PL132263B1 - Convergence control assembly - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest zespól regulacji zbieznosci. Kineskopy kolorowe odtwarzaja, obrazy, mejece elementy róznych kolorów na ekutek tego, ze wymusza sie, aby elektrony tra¬ fialy 1 pobudzaly luminofory, swiecece sie swiatlem róznych kolorów. Zwykle stosuje sie luminofory emitujece swiatlo koloru czerwonego, zielonego i niebieskiego. Luminofory 89 na¬ kladane na wewnetrznej powierzchni plyty czolowej banki szklanej kineskopu grupami zwanymi triadami - po Jednym luminoforze kezdego z trzech kolorów w triadzie.W kineskopie luminofory kazdego z tych trzech kolorów se naswietlane wlezke elektro¬ nów, przy czym jedna wlezka elektronów powinno trafiac w luminofory tylko jednego koloru.Kazda wlezka elektronów ma stosunkowo duzy przekrój poprzeczny w porównaniu z rozmiarami triady luminoforów 1 dlatego kazda wlezka naswietla kilka triad. Trzy wlezkl elektronów ee generowane przez trzy wyrzutnie elektronowe umieszczone w czesci szyjkowej kineskopu na przeciwko ekranu lumlnoforowego. Wyrzutnie elektronowe ee zorientowane tek, ze elektrony se emitowane jako wlezkl, których tory ee równolegle lub nieco zbiezne w kierunku ekranu.Aby umozliwic odtworzenie gamy kolorów, zespól luminoforów na danym obszarze ekranu powi¬ nien byc naswietlony trzema wlezkaml elektronów tak, aby natezenie swiecenia bylo zalezne od odtwarzanego koloru. Trzy wlezkl elektronów generowane przez wyrzutnie elektronowe opu¬ szczaj ece wyrzutnie oddzielnymi równoleglymi torami, bede, o ile stane sie rozbiezne, na¬ swietlac ekran w trzech róznych miejscach, tworzec osobne plamki róznych kolorów. Aby za¬ pewnic mozliwosc naswietlenie pojedynczych obszarów ekranu, co ma zapewnic mozliwosc odtwo¬ rzenia gamy kolorów, wlezkl elektronów powinny miec tory zbiezne w punkcie znajdujecym ele na ekranie, lub w poblizu ekranu. W obszarach srodkowych ekranu jest to zapewnione poprzez zastosowanie magnesów trwalych, których zeepól Jest zamontowany w obszarze szyjkowym kine¬ skopu. Magnesy trwale wytwerzaje statyczne pole magnetyczne, które powoduje, ze trzy wle¬ zkl se zbiezne w srodku ekranu. Taka regulacja jest znana jako regulacja statycznej zbie¬ znosci.2 132 263 Gdy trzy wlezki elektronów naswietlaje ta same obszary ©kranu, mueze byc przewidziane pewne srodki, któreby zapewnily, aby kazda z wiezek elektronów, przyporzadkowane lumino- forom okreslonego koloru, naswietlala tylko ten luminofor: czerwony lub zielony lub nie¬ bieski. Do tego celu sluzy maeke cieniowa, Maeka cieniowa przedstawia 9oba. przewodzecy ekran z bardzo duze liczbe otworów - szczelin, przez które moge przechodzic czesci wiezek elektronów. Kazdy otwór znajduje sie w ustalonym polozeniu wzgledem kazdej triady obsza¬ rów luminoforów kolorowych. Czesci zbieznych wlewek elektronów przechodze przez Jeden lub kilka otworów 1 te czesci wiezek staje sie rozbiezne 1 rozdzielne w miare zblizania sie do ekranu. W momencie trafiania w ekran wlezki se rozdzielne 1 pobudzaje luminofor wlas¬ ciwego koloru usytuowany w punkcie padania wlezki elektronów. Oznacza to, ze kazda wiezka elektronów z trzech wiezek elektronów zbliza eie do otworu z nieco inneyo kierunku. Wle¬ zki staje sie z lekka rozbieznymi po przejsciu przez otwór 1 przed trafieniem na odpowie¬ dnie osobne obszary lumlnofora kolorowego. Wynik odtwarzania obrazu kolorowego w bardzo duzym etopnlu zalezy od dokladnosci rozmieszczenia triad luminoforów wzgledem otworów i wzgledem zródla wiezek elektronów* Celem zapewnienia wlasciwego usytuowania zródla wie¬ zek elektronów stosuje eie tak zwane regulacje czyetosci kolorów polegajece na tym, ze wymusza eie, aby kazda wiezka naswietlala tylko Jeden element luminoforowy okreslonego koloru w kazdej triadzie.Aby byl uksztaltowany obraz dwuwymiarowy, plamka swietlna na ekranie, powstala na sku¬ tek trafienia trzech etatycznie zbieznych wiezek elektronów powinna eie przesuwac zarówno w kierunku pionowy nr jak i poziomym w obszarze ekranu celem utworzenia swletlenj siatki obrazowej. Zapewnia eie to dzieki zespolowi odchylania zmontowanemu na czesci szyjkowej kineskopu wytwarzajecemu pola magnetyczna* Zespól odchylania zazwyczaj odchyla wlezke elektronów dzialajec jako niezalezne uklady odchylanie linii 1 pola. Odchylanie wlezki elektronów w kierunku poziomym zapewnie eie przez pare ukladów przewodników zespolu odchy¬ lania, które wytwarzaje pole magnetyczne o usytuowanych pionowo liniach silowych. Amplitu¬ da natezenia pola magnetycznego zmienia sie w czasie ze stosunkowo duze czestotliwoscie.Odchylanie pionowe wiezek elektronów zapewnia sie przez pare ukladów przewodników wytwa¬ rzaj ecych pole magnetyczne o usytuowanych poziomo liniach silowych, przy czym pole odchy¬ lania pionowego zmienia sie w czasie ze etoeunkowo male czestotliwoscie, Z przewodnikami zespolu odchylania zwiezany jest rdzen z magnetycznie miekkiego ma¬ terialu ferromagnetycznego. Przewodniki se uksztaltowane jako uzwojenia ciegla lub cewki nawiniete na rdzen toroidalny, gdy rdzen magnetyczny jest obejmowany przez uzwojenia, lub tez uzwojenia