PL37802B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL37802B1
PL37802B1 PL37802A PL3780254A PL37802B1 PL 37802 B1 PL37802 B1 PL 37802B1 PL 37802 A PL37802 A PL 37802A PL 3780254 A PL3780254 A PL 3780254A PL 37802 B1 PL37802 B1 PL 37802B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
electrodes
contact
point
foil
blades
Prior art date
Application number
PL37802A
Other languages
Polish (pl)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL37802B1 publication Critical patent/PL37802B1/pl

Links

Description

W tranzystorach punktowych bardzo wazna role odgrywa odleglosc miedzy punktami styku emitera i kolektora na powierzchni krysztalu pólprzewodnika. Ustalenie tej odleglosci oraz zapewnienie jej stalosci posiada duze znaczenie w produkcji tych tranzystorów. Istnieje kilka rozwiazan konstrukcyjnych tranzystorów o styku punktowym. W tych znanych tranzys¬ torach • punktowyeh elektrody stykowe posiadaja postac odpowiednio zaostrzonych drutów, które sa zamocowene we wspólnej oprawce i przebie¬ gaja swobodnie prawie równolegle az do po¬ wierzchni pólprzewodnika, gdzie dotykaja go w dostatecznie bliskich punktach. Konstrukcja ta jest bardzo klopotliwa i nie jest niezawodna w dzialaniu.Niedogodnosci powyzsze usuwa tranzystor punktowy, stanowiacy przedmiot wynalazku i rózniacy sie od znanych tranzystorów tym, ze jego elektrody stykowe posiadaja postac wa¬ skich pasków z cienkiej folii z odpowiedniego materialu, sklejonych ze soba, wskutek czego ustalenie odleglosci miedzy elektrodami jest okreslone albo gruboscia warstwy kleju, albo tez gruboscia przekladki, umieszczonej miedzy tymi elektrodami foliowymi oraz gruboscia dwóch warstw kleju. Koniec tak sklejonego zespolu dwóch lub wiecej elektrod, który ma pracowac jako styk, obcina sie w mysl wynalaz¬ ku tak, aby obciecie to dawalo jednakowa dlu¬ gosc ostrzy dla wszystkich pasków folii. W ten sposób otrzymuje sie rozstawienie ostrzy uwa¬ runkowane gruboscia izolacji miedzy paskami folii.Tak otrzymane ostrza musza byc jednak od¬ powiednio ustawione na powierzchni pólprze¬ wodnika przy zachowaniu odpowiednich do¬ cisków. W tym celu powierzchnie pólprzewod¬ nika wykonuje sie wklesla, nadajac tej krzy- wiznie promien mniejszy od dlugosci paska zespolu elektrod, liczonej od zaostrzonego kon¬ ca do miejsca elastycznego zamocowania, w któ¬ rym zespól elektrod moze sie nieco poddawac ugieciu.Wynalazek wyjasniono na rysunku, na któ¬ rym fig. 1 przedstawia zespól dwóch elektrod •V tranzystora wedlug wynalazku, fig. 2 w widoku z bokm i*p dolu — przyklad wykonania konca tfj^Ufcktrod wralL^ffe.^Jbracujacego jako k, ilng. 3 —*Jpfcy)llkó5 stawienia ostrzy elektrod na powierzchni pólprzewodnika.W mysl wynalazku zespól elektrod tranzys¬ tora jest utworzony z dwóch lub wiecej elek¬ trod l, wykonanych z cienkiej folii, rozmiesz¬ czonych w pewnej od siebie odleglosci, scisle okreslonej badz tylko warstwa kleju 2, badz tez przekladka 3 i warstwami kleju 2. Po wyko¬ naniu takiego zespolu elektrod, ten jego koniec, który ma sie stykac z powierzchnia krysztalu pólprzewodnika obcina sie przynajmniej dwu¬ krotnie pod róznymi katami 4 i 5 w celu wy¬ tworzenia ostrzy 6 i 7 w obu elektrodach I.Obciecie to jest wykonane tak, ze dlugosc os¬ trzy wszystkich elektrod foliowych 1 jest jed¬ nakowa. Dzieki takiemu wykonaniu uzyskuje sie rozstawienie ostrzy 6, 7, uwarunkowane gruboscia izolacji miedzy elektrodami 1.W celu uzyskania nalezytego rozstawienia ostrzy 6, 7 na powierzchni pólprzewodnika przy zachowaniu odpowiednich docisków, powierz¬ chnie tego przewodnika 8 wykonuje sie w mysl wynalazku wklesla i mianowicie o promieniu krzywizny mniejszym od dlugosci pasków zes¬ polu elektrod, liczonej od ostrzy 6, 7 do miejsca zamocowania