PL167996B1 - Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo - Google Patents
Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazoInfo
- Publication number
- PL167996B1 PL167996B1 PL29413592A PL29413592A PL167996B1 PL 167996 B1 PL167996 B1 PL 167996B1 PL 29413592 A PL29413592 A PL 29413592A PL 29413592 A PL29413592 A PL 29413592A PL 167996 B1 PL167996 B1 PL 167996B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- iron
- hydrocarbon
- solution
- producing carbon
- containing products
- Prior art date
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
1. Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo, znamienny tym, że do roztworu czterochlorku tytanu w ciekłym węglowodorze wprowadza się zaktywizowany powierzchniowo przedmiot metalowy i po odparowaniu nadmiaru węglowodoru, przez roztwór przepuszcza się wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo, stanowiących półprodukt do otrzymania warstwy z węglika tytanu połączonej z podłożem.
Według ^znanych dotychczas sposobów otrzymywania powłok węglotytanowych metodami chemicznymi, powłoki węglotytanowe uzyskuje się z fazy gazowej techniką CVD (Chemical Vapour Deposition) z mieszaniny gazowej czterochlorku tytanu, węglowodoru i wodoru, w temperaturach powyżej 1000°C. Wysoka temperatura prowadzenia procesu uniemożliwia zastosowanie tej metody do nakładania warstw węglotytanowych na podłożu ze stali ulepszonym cieplnie. Według A. Munster W. Ruppoert w Zeitschrift fur Electrochemie, 57,1953,564, P. Schwarzkopf, P. Kieffer i inni w Refractory Hard Metals, Macmillan New York 1953, G. V. Samsonov w Refractory Carbides, Ed Consultants Bureau, New York, 1974, i J. E. Sundgren, H. T. G. Hentzell w Journal of Vacuum Science and Technology, A.4(5), 1986, 2259 nakładanie warstw ochronnych na wyroby ze stali wymaga stosowania temperatur poniżej 600°C, zależnie od gatunku.
Znane prace S. Kimura, K. Kobayashi et al.: Shinku, 1987, 30, 234 oraz S. Eisenberga: Materialwissenschaft und Werkstofftechnik, 1989, 20, 12, 429, których jednym z celów było obniżenie temperatury procesu, doprowadziły do opracowania technik CVD wspomaganych plazmą, platerowaniem jonowym M. Fukutomi, M. Fujitsuka: Thin Solid Films. 1984, 120, 283,
M. Kobayashi, Y. Doi: Thin Solid Films 1978, 54, 67, wyładowaniem jarzeniowym M Kaminsky, R. Nielsen: Thin Solid Films. 1981, 83, 107, wyładowaniem jarzeniowym z użyciem związków metaloorganicznych R. Morancho, G. Constant, J. J. Ehrhardt: Thin Solid Film. 1981, 77, 155,
A. Kaloyeros, M. Hoffman, W. S. Williams: Thin Solid Films. 1986, 141, 237, A. Kaloyeros, W. S. Williams, C. M. Allocca, D. M. Pollina, G. S. Girolami: Advanced Ceramic Materials. 1987, 2(3A), 257, oraz metod PVD (Physical Vapour Deposition) W. B. Chou, M. N. Azer, J. Mazumder: Journal of Applied Physics. 1989, 66, 1, 191, M. Kabbaj, J. Durland, L. Cot: Vide Couches Minces. 1988, 43, 244, 591, W. W. Carson: J. Vac. Sci. Technol. 1975, 12, 845, W. D. Sproul, M. H. Richman: Thin Solid Films. 1975, 28, 39. Większość tych technik wymaga stosowania kosztwonych urządzeń lub nie jest możliwa do zastosowania w przypadku stali ulepszonych cieplnie.
Nieoczekiwanie okazało się, że powyższe trudności można ominąć i osadzić powłokę węglotytanową na wyrobach zawierających żelazo w procesie przebiegającym w niskich temperaturach.
