PL128605B2 - Apparatus for measuring contamination of industrial gases - Google Patents

Apparatus for measuring contamination of industrial gases Download PDF

Info

Publication number
PL128605B2
PL128605B2 PL23253881A PL23253881A PL128605B2 PL 128605 B2 PL128605 B2 PL 128605B2 PL 23253881 A PL23253881 A PL 23253881A PL 23253881 A PL23253881 A PL 23253881A PL 128605 B2 PL128605 B2 PL 128605B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
axis
ellipsoidal mirrors
symmetry
mirrors
permeable
Prior art date
Application number
PL23253881A
Other languages
English (en)
Other versions
PL232538A2 (pl
Inventor
Jozef Kirkiewicz
Waclaw Taczalski
Waldemar Slonina
Original Assignee
B P Ochrony Atmosfery Proat
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by B P Ochrony Atmosfery Proat filed Critical B P Ochrony Atmosfery Proat
Priority to PL23253881A priority Critical patent/PL128605B2/pl
Publication of PL232538A2 publication Critical patent/PL232538A2/xx
Publication of PL128605B2 publication Critical patent/PL128605B2/pl

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Optical Measuring Cells (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do pomiaru zanieczyszczen gazów przemyslowych w szczególnosci pylowych transportowanych przewodami, przeznaczone zwlaszcza do pylomierzy, sluzacych do jednoczesnego pomiaru rozproszenia i oslabienia wiazki swiatla na czastkach pylu.Dzialanie pylomierzy optycznych moze byc oparte na nastepujacych zjawiskach: absorpcja swiatla przechodzacego przez warstwe zapylona, rozproszenia swiatla na ziarnach pylu, polaryza¬ cji swiatla przez rozproszenie oraz dyfrakcji swiatla na czastkach rozproszonych. Ze wzgledu na klopotliwy sposób pomiaru, dwa ostatnie zjawiska nie sa wykorzystywane w pylomierzach opty¬ cznych. Dwa pierwsze zjawiska to znaczy absorpcja i rozproszenie wywoluja efekt oslabienia wiazki swiatla przechoczacego przez pyl. Pochlanianie swiatla w osrodku o okreslonj grubosci warstwy opisane jest przez prawo sbsorpcji Bouguera-Lamberta, a dla ukladów wielofazowych, dla których okreslone jest stezenie roztworu to samo zjawisko opisuje prawo Beera, zgodnie z którym zaklada sie, ze faza rozpraszajaca nie pochlania swiatla. Oba wymienione prawa maja swój wyraz matematyczny.Zjawisko rozproszenia swiatla zostalo teoretycznie opracowane przez Reyleigha i dalej rozwi¬ niete przez róznych badaczy. Wzory matematyczne opisujace to zjawisko ze wzgledu na zbyt upraszczajace zalozenia, caly ogrom ograniczen oraz skomplikowane opisy matematyczne wyma¬ gajace numerycznych metod rozwiazania, sa malo przydatne do stosowania praktycznego.Celem niniejszego wynalazku jest opracowanie urzadzenia do pomiaru zanieczyszczen gazów przymyslowych, opartego o pomiar rozproszenia i oslabienia wiazki swiatla na czastkach pylu.Zgodnie z wynalazkiem urzadzenie do pomiaru zanieczyszczenn gazów przemyslowych w szczególnosci pylowych transportowanych przewodami, posiadajace laserowe zródlo promienio¬ wania, uklad optyczny oraz uklad fotodetekcyjny charakteryzuje sie tym, ze uklad optyczny urzadzenia sklada sie z dwóch polaczonych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel wyposazo¬ nych na powierzchni w przepuszczalne dla biegu promienia okienka i krócce przeplywowe strumie¬ nia zanieczyszczonego, ssawny i dyszowy, które na zewnatrz posiadaja odpowiednie polaczenia przewodami do ukladu ssawnego i sondy pomiarowej, przy czym krócce przeplywowe zabudowane sa dokladnie w osi symetrii polaczonych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel, których os duza posiada trzy ogniska w tym jedno wspólne lezace na przecieciu wspomnianej wyzej osi2 128 605 duzej, na koncach której wewnatrz elipsoid umieszczone sa uklady fotodetekcyjne „wprzód" i „w tyl" o regulowanym przesuwnym wzdluz osi duzej polozeniu, a na zewnatrz elipsoidalnych zwier¬ ciadel na przedluzeniu osi symetrii przechodzacej przez przepuszczalne dla biegu promienie okienka znajduje sie uklad fotodetekcyjny „oslabienia" i „odniesienia" przedzielony katowo umie¬ szczona, lezaca w osi symetrii plytka pólprzepuszczalna, calosc zas sprzezona jest ze zródlem promieniowania swietlnego, najkorzystniej laserowego oraz miernikiem mocy lasera i aparatura zasilajaca.Os symetrii przepuszczalnych dla biegu promienia okienek porzechodzi dokladnie przez wspólne dla obu zwierciadel elipsoidalnych ognisko.Przekrój osiowy przez plaszczyzne styku krawedzi obu zwierciadel elipsoidanych przechodzi dokladnie przez wspólne dla obu zwierciadel elipsoidalnych ognisko.Miernik zapylenia dziala w oparciu o anizokinetyczny pobór próbki gazu zapylonego przy pomocy sondy pomiarowej, dla której moze byc przewidziane chlodzenie woda w przypadku poboru próbki gazów goracych.Uklad optyczny ma za zadanie umozliwic podzial strumienia swiatla na wiazke pomiarowa i porównawcza w celu rejestracji zmian mocy lasera i wyeliminowania wynikajacych stad bledów, doprowadzenie równoleglej wiazki swiatla laserowego do osrodka zapylonego miedzy dysza a ssawa oraz wyprowadzenie swiatla na zewnatrz zwierciadel elipsoidalnych a takze skupienie w dwóch ogniskach elipsoid swiatla rozproszonego „w przód" oraz „w tyl".Wiazka porównawcza z plytki swiatlodzielacej trafia do ukladu fotodetekcyjnego, którego zasadniczymi elementmi sa fotodetektory „oslabienia" i „odniesienia".Zapylony gaz zostaje doprowadzony do wspólnego ogniska obu zwierciadel elipsoidalnych przy pomocy dyszy zapewniajacej jednoczesnie niezapylenie zwierciadel elipsoidalnych. Strumien gazu zanieczyszczonego zasysanyjest przez ssawe powodujaca podcisnienie w ukladzie optycznym.Do wspomnianego wspólnego ogniska zwierciadel zostaje doprowadzony przez przepuszczalne dla biegu promienia okienko swiatlo laserowe. We wspólnym ognisku nastepuje oddzialywanie wiazki swiatla laserowego na wiazke przeplywajacego strumienia gazu zanieczyszczonego, po czym wiazka swiatla z przestrzeni wewnetrznej zwierciadel elipsoidalnych wyprowadzana jest z tego ukladu i trafia na wspomniany wyzej uklad fotodetekcyjny z plytka pólprzepuszczalna.Swiatlo rozproszone jest zbierane przez zwierciadla elipsoidalne i skupiane na umieszczonych w pozostalch dwóch ogniskach fotodetektorach rozproszenia „w przód" i „w tyl".W ukladach fotodetekcyjnych wewnetrznym i zewnetrznym mozna stosowac fototranzystory, fotorezystory, fotooporniki, fotopowielacze oraz inne.Urzadzenie wedlug wynalazku pozwala na obiektywna, niezawodna i szybka ocene stezenia zanieczyszczen pylowych o strumieniu gazów przeplywajacych przez kanaly, przewody rurowe, kominowe i inne.Wynalazek zostanie blizej objasniony na podstawie przykladowego urzadzenia przedstawio¬ nego na rysunku, na którym przedstawiony jest uklad optyczny skladajacy sie z dwóch polaczo¬ nych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel 1. Zwierciadla wykonano jako pelne elipsoidy obrotowe i nastepnie po przecieciu kazdej z elipsoid na dwa elementy wzdluz plaszczyzny przechodzacej przez jedno z ognisk, elementy elipsoidalne zawierajace drugie ognisko polaczone czolowo w sposób trwaly umozliwiajacy rozlaczenie. W kazdej z elipsoid przed ich polaczeniem zabudowano fotorezystory 7 i 8, których zadaniem jest zamiana sygnalów swietlnych na sygnaly elekryczne. W polaczonych elementach elipsoidalnych zabudowano dokladnie w ich osi symetrii przechodzacej przez wspólne ognisko dwa krócce, króciec ssawny 3 i krociec dyszowy 4. Króciec dyszowy 4 przewodem elastycznym polaczony jest z sonda pomiarowa 6 umieszczona w