1 PL 41964B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- nitric acid
- dimethylaniline
- solution
- tetryl
- chloroform
- Prior art date
Links
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 18
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- AGUIVNYEYSCPNI-UHFFFAOYSA-N N-methyl-N-picrylnitramine Chemical group [O-][N+](=O)N(C)C1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O AGUIVNYEYSCPNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000802 nitrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- -1 aromatic nitroamines Chemical class 0.000 claims 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N Karpoxanthin Natural products CC(=C/C=C/C=C(C)/C=C/C=C(C)/C=C/C1(O)C(C)(C)CC(O)CC1(C)O)C=CC=C(/C)C=CC2=C(C)CC(O)CC2(C)C DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
Description
RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 41964 Skarb Panstiua (Ministerstwo Obrany Narodoiuej *) Warszawa, Polska KL % ^G 9/0O Sposób otrzywywania letrylu i innych podobnych nilroamin aromatycznych Patent trwa od dnia 11 grudnia 1957 r.Wynalazek dotyczy sposobu otrzymywania tetrylu i podobnych materialów wybuchowych, nalezacych do grupy nltroamin z pierscieniem aromatycznym.Dotychczas znana i stosowana metoda otrzy¬ mywania tetrylu polega na tym, ze dwumety- loaniline rozpuszcza sie w kwasie siarkowym i wprowadza do mieszaniny nitrujacej sporza¬ dzonej z kwasu azotowego i siarkowego, uprzed¬ nio ogrzanej do temperatury okolo 68°C. W cza¬ sie reakcji nitrowania utrzymuje sie tempera¬ ture 68 — 72°C. Po zakonczeniu nitrowania, calosc oziebia sie. Nastepuje przy tym kry¬ stalizacja tetrylu z kwasu odpadkowego. Od¬ saczony tetryl przekrystaluzowuje sie dalej z rozpuszczalników organicznych, jak benzen, aceton z woda itp.*) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspól¬ twórcami " wynalazku sa Antoni Semenczuk i Tadeusz Urbanski.Metoda ta, szeroko stosowana w praktyce, posiada jednak szereg wad.Jedna z wad tej metody jest niezbyt wysoki stopien bezpieczenstwa, który zmusza do sto¬ sowania nitratorów o malej pojemnosci oraz do prowadzenia procesu systemem ciaglym, " Poza tym otrzymuje sie produkt o niezbyt wysokim stopniu czystosci, ze wzgledu na obec¬ nosc w mieszaninie nitrujacej kwasu siarko¬ wego. W zwiazku z tym konieczne jest dalsze oczyszczenie tetrylu przez krystalizacje. Po¬ nadto, w czasie ogrzewania tetrylu z miesza¬ nina kwasów, zawierajaca kwas siarkowy na¬ stepuje jego czesciowa denitracja polegajaca na odrywaniu sie grupy N-nitrowej.Wprawdzie nitrowanie dwumetyloaniliny moz¬ na prowadzic samym kwasem azotowym i otrzymuje sie wówczas produkt wysokiej czystosci, jednakze trzeba zwracac przy tym szczególna uwage na czynnik bezpieczenstwa i prowadzic nitrowanie w sposób stopniowany.zwiekszajac etapami stezenie kwasu i tempera¬ ture reakcji.Sposób wedlug wynalazku pozwala na otrzy¬ manie tetrylu przy zachowaniu bezpiecznych warunków pracy. Polega on na tym, ze nitro¬ wanie dwumetyloaniliny prowadzi sie samym kwasem azotowym w rozpuszczalniku nie reagu¬ jacym w temperaturze do 80°C z kwasem azo¬ towym, takim jak dwuchlorometan, chloroform, czterochlorek wegla, czterochloroctan, weglo¬ wodory alifatyczne.Wedlug wynalazku roztwór dwumetyloaniliny w rozpuszczalniku np. chloroformie lub cztero¬ chlorku wegla wprowadza sie do stezonego kwa¬ su azotowego rozcienczonego tym samym roz¬ puszczalnikiem, po czym calosc ogrzewa sie stopniowo az reakcja ustanie. Nalezy stoso¬ wac duzy nadmiar kwasu azotowego: ponad 10 czesci wagowych kwasu azotowego (d = 1,51) na 1 ^zesc yaSOwa dwumetyloaniliny. ,t Jezeli proces prowadzi sie w obecnosci roz- piiiszczaliBka latwo lotnego, wówczas rozpusz¬ czalnik t#n oddestylowuje w czasie reakcji, a tetryl wytraca sie przez rozcienczenie woda roztworu poreakcyjnego. W przypadku zastoso¬ wania rozpuszczalnika trudno lotnego, który nie rozpuszcza tetrylu po zakonczeniu reakcji nastepuje rozwarstwienie, przy czym warstwe rozpuszczalnika oddziela sie, a z warstwy za¬ bierajacej kwas azotowy i rozpuszczony w nim .'tetryl wytraca sie tetryl przez dodanie wody i ochlodzenie. W obydwu przypadkach odzys¬ kany rozpuszczalnik poddaje sie regeneracji.Sposób wedlug wynalazku gwarantuje duze bezpieczenstwo pracy, poza* tym pozwala na otrzymanie z wysoka wydajnoscia produktu czystego, nie wymagajacego rekrystalizacji.Przyklad I. Sporzadza sie 8°/o-owy roz¬ twór dwumetyloaniliny w chloroformie oraz 50%-owy roztwór kwasu azotowego (d = 1,51) w chloroformie.Do roztworu kwasu azotowego w chlorofor¬ mie wprowadza sie w temperaturze ponizej temperatury pokojowej, przy ciaglym mieszaniu, roztwór