PL39828B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano dnia 10 czerwca 1957 r.Urzedu Patentowego PBlilieiBzeczyjwipilitBilirfWfli POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 39828 KI. 4fe*l, TSflTil Slaskie Zaklady Wytwórcze Aparatury Elektrycznej*) £&, ^ Przedsiebiorstwo Panstwowe j ' Bielsko-Biala, Polska Sposób bezwodorowego nakladania metalicznych powlok galwanicznych oraz urzqdzenie do wykonywania tego sposobu Patent trwa od dnia 22 pazdziernika 1955 r.Przy nakladaniu metalicznych powlok galwa¬ nicznych na czesci metalowe, a w szczególnosci na sprezyny stalowe, nastepuje do wnetrza materialu tworzacego katode dyfuzja miedzy- krystaliczna jonów wodorowych. Nawodornienie materialu powoduje jego kruchosc, a powolne wydzielanie sie wodoru wywoluje luszczenie na¬ lozonej powloki galwanicznej. Zjawisko nawo- dornienia szczególnie niekorzystnie uwydatnia sie przy nakladaniu powlok galwanicznych na sprezyny stalowe zwlaszcza wykonane z drutów p srednicy mniejszej od 2 mm. Nawodornienie sprezyn powoduje zmiane ich charakterystyki i kruchosc warstw zewnetrznych materialu.Usuwanie nawodornienia odbywalo sie dotych¬ czas przez obróbke cieplna, polegajaca na kilku¬ godzinnym wygrzewaniu pokrytych galwanicznie sprezyn przy dwóch zakresach temperatury, utrzymywanych w waskich granicach.*) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspóltwórcami wynalazku sa inz, mgr Franciszek Paszek i inz. mgr Zbigniew Woynarowski.Sposób wedlug wynalazku umozliwia nakla¬ danie powlok galwanicznych na czesci stalowe i inne, w szczególnosci na sprezyny stalowe, bez zjawiska nawodornienia.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze w trakcie nakladania powloki galwanicznej na czesc metalowa (np. powloki cynkowej w kapieli cjankalicznej na sprezyne stalowa) wprowadza sie okresowa zmiane biegunowosci (kierunku pradu) kapieli. Czas procesu nakladania powloki dzieli sie wówczas na czas osadzania (trwajacy np. 5 sekund), kiedy czesc pokrywana jest kato¬ da i czas zmywania (trwajacy np. 1 sekunde)- kiedy czesc pokrywana jest anoda. W czasie zmywania na pokrywanej czesci wydziela sie tlen, który wiaze wodór zawarty w przestrze¬ niach miedzykrystalicznych powloki i materia¬ lu pokrywanego. Równoczesnie zostaje usunieta zewnetrzna warstwa osadzonej powloki, a przede wszystkim jej nierównosci. Pozwala to na stoso¬ wanie w procesie pokrywania kilkakrotnie wiek¬ szych gestosci pradu niz ma to miejsce przyzwyklym sposobie pokrywania galwanicznego, tak, ze mimo wproWadzenia zmywania calkowity czas procesu ulega skróceniu.Urzadzenie do wykonywania sposobu wedlug wynalazku polega na zastosowaniu elektrycz¬ nego ukladu programowego sterowania biegu¬ nowoscia kapieli galwanicznej, utworzonego ze styczników i przekazników ogólnie dostepnych.Dzialanie ukladu jest nastepujace (fig. 1).Przekaznik programowy / jest zasilany z sieci 220 V pradu zmiennego przez wylacznik z bez¬ piecznikami 2. Przy pomocy krzywek obracanych silniczkiem M przekaznik na przemian zamyka laczniki la i Ib, które odpowiednio steruja stycz¬ niki programowe 3a i 3b. Czasy zamkniecia lacz¬ ników la i Ib oraz sterowanych nimi styczników 3b i 3a odpowiadaja przy tym przyjetym czasom osadzania i zmywania.Styczniki programowe 3a i 3b steruja z kolei styczniki kapieli galwanicznej 4a i 4b, dokonujac zmiany biegunowosci kapieli galwanicznej 7.W celu zapewnienia bezpieczenstwa obslugi zatrzymywanie i uruchamianie styczników ka¬ pieli 4a i 4b odbywa sie za posrednictwem stycz¬ nika 5 i przycisków 6a i 6b zasilanych napieciem bezpiecznym 48 V.Dla kazdej kapieli galwanicznej, która ma byc sterowana niezaleznie przy jednakowych czasach osadzania i zmywania, potrzebny jest osobny zespól sterowniczy, skladajacy sie ze styczników kapieli (jak 4a i 4b) oraz stycznika posrednicza¬ cego (jak 5) i przycisków (jak 6). Zespól progra¬ mowy pozostaje wspólny. PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób bezwodorowego nakladania metalicz¬ nych powlok galwanicznych, znamienny tym, ze przez caly czas procesu odbywa sie zmiana biegunowosci kapieli wedlug z góry okreslo¬ nego cyklu.
2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w czasie procesu gestosc pradu w kapieli moze byc kilkakrotnie wieksza niz przy pro¬ cesie zwyklym, przez co skraca sie czas trwa¬ nia procesu.
3. 3. Urzadzenie do wykonywania sposobu zgodnie z zastrz. 1 i 2, znamienne tym, ze sklada sie z typowych styczników i przekazników w ukladzie jak fig. 1, przy czym sterowanie kapieli odbywa sie napieciem bezpiecznym. Slaskie Zaklady Wytwórcze Aparatury Elektrycznej Przedsiebiorstwo PanstwoweDo opisu patentowego nr 39828 Clk i, 220yl ^^^ [\7J SlasJae Jaz/aA fty/»Jrc/e Aparc/d* £/J*/rycznyc/iAS T,g.i GDA-54 4. 11.2.57. 100. Drukowy ki. III. PL