moge miec ksztelt siodla, gdy uzwojenie nie obejmuje rdzenia.Ekran Jest stosunkowo plaski, Wiezka elektronów, która trafia w obszary narozne ekranu ma dluzszy tor, niz wiezka, która trafia w czesc srodkowe ekranu, Z rozwazan geometrycznych oczywistym jest, ze wlezki elektronów bede zbiezne w punktach znajdujecych sie na powierz¬ chni sferycznej, której srodek etanowi punkt poczetku odchylania. Poniewaz powierzchnie ekranu nie jest powierzchnie sferyczne lecz stosunkowo plaske, stenowi to przyczyne roz¬ dzielenia sie punktów trafiania trzech wiezek elektronów o obszarach naroznych ekranu.Oprócz tego niepoddajece sie eliminacji skladowe wzdluzne magnetycznych pól odchylajecych powoduje, ze punkty zbieznosci wiezek elektronów faktycznie se usytuowane blizej wyrzutni elektronowych, nizby to wynikalo w przypadku Idealnym bez obecnosci tych skladowych. Po¬ leczony skutek tych przyczyn Jest taki, ze trzy wlezki elektronów trefiajece w punkty mieszczece sie na obszarach oddalonych od srodka ekranu, powoduje wytworzenie sie osob¬ nych plamek swietlnych nawet wówczas, gdy kazda z wiezek naswietla tylko wlasciwy lumino¬ for odpowiedniego koloru. Zjawisko to jest znane Jako rozbieznosc wiezek elektronów, e przejawia sie Jako obwódki kolorowe wokól fragmentów odtwarzanego obrazu, Pewna rozbie¬ znosc wiezek jest dopuszczalna, lecz calkowite rozdzielenie sie trzech piasek swietlnych Jest zbyt widoczne, aby moglo byc tolerowane. Rozbieznosc moze byc mierzona stopniem roz¬ dzielenia sie idealnie nalozonych na siebie pasków czerwonego, zielonego i niebieskiego obrezu kontrolnego, ekladajecego eie z linii kreskowanych, pojawiejecego sie na siatce obrazowej, gdy odpowiedni sygnal kontrolny doprowadzony Jest do odbiornika.132 263 3 Niektóra kineskopy naje wyrzutnie elektronowe tworzece uklad trójketny, lub zwany Inaczej ukladem delta. Zbieznosc wlezek elektronów, która ma na celu uzyekenle nalozenia sie na eleble pianek swietlnych od róznych wlezek w punktach ekranu oddalonych od jego srodka, jest oslegana w kineskopach z wyrzutniani typu delta w wyniku zastosowania ukla¬ dów regulacji zbieznosci dynamicznej zawierajecych dodatkowe cewki zamontowane wokól czesci szyjkowej kineskopu 1 pobudzane sygnalami o czestotliwosci odchylania przez obwody regulacji zbieznosci dynamicznej, jak opisano w petencie Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 942 067 udzielonym w dniu 02 marca 1976 roku.Oak opisano w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 789 258 udzielonym 29 ety cznla 1974 r. 1 w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 800 176 udzielonym 26 marca 1974 r. w kineskopach z wyrzutniami elektronowymi usytuowanymi w Jednej linii stosuje eie zespoly odchylania z samoczynne regulacje zbieznosci zawierajece uzwojenia odchylajece dla wytwarzania ujemnego poziomego astygmatyzmu Izotropowego i dodatniego pionowego esty- gmatyzmu izotropowego w celu zrównowazenia warunków zbieznosci wlezek na obszarach srod¬ kowych ekranu 1 na obszarach naroznych w taki sposób, aby wiezki byly zasadniczo zbiezne we wszystkich punktach osnowy obrazu. To eliminuje koniecznosc stosowania cswek korekcyj¬ nych dla zapewnienia zbieznosci dynamicznej oraz odpowiednich obwodów. Wraz ze zwieksze¬ niem ketów odchylania, zwlezanym z potrzebe skracania wprowadzanych do handlu kineskopów, wymaga sie, aby zespól odchylania korygowal znieksztalcenia poduszkowe i inna geometrycz¬ ne w takiej samej mierze, jak i zapewnial zadawalajece zbieznosc samoczynne. Niejednorod¬ nosc pola magnetycznego powodujeca astygmetyzm izotropowy niezbedny dla zapewnienia zbie¬ znosci samoczynnej czyni zbieznosc zaleine od polozenia osi podluznej zeepolu odchylania wzgledem osi podluznej kineskopu. To wraz z normalnymi rozrzutami produkcyjnymi powoduje koniecznosc regulacji polozenia zespolu odchylania wzgledem kineskopu celem oslegniecia najlepszego kompromisu z punktu widzenia zbieznosci, lecz moze spowodowac znieksztalce¬ nia osnowy obrazu. Oezeli wybiera sie takie usytuowanie zeepolu odchylania, przy którym znieksztalcenia osnowy obrazu se na poziomie zadawalajecym, wówczas moge przejawiac sie pozostalosciowe bledy zbieznosci.Znanym Jest, ze umieszczenie klocków z materialu magnetycznie przenlkelnego w poblizu ukladu odchylania moze skorygowac pozostalosciowa bledy zbieznosci, lecz znalezienie wla¬ sciwego miejsca na sciankach bocznych kineskopu gdzie ma byc umieszczony 1 przytwierdzo¬ ny klocek Jest operacje, wymagajece eporo czasu, gdyz operator dokonujecy regulacji li¬ niowosci ustawiania zespolów kineskopu znajduje eie przed plyte czolowe kineskopu 1 musi zamieniac swoje, pozycje, aby znajdowac sie z tylu za kineskopem, aby przymocowac klocek.Sted pozedanym jest zaprojektowanie takiego urzedzenie, za którego pomoce operator, do¬ konujecy regulacji liniowego ustawiania zespolów kineskopu, mógl korygowac pozostaloscio¬ we bledy zbieznosci, bez zmiany swojego mlejece.Przedmiotem wynalazku jest zespól regulacji zbieznosci dla kineskopu kolorowego z wy¬ rzutniami elektronowymi usytuowanymi w jednej linii, zawierajecy wspornik montazowy