Sposób według wynalazku polega na tym, że do roztworu czterochlorku tytanu w ciekłym węglowodorze wprowadza się zaktywizowany powierzchniowo wyrób zawierający żelazo i po odparowaniu nadmiaru węglowodoru przez roztwór przepuszcza się wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych. Odparowanie nadmiaru węglowodoru prowadzi się w temperaturze
167 996 3 od 20°C do temperatury wrzenia roztworu węglowodoru pod ciśnieniem równoważnym ciśnieniu atmosferycznemu.
Korzystnie jeśli w sposobie według wynalazku stosuje się alifatyczne i/lub aromatyczne węglowodory oraz ich chlorowcopochodne.
Korzystne efekty uzyskuje się jeśli powierzchniową aktywizację wyrobów zawierających żelazo prowadzi się na drodze utleniania lub ich azotowania w temperaturze do 600°C.
Zaletą sposobu według wynalazku jest stosowanie niskich temperatur procesu od 20°C do temperatury wrzenia węglowodorów. Jest to zatem proces nieenergochłonny.
Ponadto sposób według wynalazku nie wymaga kosztownych urządzeń tak jak np.: w technikach CVD wspomaganych plazmą, platerowaniem jonowym czy wyładowaniem jarzeniowym lub w metodach PVD.
Proces według wynalazku umożliwia także wytwarzanie powłok węglotytanowych na podłożu wrażliwym na wysoką temperaturę np. na wyrobach ze stali ulepszanych cieplnie, które w przypadku zastosowania metod wysokotemperaturowych traciłyby swoje właściowości.
Sposób według wynalazku ilustrują niżej podane przykłady.
Przykład I. Do szklanego reaktora, zaopatrzonego w chłodnicę zwrotną, wprowadzono w atmosferze argonu 10 cm3 TiCU i 30 cm3 n-heksanu. Otrzymany roztwór podgrzano do temperatury wrzenia. W trakcie procesu w gazie wylotowym stwierdzono obecność gazowego chlorowodoru. Następnie do roztworu wprowadzono próbkę żelaza Armco, utlenionego wstępnie w temperaturze 400°C w atmosferze powietrza, po czym odparowano nadmiar n-heksanu. Po odparowaniu nadmiaru n-heksanu przez roztwór przepuszczano, techniką barbotażu wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.
Przy użyciu dyfrakcji rentgenowskiej w materiale wyjściowym stwierdzono obecność: αżelaza, tlenek żelaza (III), natomiast w próbce po nałożeniu powłoki stwierdzono obecność: α-żelaza, tlenek żelaza (III), węgiel aktywny, węglik żelaza, węglik tytanu, Fe-Ti-O oraz grupę refleksów niezinterpretowanych. Refleksom niezinterpreptowanym przyporządkowano struktury periodyczne o okresach identyczności 1140-1150 pm, 1240-1250 pm, 905-910 pm. Analiza chemiczna badanego materiału metodą fluoroscencji rentgenowskiej wykazała obecność tytanu i chloru.
Przykładu. Do szklanego reaktora, zaopatrzonego w chłodnicę zwrotną, wprowadzono w atmosferze ochronnej argonu 10 cm3 TiCU i 40 cm3 benzenu. Otrzymany roztwór podgrzano do temperatury wrzenia. W gazie wylotowym stwierdzono obecność gazowego chlorowodoru. Następnie do roztworu wprowadzono próbkę żelaza Armco, utlenionego wstępnie w temperaturze 400°C w atmosferze powietrza, po czym odparowano nadmiar benzenu. Od chwili odparowania nadmiaru benzenu przez roztwór przepuszczano, techniką barbotażu wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.