elektrod. Przez przesuwanie zatem ostrzy 6, 7 po powierzchni 8 i mianowicie od polozenia, oznaczonego liczba 9, poprzez polo¬ zenie 10 do polozenia 11 umozliwiona zostaje dowolna zmiana docisku ostrza jednej z elek¬ trod i w stosunku do drugiej elektrody i. Po wlasciwym ustawieniu zespolu elektrod na po¬ wierzchni pólprzewodnika 8 styk zalewa sie odpowiednia masa. PLIn point transistors a very important role is played by the distance between the emitter and collector contact points on the surface of the semiconductor crystal. Determining this distance and ensuring its consistency is of great importance in the manufacture of these transistors. There are several design solutions for point-contact transistors. In these known point transducers, the contact electrodes are in the form of suitably sharpened wires, which are mounted in a common holder and run freely almost parallel to the surface of the semiconductor, where they touch it at sufficiently close points. This construction is very cumbersome and not reliable in operation. The above disadvantages are removed by the point transistor, which is the subject of the invention and differs from the known transistors in that its contact electrodes have the form of narrow strips of thin foil of a suitable material, glued together. whereby the determination of the distance between the electrodes is determined either by the thickness of the glue layer or also by the thickness of the spacer between these foil electrodes and the thickness of the two glue layers. The end of the set of two or more electrodes so glued, which is to function as a contact, is cut according to the invention so that the cut results in an equal blade length for all the foil strips. In this way, the spacing of the blades, determined by the thickness of the insulation, between the foil strips is obtained. For this purpose, the surfaces of the semiconductor are made concave, giving this curvature a radius less than the length of the electrode unit strip, measured from the pointed end to the flexible attachment point at which the electrode unit may be slightly bent. Fig. 1 shows the assembly of two electrodes V of the transistor according to the invention, Fig. 2 in a side view and * p bottom - an example of the end tfj ^ Ufcktrod wralL ^ ffe. ^ J taken as k, ilng. According to the invention, the transistor electrode assembly is composed of two or more thin foil electrodes, spaced at some distance from each other, precisely defined or only adhesive layer 2, or spacer 3, and adhesive layers 2. After such an electrode assembly is made, its end that is to be in contact with the surface of the semiconductor crystal is cut at least twice at different angles 4 and 5 in order to produce blades 6 and 7 in both electrodes I. This cut is made so that the three lengths of all foil electrodes 1 are equal. Due to this embodiment, the spacing of the blades 6, 7 is obtained, determined by the thickness of the insulation between the electrodes 1. In order to obtain a proper spacing of the blades 6, 7 on the surface of the semiconductor while maintaining the appropriate pressures, the surface of this conductor 8 is made concave in accordance with the invention, i.e. a radius of curvature smaller than the length of the strips, the set of electrodes, counted from the blades 6, 7 to the place where the electrodes are attached. Thus, by moving the blades 6, 7 over the surface 8, namely from the position indicated by the number 9, through position 10 to position 11, any change in the pressure of the blade of one of the electrodes and with respect to the other electrode i is made possible. a suitable mass is poured over the surface of the semiconductor 8 contact. PL

Claims (3)