przs- znaczony do montowanie zeepolu odchylania linii 1 pole kineskopu oraz elementy korygujece znieksztalcenia geometryczne osnowy obrazu, do którego czesci tylnej przymocowywane ee magnesy trwale przeznaczone do regulacji zbieznosci wlezek elektronów. Zgodnie z wynala¬ zkiem magnesy trwale korygujece zbieznosc wlezek elektronów se zamontowane na plytkach nosnych zamontowanych przesuwnie wzgledem czesci tylnej wspornika montazowego zespolu odchylenie przy stalej odleglosci miedzy magnesami korekcyjnymi naprzeciwlegle i promie¬ niowo wzgledem osi otworu podluznego w plytce nosnej umozliwiajecego przemieszczenie ply¬ tki z magnesami korekcyjnymi w kierunku promieniowym wzgledem osi zespolu odchylania.Plytka nosna z magnesami korekcyjnymi Jeet umieszczona miedzy prowadnicami bedecymi krawedziami wyciecia w czesci tylnej wspornika montazowego zeepolu odchylania lub w ply¬ tce podstawowej poleczonej nieruchomo z czescle tylne wspornika montazowego zespolu od¬ chylania, przy czym prowadnice te ee równolegle do ustalonego uprzednio kierunku przemie¬ szczenia sie plytki nosnej z magnesami korekcyjnymi.4 132 263 Plytke nosna Jest zaopatrzona w listwe zebate zazebione z napedzejecym kolem zebatym zaopatrzonym w oske. Plytka podstawowa me otwory szczelinowa usytuowana promieniowo z obu stron otworu srodkowego w plytce o osi podluznej ©kierowanej równolegle do krawedzi wgle¬ bienia i po srodku wglebienia. Magnesy korekcyjne zamontowane ne plytce nosnej se zaopa¬ trzone w kolki ustalajece, których konce skierowane ku plytce podstawowej znajduje sie naprzeciwko otworów szczelinowych.Plytka nosna Jest poleczona z plytke obrotowe, przy czym konce kolków ustalajecych skierowane ku plytce obrotowej wchodze w kontakt z wglebieniami prowadzecymi w plytce obrotowej wykonanymi tak, iz odleglosc miedzy tymi wglebieniami mierzona promieniowo wzgledem 06i zespolu odchylania Jest równa odleglosci miedzy kolkami ustalajecymi. Plytka podstawowa Jest zaopatrzona w zaczepy ustalajece etanowiece integralne czesc plytki pod¬ stawowej przeznaczone do unieruchamiania zespolu regulacji zbieznosci w stalej pozycji po zakonczeniu procesu regulacji.Na obrzezu zewnetrznym plytki obrotowej wykonane jeet uzebienie, za którego pomoce plytke obrotowe wprawia sie w ruch obrotowy, a na obrzezu wewnetrznym wykonane jest uze¬ bienie wewnetrzne wspólpracujece z zebami na krawedziach zewnetrznych zaczepów ustalaje~ cych plytki podstawowej* Przedmiot wynalazku Jeet blizej objasniony w przykladach wykonania w oparciu o zala¬ czony rysunek, na którym fig, 1 przedstawia w widoku perspektywicznym czesc kineskopu oraz zespól odchylania wedlug rozwiazania znanego ze stanu techniki, fig. 2 przedstawia objawy pozostalosciowego bledu zbieznosci wymagajece przeprowadzenia regulacji zbieznosci# fig. 3 przedstawia rozklad pole magnetycznego w przestrzeni wewnetrz kineskopu w poblizu czesci tylnej zespolu odchylania, fig. 4 i fig* 5 przedstawiaja, w widoku z tylu oraz w widoku perspektywicznym czesc kineskopu z zespolem regulacji zbieznosci wedlug wynala¬ zku, fig* 6 przedstawia objawy bledów zbieznosci, które moge byc skorygowane za pomoce zespolu wedlug wynalazku, fig. 7 przedstawia rozklad pola magnetycznego odchylania, fig. 8 przedstawia w widokach z boku 1 z tylu zespól wedlug wynalazku, fig* 9 przedstawia w widoku perspektywicznym inny przyklad wykonania zespolu wedlug wynalazku, a fig. 10-13 przedstawiaje poszczególne fragmenty zespolu wedlug wynalazku z fig. 9* Na figurze 1 przedstawiony jest kineskop z zespolem regulacji zbieznosci znanym ze stanu techniki. Kineskop 10 ma czesc szyjkowe 12, w której umieszczone se wyrzutnie ele¬ ktronów oraz czesc stozkowe 14. Zespól odchylania 20 zawiera wspornik montazowy 22 przy¬ twierdzany do kineskopu 10, na którym montowane se rózne czesci ekladowe zespolu odchy¬ lania 1 który ma za zadanie utrzymywanie zespolu odchylania zasadniczo wspólosiowo wzgle¬ dem kineskopu. Wspornik montazów^ 22 sklada sie z czesci czolowej 24 1 czesci tylnej 26, miedzy którymi umieszczone se dwie polówki rdzenia 30 utrzymywane w stanie zleczenia za pomoce lecznika 32, Kazda polówka rdzenia 30 jest zwiezana z nawinietym toroidalnle uzwo¬ jeniem 34 odchylania pola. Magnesy 36 korekcji znieksztalcen poduszkowych se umieszczone przy górnej 1 dolnej krawedzi czesci czolowej 24 wspornika montazowego 24 zespolu odchy¬ lania* Poszczególne wyprowadzenia uzwojen 34 oraz uzwojen odchylania linii /nie pokazane ne rysunku/ se poleczone z leczówkami na plytce 38.Dek wiadomo powinna byc zapewniona mozliwosc przemieszczenia zespolu odchylania 20 wzgledem kineskopu, aby uzyskac optymalne znieksztalcenia osnowy obrazu* Na przyklad, aby uzyskac optymalne znieksztalcenia poduszkowe, podczas procesu wytwarzania kineskopu jednoczesnie z operacje osiowania poszczególnych zespolów kineskopu dokonuje sie korek¬ cji ustawienia zespolu odchylania.Przemieszczenie zespolu odchylania w kierunku pionowym wzgledem kineskopu moze prze¬ jawiac sie w powstawaniu niewielkiego bledu zbieznosci, jak pokazano na fig. 2. Na fig. 2 pokazano, ze czerwony 1 