PL176591B1 - Method of producing anti-reflective coating layer on a cr 5 plastic substrate - Google Patents
Method of producing anti-reflective coating layer on a cr 5 plastic substrateInfo
- Publication number
- PL176591B1 PL176591B1 PL95307822A PL30782295A PL176591B1 PL 176591 B1 PL176591 B1 PL 176591B1 PL 95307822 A PL95307822 A PL 95307822A PL 30782295 A PL30782295 A PL 30782295A PL 176591 B1 PL176591 B1 PL 176591B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- substrate
- layer
- reflective coating
- plastic substrate
- drying
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
5posób wytwarzania powłoki antyrefleksyjnej na podłożu z tworzywa sztucznego CR 39, polegający na umyciu tego podłoża i wysuszeniu go za pomocą miękkiej szmatki bawełnianej, następnie na nanoszeniu warstw materiałów przeziemych dla długości fal światła w zakresie widzialnym, znamienny tym, że podłoże (P-CR 39) myje się w mieszance alkoholu etylowego z eterem w stosunku korzystnie 10:1, wysusza się to podłoże (P - CR 39) znanąmiękką szmatką bawełnianą, następnie na powierzchnię czynną (p cz) tego podłoża (P - CR 39) nanosi się, poprzez naparowanie w minimalnej próżni początkowej 210’5 Pascala i w temperaturze korzystnie 80°C, następujące po sobie kolejno warstwy, pierwszą warstwę (W1 - SiO) tlenku krzemu o grubości optycznej λ = 1/4, drugą warstwę (W2 - TiO2) dwutlenku tytanu o grubości optycznej λ = 1/2 i trzecią warstwę (W3 - SiO2) dwutlenku krzemu o grubości optycznej λ — 1/4, jako warstwę zewnętrzną, przy czym λ jest długością fali światła równą 540 nm.5 way to produce anti-reflective coating on plastic substrate CR 39, consisting of washing this substrate and drying it with a soft cotton cloth, then apply layers of terrestrial materials for wavelengths visible light, characterized in that the substrate (P-CR 39) is washed in an alcohol mixture ethyl ether in a ratio of preferably 10: 1, drying apply the substrate (P - CR 39) with a familiar, soft cloth cotton, then on the active surface (see p) of this substrate (P - CR 39) is applied via vaporization in the minimum initial vacuum 210'5 Pascal and at a temperature of preferably 80 ° C as follows successively layers, the first layer (W1 - SiO) silicon oxide with optical thickness λ = 1/4, the second layer (W2 - TiO2) of titanium dioxide in thickness optical λ = 1/2 and the third layer (W3 - SiO2) silicon dioxide with an optical thickness of λ - 1/4, as an outer layer, wherein λ is the wavelength light equal to 540 nm.
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powłoki antyrefleksyjnej na podłożu z tworzywatztucznnddCR.ZO,stosowpcej nu soezowOzch okułorowzch.The subject of the invention is a method for the production of an anti-reflective coating on a plastic substrate, dCR.ZO, using an ocular neoplasm.
e^uonyii^^ezs^i^ó^^ nrojekłnwnnia kZwSzk osOzrcżteksojnyzk, upisane w publikacjach H. A. MaCewU Tdn Fżbn OCtiont Filtdzs tZZiiousi Bststod UK, ^SóOl 'L. ΚηίπΖ( WptineeZnZinFilms MOSey, New Zork.iOk); A. Thelec, Dwzign stl Opticcl Iejerfesence Coatings(Mc Grow-HCl, New York, t 9bat; F Mouohase, Tlerze Lzyer Andnflec^ion Theery, z^pO. z>óil. 1 6; 272z , lHTi i Ndwsietter, j. jeeue No l,June ir^9ZiE^.M^ercz.e ^ uonyii ^^ ezs ^ i ^ ó ^^ nrojekłnwnnia kZwSzk osOzrcżteksojnyzk, written in the publications of HA MaCewU Tdn Fżbn OCtiont Filtdzs tZ Z i io usi Bststod UK, ^ SóOl 'L. ΚηίπΖ (WptineeZnZinFilms MOSey, New Zork.iOk); A. Thelec, Dwzign stl Opticcl Iejerfesence Coatings (Mc Grow-HCl, New York, t 9b a t; F Mouohase, Tlicker Lzyer Andnflec ^ ion Theery, z ^ pO. Z> óil. 1 6; 272 z , lHTi and Ndwsietter , j. jeeue No l, June ir ^ 9Z and E ^ .M ^ ercz.
