Przedmiotem wynalazku jest miernik poziomu warstwy fluidalnej dostosowany -do duzych i zam¬ knietych aparatów fluidalnych, zwlaszcza susza¬ rek fluidalnych, pieców fluidalnych.Dotychczas pomiaru dokonuje sie za pomoca grzanej struny, która zanurza sie w aparacie flu¬ idalnym. Znana jest równiez metoda wykorzystu¬ jaca zjawisko barbotazu poelgajaca na zanurzeniu w reaktorze fluidalnym rurki przez która tlo¬ czy sie medium zazwyczaj gazowe, a spadek cis¬ nienia lub ilosc wyplywajacego medium z rurki próbuje sie utozsamiac z wysokoscia warstw.Miernik wedlug wynalazku ma sonde pomiaro¬ wa, która zawiera co najmniej jedna pare czuj¬ ników rezystancyjnych skladajaca sie z czujnika pomiarowego i czujnika kompensacyjnego, two¬ rzaca mostek Wheatstone'a, przy czym czujniki kompensacyjne umocowane sa w górnej czesci sondy a czujniki pomiarowe umocowane sa w dolnej czesci sondy w obszarze warstwy fluidal¬ nej a galezie mostka Wheatstone'a polaczone sa poprzez komutator z dyskryminatorem okienko¬ wym, który jest polaczony z rejestrem pamieci.Komutator polaczony jest z ukladem sterowania.Jezeli zaden z czujników pomiarowych nie jest zanurzony w warstwie, wszystkie mostki znajdu¬ ja sie w równowadze. Zanurzenie czujników w warstwie powoduje zmiane w warunkach wy¬ miany ciepla a przez to rozstrojenie mostków. 2 Powstajace napiecia niewywagi sa analizowane przez dyskryminator ustawiony na progowe na¬ piecie niewywagi. Pomiar poziomu warstwy po¬ lega na okresleniu liczby mostków znajdujacych sie w niewywadze, a przez to liczby czujników zanurzonych w warstwie.W rozwiazaniu wedlug wynalazku uzyskuje sie uniezaleznienie wskazan miernika od wlasnosci fizycznych i chemicznych warstwy.Miernik wedlug wynalazku umozliwia automa¬ tyzacje ilosci nadawy i odbioru czynnika fluidy- zowanego i poprawe jakosci procesu fluidalnego.Przedmiot wynalazku pokazany jest w przykla¬ dzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia sonde pomiarowa, a fig. 2 — schemat blokowy miernika.Miernik sklada sie z sondy pomiarowej 1, któ¬ ra zawiera co najmniej jedna pare czujników re- 20 zystancyjnych skladajaca sie z czujnika pomia¬ rowego Rpi, Rpj, Rpg ... RpN, czujnika kompen¬ sacyjnego Rki, Rki, Rk« ... RkN, tworzaca mostek Wheatstone^, przy czym czujniki kompensacyj¬ ne Ru, Rk* Rk, ... RkN umocowane sa w górnej 25 czesci sondy 1, a czujniki pomiarowe umocowane sa w dolnej czesci sondy 1 w obszarze warstwy fluidalnej, a galezie mostka Wheatstone'a pola¬ czone sa poprzez komutator 2 z dyskryminato¬ rem okienkowym 3, który jest -polaczony z reje- 10 15 1250483 strem pamieci 4. Komutator 2 polaczony jest z ukladem sterowania 5.Zasada dzialania miernika poziomu warstwy fluidalnej jest nastepujaca: Umieszczone w sondzie pomiarowej czujniki rezystancyjne laczone sa po dwa Rpi — Rki, RP*— — Rkj ... RpN —RkN w ramiona mostków Wheat- stone'a. Czujniki kompensacyjne Ru, R*2 ... RkN sa umocowane w górnej czesci sondy 1 tak, aby nie mogly znalezc sie w obszarze