PL129373B1 - Process for preparing zinc telluride crystals - Google Patents
Process for preparing zinc telluride crystals Download PDFInfo
- Publication number
- PL129373B1 PL129373B1 PL23346281A PL23346281A PL129373B1 PL 129373 B1 PL129373 B1 PL 129373B1 PL 23346281 A PL23346281 A PL 23346281A PL 23346281 A PL23346281 A PL 23346281A PL 129373 B1 PL129373 B1 PL 129373B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- alloy
- tellurium
- zinc telluride
- crystallization
- container
- Prior art date
Links
- SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 16
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 27
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 19
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000003708 ampul Substances 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B19/00—Selenium; Tellurium; Compounds thereof
- C01B19/007—Tellurides or selenides of metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia krysztalów tellurku cynku stosowanego w prze¬ mysle elektronicznym, zwlaszcza do wytwarzania okien przepuszczalnych dla promieniowania pod¬ czerwonego, elektrooptycznych modulatorów pro¬ mieniowania laserów emitujacych w podczerwieni, swiatloczulych warstw widikonów i struktur elek¬ troluminescencyjnych.Znany sposób Wytwarzania tellurku cynku z cie¬ klego stopu opisany w Journal of Crystal Growth, 20 283—2iai (1973) polega na prowadzeniu /kry¬ stalizacji tellurku cynku ze stopu o wyjsciowym skladzie stechiometrycznym znajdujacego sie w ty¬ glu pod bardzo wysokim cisnieniem gazu obojet¬ nego. Wada tego sposobu jest destechiometryzacja stopu wyjsciowego w czasie procesu krystalizacji.Stop zostaje tiu wzbogacony w niekontrolowany nadmiar telluru na skutek silnie selektywnej dy¬ fuzji skladników stopu do atmosfery gazu obojet¬ nego.Znany jest sposób polegajacy na wprowadzaniu w powyzej opisanym sposobie hermetyzacji cieczo¬ wej przez zastosowanie warstwy cieklego Bfig dla zmniejszenia emisji par cieklego stopu. Sposób ten — jak opisano w Journal of Elektrochemical So- ciety of America 117, 2, 41C^47C (1970) — stwa* rza szereg trudnosci technicznych zwiazanych z du¬ za rozpuszczalnoscia (BjOj w cieklym tellurku cynku.Wada sposobu krystalizacji z cieklego stopu io i* 20 o wyjsciowym skladzie stechiometrycznym jest ko¬ niecznosc prowadzenia dwu cykli technologicznych, jednego dla syntezy zwiazku, a drugiego dla pro¬ cesu krystalizacji. W sposobie tym uzywa sie wiec wstepnie zsyntezowanego tellurku cynku, który na ogól jest silnie zanieczyszczony.Znany sposób wytwarzania tellurku cynku opi¬ sany w Biuletynie WAT 02, 9, 61^64 (1973) i w Journal of Crystal Growth 28 29—35 41975), polega na uzyciu skladników dajacych z zalozenia stop niestechiometryczny. Skladnikiem nadmiaro¬ wym jest tu tellur, który obniza temperature top¬ nienia zwiazku. Sposób umozliwia zrealizowanie syntezy zwiazku z czystych pierwiastków i krysta¬ lizacje tellurku cynku z uzyskanego stopu w jed¬ nym cyklu technologicznym. Wada tego sposobu jest sukcesywny wzrost koncentracji skladnika nadmiarowego w czasie postepujacej krystalizacji.Powstaja tu zaburzenia frontu krystalizacji na sku¬ tek wystepowania zjawiska przesycenia stezenio¬ wego, które narzucaja bardzo powolne prowadze¬ nie krystalizacji. Nastepuje równiez przy tym spo¬ sobie negatywne zjawisko tzw. krystalizacji paso¬ zytniczej.Celem wynalazku bylo opracowanie sposobu wy¬ twarzania krysztalów tellurku cynku z cieklego stopu eliminujacego wady powyzej opisanych spo¬ sobów.Zostalo to rozwiazane, wedlug wynalazku, w ten sposób, ze stop otrzymany z telluru i cynku, uzy- 129 3733 129 373 4 70,5 74,5 tydh w stosunku wagowym od do , 29£ 25,5 albo z tellurku cynku i telluru uzytych w stosun- 87,2 75,1 ku wagowym od do *¦ przez ich stopie- 12,8 24,9 -nie w odpompowanej od powietrza i zatopionej ampule zaopatrzonej w pojemnik, ochladza sie do temperatury jego krystalizacji. Natomiast przez caly okres krystalizacji stopu czesc ampuly z po- Jemnikitm, w której gromadza sie pary tellurku, podgrzewa sie do temperatury w granicach od 1163 K do 1233 K w ten sposób, ze pary nadmia¬ ru telluru 'kondensuja sie w pojemniku.Sposób wedlug wynalazku zapewnia utrzymywa¬ nie sie przez caly okres krystalizacji stalego skladu stopu wyjsciowego. Umozliwia to prowadzenie kry¬ stalizacji z predkoscia prawie dwukrotnie wieksza bez wystepowania zjawiska przesycenia stezenio¬ wego i zwiazanych z nim zaburzen ciaglosci fron¬ tu krystalizacji. W sposobie wedlug wynalazku nie wystepuje tez przemieszczanie sie i deformacja frontu krystalizacji; powodujace zjawisko krystali¬ zacji pasozytniczej.Sposobem tym uzyskuje sie krysztaly tellurku cynku o wysokich parametrach technicznych.Wynalazek zostanie blizej objasniony na przy¬ kladzie wykonania z powolaniem sie na rysunek, który przedstawia ogólny uproszczony schemat urzadzenia do wytwarzania krysztalów tellurku cynku sposobem wedlug wynalazku.Tellur i cynk o czystosci 6N, nawaizone w sto- 72,5 sunku wagowym umieszcza sie w ampule 27,5 kwarcowej 1 wyposazonej w wewnetrzny pojem¬ nik L Do zaczepów na sciankach ampuly przy¬ twierdza sie dwie gietkie termopary 3 i 4. Termo¬ para 3 wskazuje temperature na poziomie ostrza ampuly 1, a termopara 4 sluzy do regulacji tem¬ peratury strefy pojemnika 2. Ampule 1 odpompo¬ wuje sie od powietrza, zatapia i instaluje w piecu * o dwu strefach grzejnych dolnej b i górnej a.W dolnej strefie b pieca 5 znajduje sie termopara regulacyjna 6. Wewnatrz pieca 5 ampule 1 sprzega sie mechanismem pociagowym 7.Nastepnie ustala sie temperature dolnej strefy b pieca 5 okolo 10 K powyzej temperatury krzepnie¬ cia wsadu w ampule 1, zas terapftratare strefy a w rejonie pojemnika 2 ustala sie na poziomie 1343 K, przy której nie nastepuje transfer nadmia¬ rowego telluru. Po okresie homogenizacji stopu uruchamia sie przesuw ampuly 1, co powoduje ob¬ nizenie temperatury wokól jej ostria. Przy tem¬ peraturze ostrza ampuly 1 w granicach 1448 K, na¬ stepuje wydzielanie sie fazy krystalicznej ze stopu.W tym momencie obniza sie temperature strefy a w rejonie pojemnika 2 do wartosci 1208 K, która utrzymuje sie przez caly czas procesu krystalizacji.Postepujaca krystalizacja powoduje wzrost kon¬ centracji telluru w calym stopie i preznosci jego par nad stopem do wartosci przewyisaajactj rów¬ nowagowa preznosci par czystego telluru w tem¬ peraturze strefy pojemnika 2 wynoszacej 1208 K.W wyniku tego nastepuje kondensacja par telluru w pojemniku 2 i sukcesywny jego transfer ze sto¬ pu do pojemnika w miare postepujacej krystaliza¬ cji, co powoduje utrzymanie stalego skladu stopu wyjsciowego.Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania krysztalów tellurku cynku z cieklego stopu, znamienny tym, ze stop otrzy¬ many z telluru i cynku uzytych w stosunku wa- 70£ 74,5 gowym od do -, albo z tellurku cynku 29,5 25,5 87,2 i telluru uzytych w stosunku wagowym od 12,8 75,1 do przez ich stopienie w odpompowanej od 24,9 powietrza i zatopionej ampule zaopatrzonej w po¬ jemnik, ochladza sie do temperatury krystalizacji stopu, zas czesc ampuly z pojemnikiem, w której gromadza sie pary telluru podgrzewa sie do tem¬ peratury w granicach od 1183 K do 1233 K przez caly czas krystalizacji stopu w ten sposób, ze pary nadmiaru telluru kondensuja sie w pojemniku ampuly. 