Znknk łcnt''SzeroOopusmzwa powłolz antyrefleksyjna na podłożu krzemowym lub germanowzo^O opisanewżc)stncdpi S)cdalżntowym nzlłl O92, )OtaOcjącaiśac UeCs wnrwśw snakswhcates)alóz pmezieleιych wnodpześwledy nszo szonyrh pnprzoz aao atuw anie t urólm. Wzone rnnroZooasmpwzpzwłoka apOoraiśeUsyśna zawiera ed sbone f odłożadzstępdjpce zon sobtzkoieśno wpzetcc, w a)stw^ŻznOukrzemu, wszs0mdgezmaou,krky ą woretwn ϋεηΚη Orzemu, wa/sśwo Ślzordumadyedziwa(stśvętlen0znónd,jaku wjz-stwz óewóóRuną,'kmy czym eroZnńć fdzowd kużdejnn sZóadowycdwkrs(wzkwłóSO ni(l^ίśżi sięw uruoZuizleoda Ps ł/d.Znknk łcnt''SzeroOopusmws anti-reflective coating on a silicon or germanium substrate ^ O described as) stncdpi S) extracellular nzlłl O92,) Wzone rnnroZooasmpwzpzwłoka apOoraiśeUsyśna has ed sbone f odłożadzstępdjpce zon sobtzkoieśno wpzetcc, WA) states ^ ŻznOukrzemu, wszs0mdgezmaou, krky ± woretwn ϋεηΚη Orzemu, wa / sśwo Ślzordumadyedziwa (stśvętlen0znónd, Jak WJZ-stwz óewóóRuną, 'kmy the eroZnńć fdzowd kużdejnn sZóadowycdwkrs (wzkwłóSO ni ( l ^ ίśżi sięw uruoZuizleoda Ps ł / d.
Zn!^icośn si rnwoież SzeruZokwsmowc podoka antyrefloZowtoa na poOOnSu krzemowym lub geemaiiowym, opisana oz ożiskZm Odiz(npcłontowymrIs eił zO4, sPOodoCące wiz dUec wnrsów nozouce matcriytów urzeziencnO w poPzzerwWen naneoeonech pootzornapusowanin u pródni.Zkeaw saorzkopasmowapowłaWa antoteOicksyśna zzsviyoakysrspop .zOłzOn nostępuz jucepc sobiz koielnowas)twa, waretwu tieoku leszcze, wzrsFou t^z^i^m'anu,On^gp waoctwętlenku lRdzmu,wośstwę zonUo yiiuu, waestwę flkżrkumannedzitWugąwnzstwo llenkuglinu, stazowiązn warsOwę zewzktrnną kówtokl, urzu tosm groózśó nazowókwdejue sSZzżóWkch watsiw dowiamiryerui oiu Wkiezaziolu oż 0 do łJ4.N! ^ Icośn a rnwoież SzeruZokwsmowc podoka antyrefloZowtoa poOOnSu on silicon or geemaiiowym described oz ożiskZm Odiz (EIL npcłontowymrIs zO4, visas sPOodoCące Duece wnrsów nozouce matcriytów urzeziencnO in poPzzerwWen naneoeonech pootzornapusowanin in pródni.Zkeaw saorzkopasmowapowłaWa antoteOicksyśna zzsviyoakysrspop .zOłzOn nostępuz jucepc sobiz koielnowas) TWA , the vernacular of thieoku bream, the height of the mole of the core, the vigilance of the wife of the earth, the voyage of alumina, the vigilance of the extrinsic vein of the midwifery.
Znana lasl uodadto”DunnsohichS-Solarzelle (Cienkowarstwowa komórka słoneczna), opisane wniomienOilzóo (sie ózIedrowym nr DE 30 4ł 381CW,zawierat ąeo apnoż mnisśSokną warstwę u kmnrIścznagoPrzzmoiśkdnu wanlwę zaon.łazną n poitWyśrzliczneokZlrazmo n śoz i juOną wars twa auIdozflóOsyjną a p OZprzawodnącu go, uszezrkrzy)leoołiynku,przó' cżymcórstw' a zewnntrznkrustułożunayomi ędnyweśWwo rdśyrefieFśojoaiwarslwzzmo)roeznegn Uroemu. WuzUwezo ozlę(nzocmz gi-odouooy tuczną iR4SwiaUa lelł OzR λ światiu. WaclwaanIzreS;żksyJna maresuO(ozwnnikzatamania o:5licj)zyok 2,8.LASLA known uodadto "DunnsohichS-Solarzelle (thin film solar cell) as described wniomienOilzóo (August ózIedrowym DE 30 4L 381CW, zawierat AEO apnoż mnisśSokną layer of kmnrIścznagoPrzzmo and śkdnu wanlwę zaon.łazną poitWyśrzliczneokZlrazmo n and n WHO Juon wars thy auIdozflóOsyjną ap OZprzawodnącu it rdsyrefiefśojoaiwarslwzzmo) to Uroi. WuzUwezo ozła (nzocmz gi-odouooy fattening iR4SwiaUa lelł OzR λ to the world. WaclwaanIzreS; żksyJna maresuO (denomination of: 5liti) zyok 2,8.