warstwy flu¬ idalnej a jedynie w obszarze czynnika fluidyzu- jacego. Czujniki pomiarowe Rpi, Rpf, ... RpN mo- ga^znaldowBO* su* w obszarze tejze warstwy. Za¬ silanie wszystlcich mostków pomiarowych odbywa :sie ze wspólnego zródla pradu. Przeplyw pradu pr^z^cjujnilki powoduje ich nagrzewanie. Stan, w**którym ^a^en^z czujników nie jest zanurzony wT warstwie fluidalnej zapewnia jednakowe wa¬ runki wymiany ciepla pomiedzy nagrzewanymi czujnikami a otaczajacym je osrodkiem, co wy¬ równuje ich temperatury oraz rezystancje.Wszystkie mostki znajduja sie wiec w równowa¬ dze, a napiecia niewywagi sa równe zero. Napie¬ cia niewywagi sa podawane przez komutator 2 na dyskryminator okienkowy 3 ustawiony na pro¬ gowe wartosci napiecia odpowiadajace obecnosci warstwy. Zanurzenie w warstwie czujników po¬ miarowych zaklóca równowage mostków w któ¬ rych czujniki te wystepuja.Powstajace przy tyim napiecia niewywagi prze¬ kraczaja próg zadzialania dyskryminatora 3.Uklad sterowania 5 przelacza równoczesnie komu¬ tator 2 oraz rejestr pamieci 4 do którego wpisy¬ wana jest informacja o tym które z czujników sa zanurzone w warstwie. Kazdorazowy obieg komutatora 2 zmienia stan rejestru pamieci 4 tak, ze w rejestrze znajduje sie aktualna informacja o poziomie warstwy. 5 048 ¦ . 4 Sygnal ze zródla pradu wplywa do zestawów czujników rezystancyjnych, przy czym na wyj¬ sciach w zestawie tkwiacym w warstwie fluidal¬ nej wytwarza sie napiecie niewywagi, które przez 5 komutator 2 podawane jest do dyskryminatora okienkowego 3, a nastepnie kierowane ukladem sterowania 5 do odpowiedniej sekcji .rejestru pa¬ mieci 4 uruchamiajacej sygnal informacyjny.Srednica (lub srednice) ekwiwalentna czujnika 10 winna byc wieksza od srednicy ziarna.Material z którego wykonany jest czujnik wi¬ nien byc tak dobrany aby iloczyn jego gestosci i pojemnosci cieplnej byl mniejszy od 4 • 10* kG J 5 * m»~ kg K gdzie: . \ : ; J — dzul jednostka pracy, K topien Kel¬ wina.Zastrzezenia patentowe 1. Miernik poziomu warstwy fluidalnej, z son¬ da pomiarowa znamienny tym, ze sonda pomia¬ rowa (1) zawiera co najmniej jedna pare czujni- * ków rezystancyjnych, skladajaca sie z czujnika pomiarowego Rpi, Rp2, Rpt ... RpN i czujnika kom¬ pensacyjnego Ru, Rki, Rk ... RkN, tworzaca mo¬ stek Wiheatstone'a, przy czym czujniki kompensa¬ cyjne Rki, Rki, Rk* • •. RkN umocowane sa w gór- 10 nej czesci sondy <1) a czujniki pomiarowe umo¬ cowane sa w dolnej czesci sondy (1) w obszarze warstwy fluidalnej, a galezie mostka Wheatsto- ne'a polaczone sa poprzez komutator (2) z dy- skryminatorem okienkowym (3), który jest pola- 35 czony z rejestrem ^pamieci (4), 2. Miernik wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze komutator (2) polaczony jest z ukladem sterowa¬ nia (5). \ i125 048 do czesci \ elektrycznej DR KN nR DR K3 K2 R M nR 3R PN P3 OBSZAR CZYNNIKA FLUIDYZIDACEGO DR P2 DR pi OBSZAR WARSTWY FIG 1125 048 s g z)^:^j rJ eHI—\ o U- Drukarnia Narodowa, Zaklad Nr 6, 648/84 Cena 100 zl PL