niebieski pasek przechodzecy przez srodek osnowy obrazu, se roz¬ dzielone. Rozdzielenie moze byc, co Jest oczywiste, z nachyleniem rozdzielonych pasków w kierunku odwrotnym, a mianowicie: pasek niebieski moze byc odchylony na lewo, a pasek czerwony - na prawo w górnej czesci osnowy obrazu przy odwrotnym przesunieciu zespolu132 263 5 odchylania. Zjawisko to jest zwykle korygowane poprzez umieszczenie klocków 40 z magnety¬ cznie przenikalnego miekkiego materialu w poblizu tylnej czesci 26 wspornika montazowego 22 powyzej lub ponizej czesci szyjkowej 12 kineekopu. Gdy zostanie ustalona wlasciwa stro¬ na szyjki kineskopu, po której ma byc umieszczony klocek, zostaje on czasowo przymocowany w odpowiednim polozeniu, po czym ocenia sie wynikowe zbieznosc obserwuj ex obraz kontrolny na ekranie kineskopu, Oezeii polozenie jest wybrane prawidlowo, operator przymocowuje klo¬ cek na stale w tym polozeniu. Oezell wymagana jest dalsza korekcje polozenia klocka, wów¬ czas ustala sie nastepne przyblizone polozenie 1 znowu obserwuje 3ie obraz kontrolny na ekranie kineskopu. Taka procedura jest kontynuowana az do uzyskania zadawalajacego wyni¬ ku. Ten sposób jest bardzo pracochlonny, gdyz operator musi co raz to przechodzic z miej¬ sca na miejsce z przodu i z tylu kineskopu 1 zmieniac polozenie zespolu odchylania i ko¬ rektora.Na figurze 3a przedstawiono linie silowe idealnego pola magnetycznego wytwarzanego przez uzwojenia odchylania pola w przekroju poprzecznym w poblizu szyjki 12. Obecnosc klocka 40 z przenikalnego materialu znieksztalca rozklad linii silowych pola, co przeja¬ wia sie w tym, ze linie silowe pola 300 w poblizu klocków staje sie bardziej wygiete. Jak to pokazano na fig. 3b. Linie silowe pola takie, jak 302, które przechodzily przez srodek przekroju poprzecznego pola wytwarzanego przez zespól odchylania jako linie proste, teraz eteje eie wygietymi, a uprzednio zakrzywione linie silowe takie. Jak 304, staje, eie li¬ niami prostymi i wyznaczaje nowy srodek pola. Mozna sedzic, ze obecnosc klocka powoduja przesuniecie skutecznego srodka pola odchylania dalej od klocka. Tak wiec srodek skute¬ czny pola odchylania w poblizu wejsciowego konca zespolu odchylania moze byc, w wyniku zastosowania przenikalnego magnetycznie klocka, nieco przesuniety wzgledem srodka geome¬ trycznego.Na figurze 3c przedstawiono wynik zastosowania dwóch klocków umieszczonych w jednako¬ wych odstepach wzgledem srodka zespolu odchylenia, srodek pola nie jest w tym przypadku przesuniety. Oednakze, gdy pare klocków wykorzystuje sie w konfiguracji asymetrycznej, tak Jak przedstawiono na fig. 3d, dominujecym Jest wplyw klocka 40a, w porównaniu z wplywam klo¬ cka 40b i srodek pola okazuje sie przesuniety wzgledem srodka geometrycznego zespolu odchy¬ lania.Na figurze 4 15 przedstawiono przyklad rozwierania wedlug wynalazku. Na fig. 4 czesc tylna 426 ma wyciecie 450 ograniczone powierzchnie czolowa, i wystepami bocznymi 450a i 450b. Plytka 452 jest umieszczona w wycieciu 450 z mozliwoscia, przemieszczania sie w tym wycieciu. Plytka 452 ma w srodku wydluzony otwór 454 szerszy od szyjki 12 kineskopu 10, co zapewnia mozliwosc przemieszczenia sie plytki 452 w kierunku pionowym bez ociera¬ nie szyjki 12. Pare przsnikalnych magnetycznie klocków 440a i 440b, wplywajecych na roz¬ klad pola magnetycznego umieszcza sie w odpowiednich wycieciach w plytce 452. Klocki se umieszczane po przeciwnych stronach osi 16 kineskopu 10.Zarówno plytka 452 Jak i tylna czesc 426 wspornika montazowego zespolu odchylenia se wykonane ze sprezystego materialu termoplastycznego. Plytka 452 Jest nieco ciensza w czes¬ ci srodkowej w poblizu miejsca usytuowania przenikelnych magnetycznie klocków, niz przy krawedziach wspólpracujecych z krawedziami prowadzacymi wyciecia 450. Wyprofilowanie gru¬ bosciowe plytki 452 Jest dostosowane do wymiarów kanalów utworzonych czesciami 450a i 450b tak, aby zapewnic pewne tarcie przy przesuwaniu plytki 452, co ma zapobiec ewentu¬ alnym zmianom polozenia plytki 452 w czasie regulacji i w okresie eksploatacji urzedzenla.Regulacji polozenia plytki 452 dokonuje sie za pomoce listwy zebatej 456 wtopionej w kra¬ wedz boczne plytki 452, która przemieszcza sie w czesci kanalowej 450a, W wydluzeniu 460 wspornika montazowego 426 zespolu odchylania przewidziany Jest otwór 458, w którym umie¬ szczone Jest kolo zebate 470, za którego pomoce przesuwa sie plytke 452. Kolo zebate 470 jeet poleczone z oske 472.Podczas wykonywania operacji regulacji kineekop oraz zespól odchylania umieszczane se na stanowisku, na którym wykonywane ea czynnosci znlezane z wlasciwym ustawieniem6 132 263 zeepolu odchylanie na kineskopie* Przy tym operator znajduje sie przed kineskopem i ob¬ serwuj ?c obraz kontrolny ne ekranie kineskopu reguluje polozenie ze9polu odchylenia tak, aby uzyskac najmniejsze znieksztalcenia geometryczne osnowy obrazu. Aby skorygowac pozo¬ stalosciowy bled zbieznosci, operator obraca kolo zebate 470 za pomoce oski 472, co po¬ woduje przesuwanie sie plytki 452 w góre lub w dól wzgledem osi zespolu odchylania i ki¬ neskopu o tyle, o ile jest to wymagane.Przesuwanie pionowe plytki 452 powoduje przecjtoszczenie róznicowe klocków 440a i 440b ku i od osi 16. To znaczy, gdy klocek 440e przesuwa sie ku szyjce 12 i osi 16, klocek 440b oddala sie od nich. Powoduje to przesuniecie srodka pola odchylania, jak opisano w zwiezku z omówieniem fig. 3. W ten sposób moze to byc wykorzystane do skorygowania po¬ zostalosciowego bledu zbieznosci. Kolo zebate 470 moze byc nastepnie wyjeta z otworu 458, a kineskop z zespolem odchylania Jest uznawany za nadajecy sie do wykorzystania. 