176 591176 591
Znane zasady projektowania powłok antyrefleksyjnych, jak również znane powłoki antyrefleksyjne nie wyjaśniają problemu naparowania tych powłok na podłożu z tworzywa sztucznego CR 39.The known principles of designing anti-reflective coatings, as well as known anti-reflective coatings do not explain the problem of vaporization of these coatings on the CR 39 plastic substrate.
Celem wynalazku jest sposób naparowania powłoki antyrefleksyjnej dla fali światła w zakresie widzialnym na podłożu z tworzywa sztucznego CR 39.The object of the invention is a method of vaporization of an anti-reflective coating for a visible light wave on a CR 39 plastic substrate.
Sposób wytwarzania powłoki antyrefleksyjnej na podłożu z tworzywa sztucznego CR 39, według wynalazku, polegający na umyciu tego podłoża i wysuszeniu go za pomocą miękkiej szmatki bawełnianej, następnie na nanoszeniu warstw materiałów przeziernych dla długości fal światła w zakresie widzialnym, charakteryzuje się następującymi operacjami. Podłoże myje się w mieszance alkoholu etylowego z eterem w stosunku korzystnie 10:1. Wysusza się to podłoże znaną miękką szmatką bawełnianą. Następnie na powierzchnię czynną tego podłoża nanosi się, poprzez naparowanie w minimalnej próżni początkowej 2· 10'* Pascala i w temperaturze korzystnie 80°C, następujące po sobie kolejno warstwy: pierwszą warstwę tlenku krzemu o grubości optycznej λ= /4, drugą warstwę dwutlenku tytanu o grubości optycznej λ= ID i trzeciąwarstwę dwutlenku krzemu o grubości optycznej λ= 1/4, jako warstwę zewnętrzną, przy czym λ jest długością fali światła równą 540 nm.The method for producing an anti-reflective coating on a CR 39 plastic substrate according to the invention, which consists in washing the substrate and drying it with a soft cotton cloth, then applying layers of materials transparent for wavelengths of light in the visible range, is characterized by the following operations. The support is washed in a mixture of ethyl alcohol and ether in a ratio of preferably 10: 1. The substrate is dried with a known soft cotton cloth. Then, successive layers are applied to the active surface of this substrate by vaporization in a minimum initial vacuum of 2 × 10 '* Pascal and at a temperature of preferably 80 ° C: the first layer of silicon oxide with optical thickness λ = / 4, the second layer of titanium dioxide with an optical thickness of λ = ID and a third layer of silicon dioxide with an optical thickness of λ = 1/4 as the outer layer, where λ is the wavelength of light equal to 540 nm.
Powłoka wytworzona sposobem według wynalazku ma tę zaletę, że pozwala na obniżenie poziomu odbicia w zakresie światła widzialnego do poniżej 1%, jest trwała mechanicznie i odporna na warunki atmosferyczne.The coating produced by the method according to the invention has the advantage that it allows to reduce the reflection level in the visible light range to less than 1%, it is mechanically durable and resistant to weather conditions.
Sposób wytwarzania powłoki antyrefleksyjnej na podłożu z tworzywa sztucznego CR 39, według wynalazku, objaśniony jest w przykładzie wykonania za pomocą rysunku, na którym fig. 1 przedstawia fragment podłoża z naniesionymi warstwami z materiałów przeziemych, w przekroju i w dużym powiększeniu, a fig. 2 - soczewkę okularową, w przekroju.The method of producing an anti-reflective coating on a CR 39 plastic substrate, according to the invention, is illustrated in the exemplary embodiment by means of a drawing, in which Fig. 1 shows a fragment of the substrate with layers of terrestrial materials applied in cross-section and at a high magnification, and Fig. 2 - an ocular lens, cut across.