przewo¬ dzie kominowym 15. Króciec ssawny 3 przewodem elastycznym polaczono z ssawa 5. Jako ssawy 5 przy testowaniu urzadzenia uzyto typowego odkurzacza. Na powierzchni scietych elipsoidalnych zwierciadel 1 wykonano szczelne przepuszczalne dla/promieniowania swietlnego okienka 2.Obydwa okienka leza na prostej przechodzacej przez wspólne ognisko polaczonych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel 1. Fotorezystory „w przód" 7 i „w tyl" 8 umieszczone sa na regulowanej z zewnatrz osi i moga byc przesuwane wzdluz osi duzej kazdej z elipsoid. Regulacja polozemia fotorezystorów polega na kazdorazowym umieszczeniu ich dokladnie w ognisku kazde-128 605 3 go ze zwierciadel elipsoidalnych. Podobnie jak w ukladzie optycznym wewnatrz zwierciadel zasto¬ sowano fotorezystory w ukladzie fotodetekcyjnym „oslabienia" 9 i „odniesienia" 10, które spelniaja identyczne funkcje jak fotorezystory 7 i 8. Fotorezystory „oslabienia" 9 i „odniesienia"10 przedzie¬ lono plytka pólprzepuszczalna 11, która zostala umieszczona pod katem 45° od osi biegnacego pro¬ mieniowania. Jako zródlo swiatla monochromatycznego zastosowano laser He-Ne 12, który pod¬ laczono do aparatury zasilajacej 14 i wyposazono w miernik mocy lasera 13.W celu przetestowania urzadzenia przeprowadzono pomiary badawcze stezenia pylów dymi- cowych w strumieniu gazów kominowych. Ze wzgledu na stabilizacje pracy lasera 12 wlaczono go na okolo 6 godzin przed planowanym pomiarem. Tak dlugie wygrzewanie, ze wzgledu na brak stalej rejestracji zmian mocy, pozwalalo uznac moc swiatla laserowego za stala w czasie. Strumien zanieczyszczony zasysano z emitora 15 ssawa 5. Strumien gazów zanieczyszczonych po przejsciu przez sonde 6, elastycznym przewodem przeplywal do krócca dyszowego 4 i nastepnie po przejsciu przez wspólne ognisko elipsoidalnych zwierciadel, odsysany byl przez króciec ssawny 3 na zewnatrz ukladu optycznego. Podczas przeplywu strumienia gazów zanieczyszczonych przez uklad optyczny odczytywano na mierniku mocy lasera 13 wartosc mocy. Pomiar rozproszenia odczytywano w dzialkach, które w tabeli oznaczono jako „dz", zaznaczajac przy tym wartosc stezenia zapylenia w g/m3 oraz odpowiadajaca temu zapyleniu wartosc natezenia swiatla. Nastepnie w oparciu o zdjete charakterystyki miernika przeliczano pomiar na obciazenie opornoscia wejscia miernika. Wartosci opornosci oznaczone jako Mft pozwalajace na dokonanie odczytu natezenia swiatla przy danym poziomie stezenia pylu w strumieniu gazowym zestawiono w tabeli I. Znajac charakterystyke fotorezystorów mozna bylo ten sam pomiar rozproszenia wyrazic w jednostkach natezenia oswiet¬ lenia. Pomiary kazdorazowo rozpoczynano na podzakresie najczulszym.Wyniki pomiarów stezenia pylów w przeplywajacym strumieniu gazów zanieczyszczonych zestawiopno w tabeli.Tabela Rodzaj^^ ^-pylu Pyl dymnicowy 0,06 mm Zapylenie g/m 0,1 0,3 0,5 0,7 0,9 dz 13 22 46 63 73 Mn 41 20,4 9,9 6,65 5,35 Rozproszenie Lx 15,88 33,46 42,33 45,07 46,17 dz 17 23 31 39 44 Mn 49 33,5 23,2 19,1 17,5 Lx 8,96 22,39 31,09 34,55 35,91 Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do pomiaru zanieczyszczen gazów przemyslowych w szczególnosci pylowych transportowanych przewodami, posiadajace laserowe zródlo promieniowania, uklad optyczny podzialu promienia laserowego na pomiarowy i odniesienia oraz uklad fotodetekcyjny, znamkane tyra, ze uklad optyczny urzadzenia sklada sie z dwóch polaczonych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel (1) wyposazonych na powierzchni w przepuszczalne dla biegu promienia okienka (2) i krócce przeplywowe strumienia zanieczyszczonego, ssawny (3) i dyszowy (4), które na zewnatrz posiadaja odpowiednio podlaczenie przewodami do ukladu ssawnego (5) i sondy pomiarowej (6), przy czym krócce przeplywowe zabudowane sa dokladnie w osi symetrii polaczonych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel (1), których os duza posiada trzy ogniska w tym jedno wspólne lezace na przecieciu wspomnianej wyzej osi symetrii prostopadlej i osi duzej, na koncach której wewnatrz elipsoid umieszczone sa uklady fotodetekcyjne „wprzód" (7) i „wtyl" (8) o regulowanym przesuwnym wzdluz osi duzej polozeniu, a na zewnatrz elipsoidalnych zwierciadel (1) na przedluze¬ niu osi symetrii przechodzacej przez przepuszczalne dla biegu promienia okienka (2) znajduje sie uklad fotodetekcyjny „oslabienia" (9) i „odniesienia4* (10) przedzielony katowo umieszczona,4 128605 lezaca w osi symetrii plytka pólprzepuszczalna (11), calosc zas sprzezonajest ze zródlem promieni- wania swietlnego, najkorzystniej laserowego (12) oraz miernikiem mocy lasera (13) i aparatura zasilajaca (14). 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze os symetrii przepuszczalnych dla biegu promienia okienek (2) przechodzi dokladnie przez wspólne dla obu zwierciadel elipsoidalnych (1) ognisko. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze przekrój osiowy przez plaszczyzne styku krawedzi obu zwierciadel elipsoidalnych (1) przechodzi dokladnie przez wspólne dla obu zwiercia¬ del elipsoidalnych (1) ognisko.Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz.Cena 100 zl PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do pomiaru zanieczyszczen gazów przemyslowych w szczególnosci pylowych transportowanych przewodami, posiadajace laserowe zródlo promieniowania, uklad optyczny podzialu promienia laserowego na pomiarowy i odniesienia oraz uklad fotodetekcyjny, znamkane tyra, ze uklad optyczny urzadzenia sklada sie z dwóch polaczonych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel (1) wyposazonych na powierzchni w przepuszczalne dla biegu promienia okienka (2) i krócce przeplywowe strumienia zanieczyszczonego, ssawny (3) i dyszowy (4), które na zewnatrz posiadaja odpowiednio podlaczenie przewodami do ukladu ssawnego (5) i sondy pomiarowej (6), przy czym krócce przeplywowe zabudowane sa dokladnie w osi symetrii polaczonych ze soba scietych elipsoidalnych zwierciadel (1), których os duza posiada trzy ogniska w tym jedno wspólne lezace na przecieciu wspomnianej wyzej osi symetrii prostopadlej i osi duzej, na koncach której wewnatrz elipsoid umieszczone sa uklady fotodetekcyjne „wprzód" (7) i „wtyl" (8) o regulowanym przesuwnym wzdluz osi duzej polozeniu, a na zewnatrz elipsoidalnych zwierciadel (1) na przedluze¬ niu osi symetrii przechodzacej przez przepuszczalne dla biegu promienia okienka (2) znajduje sie uklad fotodetekcyjny „oslabienia" (9) i „odniesienia4* (10) przedzielony katowo umieszczona,4 128605 lezaca w osi symetrii plytka pólprzepuszczalna (11), calosc zas sprzezonajest ze zródlem promieni- wania swietlnego, najkorzystniej laserowego (12) oraz miernikiem mocy lasera (13) i aparatura zasilajaca (14).
  2. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze os symetrii przepuszczalnych dla biegu promienia okienek (2) przechodzi dokladnie przez wspólne dla obu zwierciadel elipsoidalnych (1) ognisko.
  3. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze przekrój osiowy przez plaszczyzne styku krawedzi obu zwierciadel elipsoidalnych (1) przechodzi dokladnie przez wspólne dla obu zwiercia¬ del elipsoidalnych (1) ognisko. Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz. Cena 100 zl PL
PL23253881A 1981-08-06 1981-08-06 Apparatus for measuring contamination of industrial gases PL128605B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL23253881A PL128605B2 (en) 1981-08-06 1981-08-06 Apparatus for measuring contamination of industrial gases

