PL167996B1 - Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo - Google Patents

Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo

Info

Publication number
PL167996B1
PL167996B1 PL29413592A PL29413592A PL167996B1 PL 167996 B1 PL167996 B1 PL 167996B1 PL 29413592 A PL29413592 A PL 29413592A PL 29413592 A PL29413592 A PL 29413592A PL 167996 B1 PL167996 B1 PL 167996B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
iron
hydrocarbon
solution
producing carbon
containing products
Prior art date
Application number
PL29413592A
Other languages
English (en)
Other versions
PL294135A1 (en
Inventor
Anna Biedunkiewicz
Mieczyslaw Wysiecki
Walenty Jasinski
Antoni W Morawski
Kazimierz Szczecinski
Original Assignee
Politechnika Szczecinska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Szczecinska filed Critical Politechnika Szczecinska
Priority to PL29413592A priority Critical patent/PL167996B1/pl
Publication of PL294135A1 publication Critical patent/PL294135A1/xx
Publication of PL167996B1 publication Critical patent/PL167996B1/pl

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

1. Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo, znamienny tym, że do roztworu czterochlorku tytanu w ciekłym węglowodorze wprowadza się zaktywizowany powierzchniowo przedmiot metalowy i po odparowaniu nadmiaru węglowodoru, przez roztwór przepuszcza się wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo, stanowiących półprodukt do otrzymania warstwy z węglika tytanu połączonej z podłożem.
Według ^znanych dotychczas sposobów otrzymywania powłok węglotytanowych metodami chemicznymi, powłoki węglotytanowe uzyskuje się z fazy gazowej techniką CVD (Chemical Vapour Deposition) z mieszaniny gazowej czterochlorku tytanu, węglowodoru i wodoru, w temperaturach powyżej 1000°C. Wysoka temperatura prowadzenia procesu uniemożliwia zastosowanie tej metody do nakładania warstw węglotytanowych na podłożu ze stali ulepszonym cieplnie. Według A. Munster W. Ruppoert w Zeitschrift fur Electrochemie, 57,1953,564, P. Schwarzkopf, P. Kieffer i inni w Refractory Hard Metals, Macmillan New York 1953, G. V. Samsonov w Refractory Carbides, Ed Consultants Bureau, New York, 1974, i J. E. Sundgren, H. T. G. Hentzell w Journal of Vacuum Science and Technology, A.4(5), 1986, 2259 nakładanie warstw ochronnych na wyroby ze stali wymaga stosowania temperatur poniżej 600°C, zależnie od gatunku.
Znane prace S. Kimura, K. Kobayashi et al.: Shinku, 1987, 30, 234 oraz S. Eisenberga: Materialwissenschaft und Werkstofftechnik, 1989, 20, 12, 429, których jednym z celów było obniżenie temperatury procesu, doprowadziły do opracowania technik CVD wspomaganych plazmą, platerowaniem jonowym M. Fukutomi, M. Fujitsuka: Thin Solid Films. 1984, 120, 283,
M. Kobayashi, Y. Doi: Thin Solid Films 1978, 54, 67, wyładowaniem jarzeniowym M Kaminsky, R. Nielsen: Thin Solid Films. 1981, 83, 107, wyładowaniem jarzeniowym z użyciem związków metaloorganicznych R. Morancho, G. Constant, J. J. Ehrhardt: Thin Solid Film. 1981, 77, 155,
A. Kaloyeros, M. Hoffman, W. S. Williams: Thin Solid Films. 1986, 141, 237, A. Kaloyeros, W. S. Williams, C. M. Allocca, D. M. Pollina, G. S. Girolami: Advanced Ceramic Materials. 1987, 2(3A), 257, oraz metod PVD (Physical Vapour Deposition) W. B. Chou, M. N. Azer, J. Mazumder: Journal of Applied Physics. 1989, 66, 1, 191, M. Kabbaj, J. Durland, L. Cot: Vide Couches Minces. 1988, 43, 244, 591, W. W. Carson: J. Vac. Sci. Technol. 1975, 12, 845, W. D. Sproul, M. H. Richman: Thin Solid Films. 1975, 28, 39. Większość tych technik wymaga stosowania kosztwonych urządzeń lub nie jest możliwa do zastosowania w przypadku stali ulepszonych cieplnie.