Przedmiotowy sposób polega na następujących operacjach. Podłoże P - CR 39 z tworzywa sztucznego CR 39, będące soczewką okularową P - CR 39, myje się w mieszance alkoholu etylowego z eterem w stosunku korzystnie 10:1, wysusza się go znanym środkiem, na przykład miękką szmatką bawełnianą, nie przedstawioną na rysunku. Następnie na powierzchnię czynną p cz podłoża P-CR 39 nanosi się, poprzez naparowanie w minimalnej próżni początkowej 2· 10'3 Pascala i w temperaturze korzystnie 80°C, następujące po sobie kolejno warstwy z materiałów przeziemych dla długości fal światła w zakresie widzialnym, to jest pierwszą warstwę Wi-SiO tlenku krzemu o grubości optycznej λ= 1/4, drugą warstwę W 2-T1O2 dwutlenku tytanu o grubości optycznej λ= M/2 i trzecią warstwę W3-S1O2 dwutlenku krzemu o grubości optycznej λ= 1/4, jako warstwę zewnętrzną, przy czym λ jest długością fali światła równą 540 nm.The method in question consists of the following operations. The P - CR 39 plastic substrate CR 39, which is the spectacle lens P - CR 39, is washed in a mixture of ethyl alcohol and ether in a ratio of preferably 10: 1, dried with a known agent, for example with a soft cotton cloth, not shown in the figure. . Subsequently, successive layers of terrestrial materials for the wavelength of light in the visible range are applied to the active surface of the substrate P-CR 39 by vaporization in a minimum initial vacuum of 2 × 10 ' 3 Pascal and at a temperature of preferably 80 ° C, there is the first layer of Wi-SiO silicon oxide with optical thickness λ = 1/4, the second layer W 2-T1O2 of titanium dioxide with optical thickness λ = M / 2 and the third layer W3-S1O2 of silicon dioxide with optical thickness λ = 1/4, as the outer layer, wherein λ is a wavelength of light equal to 540 nm.
Powłoka antyrefleksyjna, składająca się z warstw W1 - SiO, W2 - T1O2 i W3 - S1O2, jest naparowana za pomocą pojedynczego działa elektronowego 14 KW, nie przedstawionego na rysunku, po określonym umyciu i wysuszeniu podłoża P CR 39, oraz umieszczeniu go w uchwycie, również nie przedstawionym na rysunku, który to uchwyt umożliwia pokrycie w 100% powierzchni czynnej p cz tego podłoża P CR 39.The anti-reflective coating, consisting of the layers W1 - SiO, W2 - T1O2 and W3 - S1O2, is vaporized with a single 14 KW electron gun, not shown in the figure, after a specific washing and drying of the P CR 39 substrate, and placing it in the holder, Also not shown in the drawing, which holder allows 100% coverage of the active surface of this substrate P CR 39.
176 591176 591
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz.Publishing Department of the UP RP. Circulation of 70 copies
Cena 2,00 zł.Price PLN 2.00.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL95307822A PL176591B1 (en) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | Method of producing anti-reflective coating layer on a cr 5 plastic substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL95307822A PL176591B1 (en) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | Method of producing anti-reflective coating layer on a cr 5 plastic substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL307822A1 PL307822A1 (en) | 1996-09-30 |
PL176591B1 true PL176591B1 (en) | 1999-06-30 |
Family
ID=20064680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL95307822A PL176591B1 (en) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | Method of producing anti-reflective coating layer on a cr 5 plastic substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
PL (1) | PL176591B1 (en) |
-
1995
- 1995-03-23 PL PL95307822A patent/PL176591B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL307822A1 (en) | 1996-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6134049A (en) | Method to adjust multilayer film stress induced deformation of optics | |
US4252843A (en) | Process for forming a microstructured transmission and reflectance modifying coating | |
US4436797A (en) | X-Ray mask | |
US5265143A (en) | X-ray optical element including a multilayer coating | |
US5939225A (en) | Thin film materials for the preparation of attenuating phase shift masks | |
US4855176A (en) | Anti-blurring optical member | |
WO1999042901A1 (en) | Method to adjust multilayer film stress induced deformation of optics | |
US5952127A (en) | Method of fabricating a phase shifting reticle | |
US4846541A (en) | Interference film filter and an optical waveguide and a method for producing the same | |
US6160945A (en) | Optical waveguide device for loss absorption and fabrication method thereof | |
JPH06273605A (en) | Method of optical device recovery | |
US3839108A (en) | Method of forming a precision pattern of apertures in a plate | |
JPS5842003A (en) | Polarizing plate | |
CN111948805B (en) | Super-surface group capable of realizing coordinate transformation and preparation method of super-surface thereof | |
US4178404A (en) | Immersed reticle | |
US4426440A (en) | Integrated optical grating device by thermal SiO2 growth on Si | |
PL176591B1 (en) | Method of producing anti-reflective coating layer on a cr 5 plastic substrate | |
JPS57139701A (en) | Reflection preventing film of plastic optical member | |
PL161619B1 (en) | Sodium-calcium glass panel | |
US3815978A (en) | Durable see-through photoresist mask | |
JPH02244153A (en) | Lowering of structural dimensional change based on reflection generated in cover layer | |
CN115236776A (en) | Ultra-wideband wave absorber with sub-wavelength structure and preparation method and application thereof | |
KR0175351B1 (en) | X-ray blank mask and the process for preparing thereof | |
JP2979327B2 (en) | Anti-reflective coating deposited on low melting point substrate | |
Flint | Recent developments in ultraviolet filters and coatings |