17 razie potrzeby, mozno zastosowac klej, aby zabezpieczyc plytke 452 przed przypadkowymi przemie¬ szczeniami.Taka sama zasada regulacji moze byc wykorzystana w odniesieniu do pola magnetycznego wytwarzanego przez uzwojenie odchylania linii. Na fig. 6 przedstawiono typowe znieksztalce¬ nia odtwarzanego obrazu przejawiajece sie w zmianie rozmiarów osnowy obrazu. Wymiar pozio¬ my, to znaczy szerokosc czerwonej osnowy obrazu jest wieksza niz niebieskiej osnowy obrazu.Zielona, lub mówiec inaczej - osnowa obrazu utworzona wiezke przyporzadkowane kolorowi zielonemu, to znaczy wiezka srodkowe, na rysunku nie pokazana, usytuowane jest posrodku miedzy tymi dwoma osnowami. Znieksztalcenia tego typu moge byc skorygowane za pomoce roz¬ wiazania, podobnego do rozwiezania przedstawionego na fig. 4 1 fig. 5, polegajecego na wprowadzeniu elementu, zapewnlajecego, przemieszczenie róznicowe klocków przenlkalnych ma¬ gnetycznie w kierunku poziomym.Na figurze 7a przedstawiono linie silowe idealnego pola magnetycznego odznaczajecego eie ujemnym astygmatyzmem izotropowym. Proste linie silowe 602 reprezentuje tak samo, jak na fig. 3, srodek pola magnetycznego. Obecnosc Jednego klocka przenikalnego magnetycznie usytuowanego na linii poziomej z prawej od osi kineskopu, Jak na fig. 7b, powodujs za¬ krzywienie sie linii silowej 602 i wyprostowanie sie linii silowej 600; natomiast linie silowe 604 pozostaje zakrzywionymi.Zastosowanie pary klocków umieszczonych symetrycznie wzgledem osi, powoduje, ze pole magnetyczne pozostaje symetrycznym podobnym do niezmodyfikowanego pola na fig. 7a. Prze¬ mieszczenie pary klocków ku lewej, jak pokazano na fig, 7d, powoduje, ze linie silowe 600 staje sie liniami prostymi. Oznscza to, ze skuteczny srodek pole magnetycznego przemiesz¬ cza sie ku prawej podobnie temu. Jak to powoduje pojedynczy klocek w odniesieniu do fig. 7b. Ustawisnis klocków dobierane Jest tak, aby zapewnic koincydencje czerwonej i niebie¬ skiej osnowy obrazu* Zarówno poziome jak 1 pionowe przemieszczenie klocków moze byc zrealizowane poprzez zamocowanie czterech klocków na krzywce tarczowej, wprowadzanej w ruch pionowy i poziomy.Dednakze moze to powodowac niepozedane interferencje regulacji. Niezalezne przemieszcze¬ nie w kazdym z dwóch kierunków ortogonalnych moze byc zrealizowane za pomoce pary nieza¬ leznych przesuwnych plytek nosnych, Jek to zostalo pokazane na fig. 8. Na fig, 8 elemen¬ ty, odpowiadajece elementom z fig. 4 spelniajece identyczne funkcje, se oznaczono takimi samymi symbolami liczbowymi. Na fig. 8 plytka 852 przemieszczana poziomo ma dwa klocki 840a i 84Cb umieszczone w poblizu otworu srodkowego 854, którego wymiary se wieksze od srednicy zewnetrznej szyjki kineskopu. Plytka 852 Jest umieszczona w prowadnicach 850a i 850b, które umozliwieje przemieszczanie plytki 852 w kierunku poziomym, przy ustawieniu kineskopu na stanowisku regulacyjnym plytka 852 moze byc sprzezona mechanicznie z mecha¬ nizmem /nie pokazanym na rysunku/ umozliwiejecym zdalne sterowanie przemieszczeniem plyt¬ ki 052 dla regulacji wymiarów osnowy obrazu.Inne rozwiezonie, bedece innymi przykladami realizacji wynalazku, 9tanowig, dla spe¬ cjalisty, modyfikacje rozwiezania podstawowego, którego zasade przedstawiono powyzej.132 263 7 A mianowicie, zamiast listwy zebatej 456 i kola zebatego 470 moge byc zastosowane elemen¬ ty cierne, zamiast prowadnic 450 moge byc zastosowane sruby ustalajece dla ustalanie po¬ lozenia plytki 452. Poza tym dla umieszczenia przenikalnych magnetycznie klocków 440 moze byc wybrane inne miejsce, niz tylna czesc zespolu odchylania. Poza tym przekladnia zebata moze stanowic integralne czesc zeepolu odchylania. A usytuowanie przekladni zebatej moze byc równiez dowolne, na przyklad, ~pod ketem proetym w stosunku do pokazanego na rysunku.Opisane powyzej rozwiezenie dotyczece korekcji zbieznosci ma te niedogodnosc, ze w przypadku krancowego ustawienia klocków plytki przesuwne 452 i 482, na których eg za¬ montowane klocki, moge wystawac poza krawedzie glównej czesci obudowy zespolu odchylenia.