Przy użyciu dyfrakcji rentgenowskiej w materiale stwierdzono obecność: α-żelaza, Fe-Ti-O, węgiel aktywny oraz grupę refleksów niezinterpretowanych, którym przyporządkowano struktury periodyczne o okresach identyczności 1110-1120 pm, 1850-1860pm. Analiza chemiczna badanego materiału metodą fluoroscencji rentgenowskiej wykazała obecność tytanu i chloru.
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 1,50 zł
Claims (4)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo, znamienny tym, że do roztworu czterochlorku tytanu w ciekłym węglowodorze wprowadza się zaktywizowany powierzchniowo przedmiot metalowy i po odparowaniu nadmiaru węglowodoru, przez roztwór przepuszcza się wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.
- 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że odparowanie węglowodoru prowadzi się w temperaturze od 20°C do temperatury wrzenia roztworu węglowodoru, pod ciśnieniem równoważnym ciśnieniu atmosferycznemu.
- 3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się alifatyczne i/lub aromatyczne węglowodory oraz ich chlorowcopochodne.
- 4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że powierzchniową aktywizację wyrobów zawierających żelazo prowadzi się na drodze utleniania lub ich azotowania w temperaturze do 600°C.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL29413592A PL167996B1 (pl) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL29413592A PL167996B1 (pl) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL294135A1 PL294135A1 (en) | 1993-10-18 |
| PL167996B1 true PL167996B1 (pl) | 1995-12-30 |
Family
ID=20057290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL29413592A PL167996B1 (pl) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL167996B1 (pl) |
-
1992
- 1992-04-06 PL PL29413592A patent/PL167996B1/pl not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL294135A1 (en) | 1993-10-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Oyama | Introduction to the chemistry of transition metal carbides and nitrides | |
| Kaestner et al. | Plasma-assisted boriding of pure titanium and TiAl6V4 | |
| US3630679A (en) | Diamond growth process | |
| US3211548A (en) | Process for the production of tantalum or niobium in a hydrogen plasma jet | |
| US3771976A (en) | Metal carbonitride-coated article and method of producing same | |
| US3721577A (en) | Process for the deposition of refractory metal and metalloid carbides on a base material | |
| US3574672A (en) | Cvd process for producing tungsten carbide and article of manufacture | |
| HK1041908A1 (en) | Tungsten carbide coatings and method for producing the same | |
| Sun et al. | Relative oxidation behavior of chemical vapor deposited and type II a natural diamonds | |
| Constant et al. | Preparation and characterization of thin protective films in silica tubes by thermal decomposition of hexachloroborazine | |
| EP0222241B1 (en) | Deposition of titanium aluminides | |
| Lin et al. | Preparation and properties of cubic boron nitride coatings | |
| Xing et al. | Thermal stability and selective nitridation of Cr2AlC in nitrogen at elevated temperatures | |
| Pierson | Aluminum coatings by the decomposition of alkyls | |
| Jacobson | Reaction of iron with hydrogen chloride-oxygen mixtures at 550 C | |
| Frodelius et al. | Annealing of thermally sprayed Ti2AlC coatings | |
| Archer | Chemical vapour deposition | |
| Ikawa | Vapor deposition of zirconium carbide-carbon composites by the chloride process | |
| Wei et al. | Processing and properties of (Mo, Cr) oxycarbides from MOCVD | |
| Kim et al. | Mechanical Properties and Oxidation Behavior of Ti Si N Films Prepared by Plasma‐Assisted CVD | |
| PL167996B1 (pl) | Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo | |
| US4869929A (en) | Process for preparing sic protective films on metallic or metal impregnated substrates | |
| Yoon et al. | Microstructure of MoSi2-base nanocomposite coatings formed on Mo substrates by chemical vapor deposition | |
| Lu et al. | Ultrahigh vacuum chemical vapor deposition of rhodium thin films on clean and TiO2-covered Si (111) | |
| Venugopalan et al. | Morphological study of SiC coating developed on 2D carbon composites using MTS precursor in a hot-wall vertical reactor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20090406 |