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL23253881A PL128605B2 (en) 1981-08-06 1981-08-06 Apparatus for measuring contamination of industrial gases

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL232538A2 PL232538A2 (pl) 1982-06-07
PL128605B2 true PL128605B2 (en) 1984-02-29

Family

ID=20009548

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL23253881A PL128605B2 (en) 1981-08-06 1981-08-06 Apparatus for measuring contamination of industrial gases

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL128605B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL232538A2 (pl) 1982-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3418053A (en) Colorimeter flow cell
ES282970U (es) Cubeta para la determinacion de compuestos quimicos en liquidos por evaluacion fotometrica espectral
GB2060928A (en) Optical sample cell for analysis of particles in liquid suspension
FI935128A0 (fi) Samtidiga maongfaldiga bestaemningar
CN104949917B (zh) 光程可调多次反射温控样品池装置
JPH02212742A (ja) 液中微粒子測定装置
PL128605B2 (en) Apparatus for measuring contamination of industrial gases
US3177760A (en) Apparatus embodying plural light paths for measuring the turbidity of a fluid
CN118706776A (zh) 一种臭氧双通道检测装置
CN215812397U (zh) 一种热湿法烟气测量气室及其气路结构
CN207798628U (zh) 一种液体颗粒计数检测装置
RU2334215C1 (ru) Устройство для измерения запыленности газовой среды
CN109358025A (zh) 一种基于漫反射的污泥检测装置
US20200408673A1 (en) System and method for ozone concentration in liquids having a positive scaling factor
Tournier et al. Experimental determination of the light distribution in a photochemical reactor: Influence of the concentration of an absorbing substance on this profile
CN211263162U (zh) 一种大气中气态亚硝酸的测量系统
Rodgers et al. Single point aerosol sampling: Evaluation of mixing and probe performance in a nuclear stack
TWM262704U (en) Instrument for measuring light scattering
US3989948A (en) Dual beam optical system
CN211086621U (zh) 室内环境空气质量检测装置
RU1784880C (ru) Устройство дл определени содержани взвешенных частиц в жидких средах
SU1539538A1 (ru) Фотометрическое устройство
JPS58215538A (ja) 光学式紫外線吸光度分析計
JP3177262B2 (ja) 超高濃度ガスの濃度測定用光学セル
SU1043495A1 (ru) Фотоэлектрический мутномер