— Na figurze 9 przedstawiono dalszy przyklad realizacji wynalazku. Plytka podstawowa okregla 110 ma otwór srodkowy 114 o wymiarze dopasowanym do srednicy szyjki kineskopu.Plytka 110 ma równiez wystepy /zaczepy/ 120 1 122 bedace elementami ustalajacymi poloze** nie plytki na tylnej czesci zeepolu odchylania. Plytka 110 ma równiez kanal pionowy 112 oraz pionowe szczeliny 116 1 118 usytuowane posrodku kanalu 112. Plytka podstawowa 110 Jest wykonana z dostatecznie elastycznego tworzywa sztucznego. Druga para zaczepów usta¬ lajacych 124 1 126 stanowi integralne czesc plytki 110. Zaczep 124 ma punkt ugiecia lub zawieszenia 130, co pozwala na przemieszczenie zaczepu 124 wzgledem plytki 110, W jednej z pozycjl krancowych podstawowa czesc zaczepu 124 znajduje sie wewnetrz wyciecia 136, Wówczas zadna czesc zaczepu 124 nie wystaje poze obszar, ograniczony promieniem podsta¬ wowej czesci plytki 110. Drugi zaczep 126 ma punkt ugiecie lub zawieszenia 128, spelnia¬ jacy podobne zadania. Zaczepy ustalajece 124 i 126 maje zeby ustalajece 134 i 132 odpo¬ wiednio.Zespól regulacji zbieznosci zawiera równiez plytke 150, bedece, elementem nosnym dla klocków przenikalnych magnetycznie. Plytka 150 ma czesc plaska 151 i otwór srodkowy 152.Wymiary czesci plaskiej 151 plytki 150 se takie, aby plytka 150 mogla przemieszczac sie w kanale 112 plytki podstawowej 110. Mniejszy wymiar otworu srodkowego 152 odpowiada srednicy szyjki kineskopu. Klocki 154 i 156 z magnetycznie przenikalnego materialu £a umieszczone w górnej i dolnej czesci plaskiej 151. Kolki ustalajece 158 i 160 wystaje w górnej i dolnej czesci plytki. Czesc kolka ustelejecego 158 skierowana ku plytce pod¬ stawowej 110 wspólpracuje z otworem 116, Podobnie czeSc kolka 160 skierowana ku plytce 110 wchodzi w otwór 118. To, ze kolki 158 i 160 wchodze w szczelinowe otwory 116 i 118, jak równiez to, ze plaska czesc 151 plytki 150 wchodzi do kanalu prowadzacego 112, zapo¬ biega jakiemukolwiek przesunieciu obrotowemu plytki 150 wzgledem plytki podstawowej 110.Przy tym plytka podstawowa 110 sluzy jako prowadnica dla plytki 150 i umozliwia Jedynie pionowe przemieszczenie plytki 150.Zespól korekcji zbieznosci zawiera poza tym plytke 170 wprawiane w ruch obrotowy.Plytka ma otwór srodkowy 172 o takiej srednicy, która umozliwia osadzenie plytki na szyj¬ ce kineskopu. Srednica zewnetrzna plytki obrotowej 170 jest nieco wieksza od srednicy zewnetrznej plytki podstawowej 110, lecz prawie równa srednicy tylnej czesci zespolu od¬ chylania, do której przymocowuje eie plytke podstawowe 110. Na krawedzi zewnetrznej ply¬ tki obrotowej 170, a przynajmniej na Jej czesci, wykonane ee zeby 174, które, przy usta¬ wieniu kineskopu na stanowisku regulacji wspólpracuje z nepedzajecym kolem zebatym.Na powierzchni czolowej plytki 170 skierowanej ku plytce 150 wykonane se wglebienia 180 i 182 bedece prowadnicami dla czesci kolków ustolajecych 158 i 160 na plytce 150 skierowanych ku plytce obrotowej 170, Odleglosc miedzy wglebieniami 180 i 182 mierzona wzdluz srednicy plytki obrotowej 170 przechodzecej przez dowolny punkt wglebienia Jest równa odleglosci miedzy kolkami 158 1 160. Wglebienia 180 1 182 se tak uksztaltowane, ze przemieszczenie torem wyznaczonym tymi wglebieniami ma skladowe promieniowe i etyczne wzgledem osi srodkowej plytki podstawowej, W etanie zmontowanym plytka nosna 150 wchodzi w kanal 112 tak, iz tworzy sie zasadniczo plaska powierzchnia, do której przylega powie¬ rzchnia glównej czesci plytki obrotowej 170. Zewnetrzna srednica plytki obrotowej 170 jest wieksza od zewnetrznej "srednicy plytki podstawowej 110. Po wewnetrznej stronie kra¬ wedz plytki 170 /fig. 11/ ma zeby 184, co pozwala na to, aby te plytki po dokonaniu8 132 263 regulacji byly wzajemnie zablokowane. Para szczelin 176 1 178.ma staly promien wzgledem srodka plytki obrotowej 170. Szczeliny 176 1 178 czesciowo zachodze na zaczepy uetalejece 124 1 126, dzieki czemu nozna odgiec zaczepy 124 1 126 tak, aby Ich czesci zebate byly wprowadzone w zazebienie z zebate strukture wewnetrzne 184 - dla zaryglowania calego ze¬ spolu po dokonaniu regulacji.Podczas montazu, plytke podstawowe przytwierdza sie do tylnej czesci zespolu odchyla¬ nia za pomoce zaczepów mocujecych 120 i 122. Przy tym plytka podstawowa 110 zostaje zo¬ rientowana tak, iz kanal 112 oraz szczeliny 116 i 118 se skierowane pionowo. Plytke nosne osadza sie na szyjce kineskopu tak, iz czesc plaska 151 wchodzi w prowadzecy kanal 112.Nastepnie na szyjce osadza sie plytke obrotowe 170 i obraca sie tak, aby kolki 156 i 160 znalazly sie naprzeciwko wzgledem 180 i 182. Zaczepy ustalajece 124 1 126 se przyginane tak, aby ich ramiona 132 i 134 z zebami miescily ele w obszarze, majecym srednice mniej¬ sze niz srednica zasadniczej czesci plytki podstawowej 110. Po czym plytke obrotowe 170 dociska sie tak, aby weszla w kontakt z kolkami 158 i 160 1 z zaczepami ustalajecymi 124 i 126.Kompletny montaz kineskopu, zespolu odchylania 1 zespolu regulacji zbieznosci moze by: nestepnie przeprowadzony na stanowisku, na którym se dokonywane rózne regulacje, na przy¬ klad, liniowe ustawienie zespolów i korekcja zbieznosci. Podczas regulacji napedzajece kolo zebate mechanizmu, zainstalowanego na stanowisku, wprowadza w ruch obrotowy kolo ze¬ bate 174 1 obraca plytke obrotowe 170 wzgledem plytki podstawowej 110. Powoduje to, ze kolki ustalajece 158 1 160 zajmuje rózna polozenie we wglebieniach 180 i 182, Przy tym ruch obrotowy, w jaki wprawiana jest plytka obrotowa 170, nie moze spowodowac ruchu obro¬ towego plytki 150, gdyz kolki 158 i 160 znajduje sie w szczelinach 116 