Nieoczekiwanie okazało się, że powyższe trudności można ominąć i osadzić powłokę węglotytanową na wyrobach zawierających żelazo w procesie przebiegającym w niskich temperaturach.
Sposób według wynalazku polega na tym, że do roztworu czterochlorku tytanu w ciekłym węglowodorze wprowadza się zaktywizowany powierzchniowo wyrób zawierający żelazo i po odparowaniu nadmiaru węglowodoru przez roztwór przepuszcza się wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych. Odparowanie nadmiaru węglowodoru prowadzi się w temperaturze
167 996 3 od 20°C do temperatury wrzenia roztworu węglowodoru pod ciśnieniem równoważnym ciśnieniu atmosferycznemu.
Korzystnie jeśli w sposobie według wynalazku stosuje się alifatyczne i/lub aromatyczne węglowodory oraz ich chlorowcopochodne.
Korzystne efekty uzyskuje się jeśli powierzchniową aktywizację wyrobów zawierających żelazo prowadzi się na drodze utleniania lub ich azotowania w temperaturze do 600°C.
Zaletą sposobu według wynalazku jest stosowanie niskich temperatur procesu od 20°C do temperatury wrzenia węglowodorów. Jest to zatem proces nieenergochłonny.
Ponadto sposób według wynalazku nie wymaga kosztownych urządzeń tak jak np.: w technikach CVD wspomaganych plazmą, platerowaniem jonowym czy wyładowaniem jarzeniowym lub w metodach PVD.
Proces według wynalazku umożliwia także wytwarzanie powłok węglotytanowych na podłożu wrażliwym na wysoką temperaturę np. na wyrobach ze stali ulepszanych cieplnie, które w przypadku zastosowania metod wysokotemperaturowych traciłyby swoje właściowości.
Sposób według wynalazku ilustrują niżej podane przykłady.
Przykład I. Do szklanego reaktora, zaopatrzonego w chłodnicę zwrotną, wprowadzono w atmosferze argonu 10 cm3 TiCU i 30 cm3 n-heksanu. Otrzymany roztwór podgrzano do temperatury wrzenia. W trakcie procesu w gazie wylotowym stwierdzono obecność gazowego chlorowodoru. Następnie do roztworu wprowadzono próbkę żelaza Armco, utlenionego wstępnie w temperaturze 400°C w atmosferze powietrza, po czym odparowano nadmiar n-heksanu. Po odparowaniu nadmiaru n-heksanu przez roztwór przepuszczano, techniką barbotażu wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.
Przy użyciu dyfrakcji rentgenowskiej w materiale wyjściowym stwierdzono obecność: αżelaza, tlenek żelaza (III), natomiast w próbce po nałożeniu powłoki stwierdzono obecność: α-żelaza, tlenek żelaza (III), węgiel aktywny, węglik żelaza, węglik tytanu, Fe-Ti-O oraz grupę refleksów niezinterpretowanych. Refleksom niezinterpreptowanym przyporządkowano struktury periodyczne o okresach identyczności 1140-1150 pm, 1240-1250 pm, 905-910 pm. Analiza chemiczna badanego materiału metodą fluoroscencji rentgenowskiej wykazała obecność tytanu i chloru.
Przykładu. Do szklanego reaktora, zaopatrzonego w chłodnicę zwrotną, wprowadzono w atmosferze ochronnej argonu 10 cm3 TiCU i 40 cm3 benzenu. Otrzymany roztwór podgrzano do temperatury wrzenia. W gazie wylotowym stwierdzono obecność gazowego chlorowodoru. Następnie do roztworu wprowadzono próbkę żelaza Armco, utlenionego wstępnie w temperaturze 400°C w atmosferze powietrza, po czym odparowano nadmiar benzenu. Od chwili odparowania nadmiaru benzenu przez roztwór przepuszczano, techniką barbotażu wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.
Przy użyciu dyfrakcji rentgenowskiej w materiale stwierdzono obecność: α-żelaza, Fe-Ti-O, węgiel aktywny oraz grupę refleksów niezinterpretowanych, którym przyporządkowano struktury periodyczne o okresach identyczności 1110-1120 pm, 1850-1860pm. Analiza chemiczna badanego materiału metodą fluoroscencji rentgenowskiej wykazała obecność tytanu i chloru.
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 1,50 zł