Zastrzezenia patentowe 1. Tranzystor punktowy, znamienny tym, ze jego elektrody posiadaja postac pasków (1) z cienkiej folii odpowiedniego materialu, sklejo¬ nych badz bezposrednio ze soba za pomoca warstwy kleju (2), badz tez z umieszczona mie¬ dzy tymi paskami przekladka (3), przyklejo¬ na do kazdej elektrody (1) warstwa kleju (2) przy czym konce elektrod stanowiace styk sa w dowolny sposób zaostrzone, tworzac ostrza (6 i 7).Claims 1. Point transistor, characterized in that its electrodes have the form of stripes (1) made of a thin foil of a suitable material, glued or directly to each other by means of a layer of glue (2), or with a spacer placed between these stripes. (3), a layer of glue (2) is glued to each electrode (1), the ends of the electrodes being in contact are sharpened in any way, forming the blades (6 and 7). 2. Tranzystor punktowy wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze powierzchnia pólprzewod¬ nika (8) w otoczeniu miejsca styku z elektro¬ dami (1) posiada ksztalt wklesly o promieniu krzywizny mniejszej od dlugosci zespolu elek¬ trod (1), liczonej od konca styku do miejsca elastycznego zamocowania.2. A point transistor according to claim A method as claimed in claim 1, characterized in that the surface of the semiconductor (8) in the vicinity of the contact point with the electrodes (1) has a concave shape with a radius of curvature less than the length of the electrode assembly (1), measured from the end of the contact to the flexible attachment point. 3. Sposób wyrobu elektrod stykowych tran¬ zystora wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze paski folii skleja sie ze soba umieszczajac mie¬ dzy nimi przekladke izolacyjna, po czym koniec tego zespolu, przeznaczony jako styk, obcina sie przynajmniej dwukrotnie pod róznymi ka¬ tami tak, iz tworza sie ostrza, odleglosc miedzy którymi równa sie grubosci izolacji miedzy tymi foliowymi elektrodami, nastepnie tak wykona¬ ny zespól elektrod przesuwa sie po wkleslej powierzchni elektrody pólprzewodnika i po od¬ powiednim ich wzajemnym ustawieniu uzyska¬ ny styk zalewa sie masa. Janusz Groszkowski Zastepca: Kolegium Rzeczników Patentowych #Do opisu patentowego Nr 37aOZ x 5 / r / \ 5 10 11 Ftg. 2 Fig 3 PL3. The method of manufacturing transistor contact electrodes according to claim A method according to claim 1, characterized in that the foil strips are glued together by placing an insulating spacer between them, and the end of the assembly, intended as a contact, is cut at least twice at different angles so that blades are formed, the distance between which is equal to the thickness of the insulation between these foil electrodes, then the set of electrodes prepared in this way moves over the paste surface of the semiconductor electrode and after their appropriate mutual alignment, the resulting contact is flooded with mass. Janusz Groszkowski Deputy: Collegium of Patent Attorneys #To patent description No. 37aOZ x 5 / r / \ 5 10 11 Ftg. 2 Fig 3 PL
PL37802A 1954-04-24 PL37802B1 (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL37802B1 true PL37802B1 (en) 1954-10-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2885524A (en) Electric resistance devices
US3281613A (en) Piexoelement, in particular for piezoelectric force measuring instruments
FI71998B (en) CAPACITIVE HYGROMETER DAERI ANVAEND KONDENSATOR OCH FOERFARANDEFOER FRAMSTAELLNING AV KONDENSATORN
US2458552A (en) Method of making electrical contacting elements
US3056935A (en) Feeler element for a humidostat
US2543384A (en) Hygroscopic control device
US2654060A (en) Capacity type strain gauge and method of manufacture
US2386692A (en) Crystal
US3134953A (en) Electric resistance devices
PL37802B1 (en)
US2850651A (en) Piezoelectric crystal support
FR2309833A1 (en) Capacitive gauge for measuring inside tube - has two capacitor plates on opposite arms of U-shaped spring
US2759078A (en) Compensated miniature potentiometer and method of making
GB1412313A (en) Memory device using ferromagnetic substance lines
US2696575A (en) Transistor unit
JPH0212002B2 (en)
US2518331A (en) Piezoelectric crystal mounting
US2494109A (en) Metallic film electrical pickup
US2802955A (en) Piezoelectric unit
US2486146A (en) Pressure responsive transducer
US2469537A (en) Humidostatic element
US2687361A (en) Metal coated recording medium for recording instruments
US3094678A (en) Electric resistance device
JPWO2019107188A1 (en) Metal plate resistor and manufacturing method thereof
US1011824A (en) Selenium cell.