i 118 plytki podsta¬ wowej 110, oraz dlatago, ze kanal prowadzecy 112 zapobiega przemieszczeniu obrotowemu ply¬ tki 150.Po zakonczeniu operacji regulacji zbieznosci poprzez obracanie plytki 170, operator wprowadza srubokret przez ezczeline 176 miedzy zaczepem ustalajecym 124 a wycieciem 136 i naciska na zaczep tak, aby wprowadzic Jego koniec w wyciecie 140. Przy tym zeby 134 za¬ czepu 124 zazebiaja sie z wewnetrzne strukture zebate 184 plytki obrotowej 170. Podobnie postepuje ele z zaczepem 126, wprowedzaJec zeby 132 w zazebienie z wewnetrzne strukture zebate 184 plytki 170. W ten sposób unieruchamia sie plytke 170 wzgledem plytki podstawo¬ wej 110, przy czym klocki na plytce nosnej 150 równiez se utrzymywana w ustalonej pozycji wzgledem plytki podstawowej 110 i tylnej czesci zespolu odchylenia.Dla specjalisty powinno byc oczywistym, ze zarówno szczeliny 116 i 116, jak i kanal prowadzecy 112 moge byc uznane z osobna ze srodek wystarczajecy, aby wyeliminowac mozli¬ wosc ruchu obrotowego plytki nosnej 150. 2 tego wzgledu szczeliny 116 i 118 w przypadku, gdy se zastosowane w poleczeniu z prowadnice 112, moge sluzyc Jedynie do ogranlczonia przemieszczenia pionowego plytki nosnej 150. Poza tym moze byc zastosowane Inne rozwiaza¬ nie, mojece na celu ustalenie polozenie plytki obrotowej 170 wzgledem plytki podstawowej 110, po zakonczeniu procesu regulacji 1 korekcji zbieznosci. Na przyklad mozna zastosowac wkrety lub klej, a nie zaczepy ustalajece.Oest równiez oczywiste, ze czesc 152 plytki nosnej 150 wyznacza ustalony odstep miedzy klockami 154 1 156, w ten sposób ruch jednego z klocków bedzie wymuszal przesuniecie dru¬ giego. Oznacza to, ze potrzebne Jest w zasadzie jedno wglebienie 180 lub 162 oraz jeden z kolków, mianowicie ten, który z tym wglebieniem wspólpracuje.Mozna takze wyeliminowac czesc 151 plytki nosnej 150 calkowicie. Jezeli klocki 154 1 156 maje wprasowane kolki ustalajece. W przypadku takiego rozwiezania ustalony odstep miedzy klockami jest wyznaczony odstepem promieniowym wglebien 180 i 182. Tekle rozwle- zanie, jezeli stosuje ele go bez prowadnic, moze pozwolic na ruch obrotowy klocków wzgle¬ dem kolków, jezeli kolki bede zastosowane pojedynczo. Mozliwosc takiego ruchu obrotowego powinna byc wyeliminowana poprzez zastosowanie kilku kolków wspólpracujecych z wglebieniem.132 263 9 Oest równiez oczywiste, ze omówiony powyzej ze9pól moze byc ueytuowsny pod ketem 90° w stosunku do polozenie, przedstawionego na fig* 9, to znaczy tek, aby klocki 154 i 156 nogly byc przemieszczane w kierunku poziomym. Mozna równiez elementy prowadzace wykonac jako wypuklosci na powierzchni plytki obrotowej i/lub plytki podstawowej. W takich roz- wiezanlech w klockach lub ne plytce nosnej powinny byc przewidziane odpowiednio dopaso¬ wane wyciecia lub wglebienia. I wreszcie, plytka podstawowa 110 moze byc wykonena jako czesc Integralna tylnej czesci zespolu odchylania.Zastrzezenia patentowe 1. Zespól regulacji zbieznosci dla kineskopu kolorowego z wyrzutniami elektronowymi usytuowanymi w jednej linii, zawierajecy wspornik montazowy przeznaczony do montowania zespolu odchylania linii i pola kineskopu oraz elementy korygujece znieksztalcenia geome¬ tryczne osnowy obrazu, do którego czesci tylnej przymocowywane se magnesy trwale przezna¬ czone do regulacji zbieznosci wlezek elektronów, znamienny tym, ze magnesy trwale /440a, 440bj 840a, 840b; 154, 156/ korygujece zbieznosc wlezek elektronów se za¬ montowane na plytkach nosnych /452, 852, 150/ zamontowanych przesuwnie wzgledem czesci tylnej wspornika montazowego zespolu odchylania przy stalej odleglosci miedzy magnesami korekcyjnymi naprzeciwlegle i promieniowo wzgledem osi otworu podluznego /454, 854, 152/ w plytce nosnej /452, 852, 150/ umozliwiajecego przemieszczenie plytki z magnesami kore¬ kcyjnymi w kierunku promieniowym wzgledem osi zespolu odchylania. 2. Zespól wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytka nosne /452, 852, 150/ z magnesami korekcyjnymi /440a, 440b; 840a, 840b; 154, 156/ jest umieszczona pomie¬ dzy prowadnicami /450a, 450b; 850a, 850b; 112/ bedecyml krawedziami wyciecia w czesci tyl¬ nej /426/ wspornika montazowego zespolu odchylenia lub w plytce podstawowej /HO/ pole¬ czonej nieruchomo z czescie tylne /426/ wspornika montazowego zespolu odchylenia, przy czym prowadnice te se równolegle do ustalonego uprzednio kierunku przemieszczenia sie plytki nosnej z magnesami korekcyjnymi. 3. Zespól wsdlug zastrz. 2, znamienny tym, ze plytka nosna /452/ Jest zaopatrzona w listwe zebate /456/ zazebione z napedzajecym kolem zebatym /470/ zaopatrzo¬ nym w oske /472/. 4. Zespól wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze plytka podstawowa /110/ ma otwory szczelinowe /116, 118/ usytuowane promieniowo z obu etron otworu srodkowego /114/ w plytce /HO/ o osi podluznej skierowanej równolegle do krawedzi wglebienia /112/ 1 po srodku wglebienia /l12/. 5. Zeepól wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze magnesy korekcyjne /154, 156/ zamontowane na plytce nosnej /l50/ ee zeopetrzone w kolki ustalajece /158, 160/, których konce ekierowone ku plytce podstawowej /HO/ znajduje sie naprzeciwko otworów szczelinowych /116, 118/. 