Claims (4)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo, znamienny tym, że do roztworu czterochlorku tytanu w ciekłym węglowodorze wprowadza się zaktywizowany powierzchniowo przedmiot metalowy i po odparowaniu nadmiaru węglowodoru, przez roztwór przepuszcza się wodór, aż do zaniku chlorowodoru w gazach odlotowych.
  2. 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że odparowanie węglowodoru prowadzi się w temperaturze od 20°C do temperatury wrzenia roztworu węglowodoru, pod ciśnieniem równoważnym ciśnieniu atmosferycznemu.
  3. 3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się alifatyczne i/lub aromatyczne węglowodory oraz ich chlorowcopochodne.
  4. 4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że powierzchniową aktywizację wyrobów zawierających żelazo prowadzi się na drodze utleniania lub ich azotowania w temperaturze do 600°C.
PL29413592A 1992-04-06 1992-04-06 Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo PL167996B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL29413592A PL167996B1 (pl) 1992-04-06 1992-04-06 Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL29413592A PL167996B1 (pl) 1992-04-06 1992-04-06 Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL294135A1 PL294135A1 (en) 1993-10-18
PL167996B1 true PL167996B1 (pl) 1995-12-30

Family

ID=20057290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL29413592A PL167996B1 (pl) 1992-04-06 1992-04-06 Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL167996B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL294135A1 (en) 1993-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Oyama Introduction to the chemistry of transition metal carbides and nitrides
Kaestner et al. Plasma-assisted boriding of pure titanium and TiAl6V4
US3630679A (en) Diamond growth process
US3211548A (en) Process for the production of tantalum or niobium in a hydrogen plasma jet
US3771976A (en) Metal carbonitride-coated article and method of producing same
US3721577A (en) Process for the deposition of refractory metal and metalloid carbides on a base material
US3574672A (en) Cvd process for producing tungsten carbide and article of manufacture
HK1041908A1 (en) Tungsten carbide coatings and method for producing the same
Sun et al. Relative oxidation behavior of chemical vapor deposited and type II a natural diamonds
Constant et al. Preparation and characterization of thin protective films in silica tubes by thermal decomposition of hexachloroborazine
EP0222241B1 (en) Deposition of titanium aluminides
Lin et al. Preparation and properties of cubic boron nitride coatings
Xing et al. Thermal stability and selective nitridation of Cr2AlC in nitrogen at elevated temperatures
Pierson Aluminum coatings by the decomposition of alkyls
Jacobson Reaction of iron with hydrogen chloride-oxygen mixtures at 550 C
Frodelius et al. Annealing of thermally sprayed Ti2AlC coatings
Archer Chemical vapour deposition
Ikawa Vapor deposition of zirconium carbide-carbon composites by the chloride process
Wei et al. Processing and properties of (Mo, Cr) oxycarbides from MOCVD
Kim et al. Mechanical Properties and Oxidation Behavior of Ti Si N Films Prepared by Plasma‐Assisted CVD
PL167996B1 (pl) Sposób wytwarzania powłok węglotytanowych na wyrobach zawierających żelazo
US4869929A (en) Process for preparing sic protective films on metallic or metal impregnated substrates
Yoon et al. Microstructure of MoSi2-base nanocomposite coatings formed on Mo substrates by chemical vapor deposition
Lu et al. Ultrahigh vacuum chemical vapor deposition of rhodium thin films on clean and TiO2-covered Si (111)
Venugopalan et al. Morphological study of SiC coating developed on 2D carbon composites using MTS precursor in a hot-wall vertical reactor

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20090406