10 15 20 # 30 35 40129 373 PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania krysztalów tellurku cynku z cieklego stopu, znamienny tym, ze stop otrzy¬ many z telluru i cynku uzytych w stosunku wa- 70£ 74,5 gowym od do -, albo z tellurku cynku 29,5 25,5 87,2 i telluru uzytych w stosunku wagowym od 12,8 75,1 do przez ich stopienie w odpompowanej od 24,9 powietrza i zatopionej ampule zaopatrzonej w po¬ jemnik, ochladza sie do temperatury krystalizacji stopu, zas czesc ampuly z pojemnikiem, w której gromadza sie pary telluru podgrzewa sie do tem¬ peratury w granicach od 1183 K do 1233 K przez caly czas krystalizacji stopu w ten sposób, ze pary nadmiaru telluru kondensuja sie w pojemniku ampuly. 10 15 20 # 30 35 40129 373 PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL23346281A PL129373B1 (en) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | Process for preparing zinc telluride crystals |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL23346281A PL129373B1 (en) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | Process for preparing zinc telluride crystals |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL233462A2 PL233462A2 (pl) | 1982-08-16 |
| PL129373B1 true PL129373B1 (en) | 1984-05-31 |
Family
ID=20010258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL23346281A PL129373B1 (en) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | Process for preparing zinc telluride crystals |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL129373B1 (pl) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113307237A (zh) * | 2021-06-23 | 2021-08-27 | 石久光学科技发展(北京)有限公司 | 一种多晶体单相碲化锌及其制备方法 |
-
1981
- 1981-10-16 PL PL23346281A patent/PL129373B1/pl unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113307237A (zh) * | 2021-06-23 | 2021-08-27 | 石久光学科技发展(北京)有限公司 | 一种多晶体单相碲化锌及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL233462A2 (pl) | 1982-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3366454A (en) | Method for the production and remelting of compounds and alloys | |
| JP3707750B2 (ja) | フッ化カルシウム結晶の製造方法 | |
| EP0244987B1 (en) | A process for growing a multi-component crystal | |
| Triboulet et al. | Growth of ZnTe by stoichiometric and off stoichiometric zone refining | |
| US3507625A (en) | Apparatus for producing binary crystalline compounds | |
| JP3475407B2 (ja) | フッ化物結晶の製造装置及び製造法並びにルツボ | |
| US3226270A (en) | Method of crucible-free production of gallium arsenide rods from alkyl galliums and arsenic compounds at low temperatures | |
| US4141777A (en) | Method of preparing doped single crystals of cadmium telluride | |
| US3649193A (en) | Method of forming and regularly growing a semiconductor compound | |
| US3767473A (en) | Method of manufacturing semiconductor single crystals | |
| US3341302A (en) | Flux-melt method for growing single crystals having the structure of beryl | |
| PL129373B1 (en) | Process for preparing zinc telluride crystals | |
| US4185081A (en) | Procedure for the synthesis of stoichiometric proportioned indium phosphide | |
| US4906325A (en) | Method of making single-crystal mercury cadmium telluride layers | |
| US3902860A (en) | Thermal treatment of semiconducting compounds having one or more volatile components | |
| US3933990A (en) | Synthesization method of ternary chalcogenides | |
| US3472615A (en) | Growing monocrystalline stoichiometric magnesium aluminate | |
| US3816601A (en) | Process for the production of pure metal halides | |
| US4872943A (en) | Process for making monocrystalline HGCDTE layers | |
| US4528062A (en) | Method of manufacturing a single crystal of a III-V compound | |
| US3932292A (en) | Process for the manufacture of doped silver halides | |
| US4612082A (en) | Arsenic cell stabilization valve for gallium arsenide in-situ compounding | |
| Ohachi et al. | The solid state controlled growth of sulphides and selenides of Ag and Cu using crystal rotation | |
| JPH10279378A (ja) | 結晶製造方法及び製造装置 | |
| Sashital | Growth of single crystal layers of AgGaS2 by liquid phase epitaxy using halide fluxes |