Opublikowano dnia 15 maj* 1938 r. ?*atp*/ S •f* ,;;.;'<•¦ fv''• '":'»:J-"h POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 41019 KL 42 h, 17/03 Warszawskie Zaklady Foto-Optyczne*) Warszawa, Polska Wskaznik ostrosci Patent trwa od dnia 22 marca 1957* r.Wskaznik ostrosci zastosowany w powiekszal¬ niku fotograficznym umozliwia latwe nastawia¬ nie ma ostrosc obrazu negatywu na maskownicy powiekszalnika.Na rysunku uwidoczniono czesci skladowe i caly wskaznik ostrosci, przy czym fig. 1 przed¬ stawia kawalek filmu ze szczelina, fig. 2 — przyslone szczeliny, fig. 3 — wskaznik w wido¬ ku z góry i fig. 4 — przekrój w plaszczyznie A —A na fig. 3.Zasada dzialania wskaznika ostrosci jest opi¬ sana ponizej.W plaszczyznie przedmiotowej obiektywu po- ' wiekszalnika znajduje sie kawalek filmu z was¬ ka szczelina 1, okolo 0,07 mm (fig. 1) oswietlo¬ na zródlem swiatla. Obraz tej szczeliny jest rzu¬ cony przez obiektyw na maskownice. Szczelina zakryta jest przyslona 2, znajdujaca sie w pew¬ nej od niej odleglosci g okolo 1,5 mm (fig. 4).Przyslona 2 zakrywa szczeline 1 w ten sposób, *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórca wy¬ nalazku jest Bohdan Rózycki. ze w górnej czesci zakryta jest jedna polowa szczeliny, a w dolnej czesci druga polowa szcze¬ liny. Przy wlasciwym nastawieniu ostrosci obra¬ zu wedlug -równania soczewki: 1 + 1 = - a ^ b f gdzie a oznacza odleglosc* przedmiotowa, b — odleglosc obrazowa, a / — ogniskowa obiekty¬ wu, obraz obu polówek szczeliny 1 rzucony na plyte maskownicy jest widoczny w postaci dwóch cienkich kresek lezacych na jednej linii. Przy niewlasciwym ustawieniu obrazu, obie polówki obrazu szczeliny 1 rozchodza sie w sposób wi¬ doczny (kazda polówka w inna strone), przy czym przy przejsciu plaszczyzny przedmiotu przez punkt dobrego nastawienia, kierunek roz¬ chodzenia sie poszczególnych polówek obrazów szczeliny 1 zmienia kierunek na odwrotny, co ogromnie ulatwia ostre nastawienie obrazu.Kawalek filmu ze szczelina 1 wraz z przyslona2 montuje sie jako jeden zespól na plytce 3 w odleglosci g jedna od drugiej. Precyzyjny mon¬ taz ulatwiaja znaki lokacyjne 4 w postaci krzy¬ zyków. Tak zmontowany wskaznik mocuje sie na lekko przesuwnych sankach, podsuwajacych go w plaszczyzne przedmiotowa obok filmu, tak aby czesc swiaitla przechodzila przez wskaznik rzutujac ebraz na maskownice.Zamiast montazu na .sankach, mozna wskaz¬ nik umiescic obok ramki negatywowej.Szczelina 1 moze byc umieszczona w plasz¬ czyznie, w której nastepnie umieszcza sie ne¬ gatyw, wzglednie poprzez odpowiedni uklad (pryzmat lub lustro) moze byc umieszczona w tej samej odleglosci od obiektywu co negatyw.W dotychczas istniejacych konstrukcjach tego rodzaju szczelina 1 i przyslona 2 byly wykonane z cienkich folii metalowych, w zwiazku z czym istnialy .powazne trudnosci w wykonaniu tak waskiej szczeliny i przyslony oraz ich wlasci¬ wym wzajemnym ustawieniu.Wedlug wynalazku zagadnienie to zostalo roz¬ wiazane przez wykonanie szczeliny 1 i przyslo¬ ny 2 droga fotograficzna na drobnoziarnistej re¬ produkcyjnej blonie lub kliszy. PLPublished on May 15 * 1938? * Atp * / S • f *, ;;.; '<• ¦ fv' '•' ": '»: J- "h POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ PEOPLEJ PATENT DESCRIPTION No. 41019 KL 42 h , 17/03 Warszawskie Zaklady Foto-Optyczne *) Warsaw, Poland Focus indicator Patent valid since March 22, 1957 *. The focus indicator used in the photographic magnifier enables easy adjustment of the negative image on the mask of the enlarger. the components and the entire focus indicator, Fig. 1 showing a piece of film with a slit, Fig. 2 - obstructed slits, Fig. 3 - pointer in the top view, and Fig. 4 - a section in plane A-A in Fig. 3 The principle of the focus indicator is described below. In the plane of the objective lens of the magnifier, there is a piece of film with a narrow aperture 1, approximately 0.07 mm (Fig. 1), illuminated by a light source. The image of this aperture is projected by the lens onto the grilles. The aperture is covered by the aperture 2, located at a distance g about 1.5 mm (Fig. 4). The aperture 2 covers the aperture 1 in this way, *) The owner of the patent stated that the inventor was Bohdan Rózycki . that one half of the slit is covered in the upper part and the other half of the slit in the lower part. With the correct focus of the image according to the lens equation: 1 + 1 = - a ^ bf where a is the object distance *, b - image distance, and / - the focal length of the lens, the image of both halves of the slit 1 projected on the masking plate is visible in the form of two thin lines lying on one line. If the image is positioned incorrectly, both halves of the image of the slit 1 diverge visibly (each half in a different direction), and when the object plane passes the point of good orientation, the direction of the individual halves of the slit 1 images changes the direction to the opposite. , which greatly facilitates sharp adjustment of the image. A piece of film from slot 1 together with aperture 2 is mounted as one unit on plate 3 at a distance of g from each other. Precise assembly is facilitated by location marks 4 in the form of crosses. The pointer assembled in this way is attached to a slightly sliding sled, pushing it into the object plane next to the film, so that a part of the light passes through the pointer projecting the rib onto the masking frames. Instead of mounting it on the sled, the pointer can be placed next to the negative frame. in the plane in which the negative is then placed, or by an appropriate arrangement (prism or mirror), it can be placed at the same distance from the lens as the negative. In the hitherto existing constructions, the aperture 1 and aperture 2 were made of thin metal foils, and therefore there were serious difficulties in making such a narrow aperture and aperture and their proper mutual alignment. According to the invention, this problem was solved by making the aperture 1 and aperture 2 photographic path on a fine-grained production area. sheet or film. PL