dwumetyloaniliny w chloroformie W takiej ilosci, aby na 1 czesc wagowa dwu¬ metyloaniliny przypadalo 12 czesci wagowych kwasu azotowego. Nastepnie calosc ostroznie podgrzewa sie do temperatury powyzej 30°C.W warunkach tych wydzielaja sie intensywnie tlenki azotu. Z chwila kiedy reakcja zaczyna przebiegac spokojnie, calosc ogrzewa sie do temperatury powyzej 60°C. W tym czasie za¬ chodzi calkowite donitrowanie produktu do tetrylu oraz oddestylowanie chloroformu. Pozo¬ staje roztwór tetrylu w kwasie azotowym.Rozcienczenie roztworu 5 czesciami wody, a nastepnie oziebienie jego powoduje krystali¬ zacje tetrylu o wysokiej czystosci (temperatura topnienia 129 — 130°C) z wydajnoscia 98°/o teo¬ retycznej.Przyklad II. Sporzadza sie 8°/ twór dwumetyloaniliny w czterochlorku wegla oraz 50°/o-owy roztwór kwasu azotowego (d = 1,51) w czterochlorku wegla.Do roztworu kwasu azotowego w czterochlor¬ ku wegla wprowadza sie przy ciaglym miesza¬ niu w temperaturze ponizej temperatury poko¬ jowej roztwór dwumetyloaniliny w czterochlor¬ ku wegla w takiej ilosci, aby na 1 czesc wa¬ gowa dwumetyloaniliny przypadalo 15 czesci wagowych kwasu azotowego. Nastepnie calosc podgrzewa sie ostroznie do temperatury po¬ wyzej 30°C. W tych warunkach zachodzi dosc energiczna reakcja, w czasie której wydzielaja sie tlenki azotu. Z chwila kiedy reakcja za¬ czyna przebiegac spokojnie, tworza sie trzy warstwy: dolna z czterochlorku wegla, srodko¬ wa z produktów reakcji dwumetyloaniliny z kwasem azotowym i górna z kwasu azotowe¬ go. Warstwe górna i srodkowa dekantuje sie i ogrzewa przez okolo 2 godziny do tempera¬ tury powyzej. 60°C. Nastepnie roztwór roz¬ ciencza sie 5 czesciami wody i nastepnie* ozie¬ bia, dzieki czemu nastepuje krystalizacja tetrylu (o temperaturze topnienia 129 — 130°C). PL
Claims (3)
1. Z a s t r ze zenia patent o w.e . 1. Sposób otrzymywania tetrylu i innych po¬ dobnych nitroamin aromatycznych, znamien¬ ny tym, ze dwumetyloaniline nitruje sie kwasem azotowym w obecnosci rozpuszczal¬ nika organicznego.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie rozpuszczalniki organiczne, któ¬ re nie reaguja z kwasem azotowym w tem¬ peraturze do 80°C. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 — 2, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie dwu¬ chlorometan, chloroform, czterochlorek we¬ gla, czterochloroctan, weglowodory alifatycz¬ ne. Skarb Panstwa (Ministerstwo Obrony Narodowej) Wzór jednoraz. CWD, zam. PL/Ke, Czest. z:m. C73 2 4. 3. 59. 100 egz. Al pism. ki.
3. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL41964B1 true PL41964B1 (pl) | 1959-04-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2362743A (en) | Manufacture of dinitrotoluene | |
| Nielsen et al. | Synthesis of polynitro compounds. Peroxydisulfuric acid oxidation of polynitroarylamines to polynitro aromatics | |
| PL41964B1 (pl) | ||
| US2856429A (en) | Process for the preparation of nitramines | |
| US2826611A (en) | Process for making ar-dinitro-phenylureas | |
| US2883435A (en) | Purification of 1,2-dichloro-4-nitrobenzene | |
| US2012985A (en) | Process for the nitration of aromatic hydrocarbons | |
| US2475095A (en) | Toluene nitration process | |
| Dann et al. | CXXXVIII.—The reactions of nitrosulphonyl chlorides. Part I. The reaction of hydrazine hydrate with o-nitrosulphonyl chlorides | |
| US3519693A (en) | Nitration process for phenolic compounds | |
| US20250206706A1 (en) | A method of producing explosive hmx by flow synethesis | |
| US2860162A (en) | Process of oxidation | |
| Jones et al. | 171. The effect of temperature on the proportions of isomers formed in the mononitration of toluene | |
| FR1118443A (fr) | Procédé de cristallisation de composés nitro-aromatiques dans l'acide nitrique | |
| US3873626A (en) | Purification of bis(2-fluoro-2,2-dinitroethyl)formal | |
| US3978118A (en) | Process for converting styrene or polystyrene to nitrobenzoic acids | |
| US2525252A (en) | Cyclo-trimethylenetrinitramine | |
| US3177247A (en) | Preparation of 4-acetamido-3-nitrobenzoic acid | |
| US3632610A (en) | Process for the production of 5-nitro-1 4-dihydroxy-anthraouinone | |
| US2875242A (en) | Process for the production of 1-nitronaphthalene-3, 6-and 3, 7-disulfonic acid | |
| US4260837A (en) | Recrystallization of hexsanitrostilbene from nitric acid and water | |
| US2999099A (en) | Trinitroethylsuccinic acid and derivatives thereof | |
| US3065277A (en) | Preparation of heteronuclear nitronaphthalenes and derivatives | |
| US2612523A (en) | Process for preparing pure wellcrystallized hexanitrodiphenylamine | |
| US3101379A (en) | Synthesis of hexanitroethane |