6. Zespól wsdlug zastrz. 5, znamienny tym, ze plytka nosna /l50/ jest poleczona z plytke obrotowe /170/, przy czym konce kolków ustalajecych /158, 160/ skie¬ rowane ku plytce obrotowej /i70/ wchodze w kontakt z wglebieniami prowadzacymi /l80, 182/ w plytce obrotowej /170/ wykonanymi tak, iz odleglosc miedzy tymi wglebieniami /180, 182/ mierzona promieniowo wzgledem osi zespolu odchylania jest równa odleglosci miedzy kolkami ustalajacymi /158, 160/. 7. Zespól wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze plytka podstawowa /HO/ jest zaopatrzona w zaczepy ustalajece /124, 126/ stenowiece integralne czesc plytki pod¬ stawowej /HO/ przeznaczone do unieruchamiania zespolu regulacji zbieznosci w stalej po¬ zycji po zakonczeniu procesu regulacji. 8. Zespól wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze na obrzezu zewnetrznym plytki obrotowej /170/ wykonane Jest uzebienie /174/, ze którego pomoce plytke obrotowe /170/ wprawia sie w ruch obrotowy, a ne obrzezu wewnetrznym wykonane jest uzebienie wew- - netrzne /184/ wspólpracujece z zebami /132, 134/ na krawedziach zewnetrznych zaczepów ustalaj ecych /124, 126/ plytki podstawowej /HO/.132 263LK 132 263 Fig. 6. m-<^.Fig. 7. 4M- r-452132 263 FiC.IO. Fig.il.GS IM Fig. 12. Fig.il.Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz.Cena 100 zl PL PL PL

Claims (8)

1.Zastrzezenia patentowe 1. Zespól regulacji zbieznosci dla kineskopu kolorowego z wyrzutniami elektronowymi usytuowanymi w jednej linii, zawierajecy wspornik montazowy przeznaczony do montowania zespolu odchylania linii i pola kineskopu oraz elementy korygujece znieksztalcenia geome¬ tryczne osnowy obrazu, do którego czesci tylnej przymocowywane se magnesy trwale przezna¬ czone do regulacji zbieznosci wlezek elektronów, znamienny tym, ze magnesy trwale /440a, 440bj 840a, 840b; 154, 156/ korygujece zbieznosc wlezek elektronów se za¬ montowane na plytkach nosnych /452, 852, 150/ zamontowanych przesuwnie wzgledem czesci tylnej wspornika montazowego zespolu odchylania przy stalej odleglosci miedzy magnesami korekcyjnymi naprzeciwlegle i promieniowo wzgledem osi otworu podluznego /454, 854, 152/ w plytce nosnej /452, 852, 150/ umozliwiajecego przemieszczenie plytki z magnesami kore¬ kcyjnymi w kierunku promieniowym wzgledem osi zespolu odchylania.

2. Zespól wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytka nosne /452, 852, 150/ z magnesami korekcyjnymi /440a, 440b; 840a, 840b; 154, 156/ jest umieszczona pomie¬ dzy prowadnicami /450a, 450b; 850a, 850b; 112/ bedecyml krawedziami wyciecia w czesci tyl¬ nej /426/ wspornika montazowego zespolu odchylenia lub w plytce podstawowej /HO/ pole¬ czonej nieruchomo z czescie tylne /426/ wspornika montazowego zespolu odchylenia, przy czym prowadnice te se równolegle do ustalonego uprzednio kierunku przemieszczenia sie plytki nosnej z magnesami korekcyjnymi.

3. Zespól wsdlug zastrz. 2, znamienny tym, ze plytka nosna /452/ Jest zaopatrzona w listwe zebate /456/ zazebione z napedzajecym kolem zebatym /470/ zaopatrzo¬ nym w oske /472/.

4. Zespól wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze plytka podstawowa /110/ ma otwory szczelinowe /116, 118/ usytuowane promieniowo z obu etron otworu srodkowego /114/ w plytce /HO/ o osi podluznej skierowanej równolegle do krawedzi wglebienia /112/ 1 po srodku wglebienia /l12/.

5. Zeepól wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze magnesy korekcyjne /154, 156/ zamontowane na plytce nosnej /l50/ ee zeopetrzone w kolki ustalajece /158, 160/, których konce ekierowone ku plytce podstawowej /HO/ znajduje sie naprzeciwko otworów szczelinowych /116, 118/.

6. Zespól wsdlug zastrz. 5, znamienny tym, ze plytka nosna /l50/ jest poleczona z plytke obrotowe /170/, przy czym konce kolków ustalajecych /158, 160/ skie¬ rowane ku plytce obrotowej /i70/ wchodze w kontakt z wglebieniami prowadzacymi /l80, 182/ w plytce obrotowej /170/ wykonanymi tak, iz odleglosc miedzy tymi wglebieniami /180, 182/ mierzona promieniowo wzgledem osi zespolu odchylania jest równa odleglosci miedzy kolkami ustalajacymi /158, 160/.

7. Zespól wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze plytka podstawowa /HO/ jest zaopatrzona w zaczepy ustalajece /124, 126/ stenowiece integralne czesc plytki pod¬ stawowej /HO/ przeznaczone do unieruchamiania zespolu regulacji zbieznosci w stalej po¬ zycji po zakonczeniu procesu regulacji.

8. Zespól wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze na obrzezu zewnetrznym plytki obrotowej /170/ wykonane Jest uzebienie /174/, ze którego pomoce plytke obrotowe /170/ wprawia sie w ruch obrotowy, a ne obrzezu wewnetrznym wykonane jest uzebienie wew- - netrzne /184/ wspólpracujece z zebami /132, 134/ na krawedziach zewnetrznych zaczepów ustalaj ecych /124, 126/ plytki podstawowej /HO/.132 263LK 132 263 Fig. 6. m-<^. Fig. 7. 4M- r-452132 263 FiC.IO. Fig.il. GS IM Fig. 12. Fig.il. Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz. Cena 100 zl PL PL PL