Przedmiotem wynalazku jest sposób oddzielania od scianek pojemnika materialów sypkich o róznym rozdrobnieniu oraz urzadzenie do oddzielania od scianek pojemnika materialów sypkich o róznym rozdrobnieniu. s Sposób i urzadzenie wedlug wynalazku sa wyko¬ rzystywane korzystnie do oddzielania przymarznie- tych bryl do scianek odkrytych wagonów, transpor¬ tujacych wegiel, piasek, zwir, materialy budowlane, rudy i podobne im materialy dla potrzeb energe- 10 tycznych i dla róznych innych galezi przemyslu.Przy zastosowaniu sposobu i urzadzenia wedlug wynalazku mozna efektywnie walczyc z tworzeniem sie skorupy z wegla i pylu weglowego na scianach zasobników w elektrowniach, oczyszczac powierz- 15 chnie nagrzewania z nawarstwien popiolów, usu¬ wac korki cementowe z betoniarek, usuwac lód z poszycia statków i urzadzen latajacych. Niniejszy wynalazek moze byc wykorzystany i do innych operacji tam, gdzie potrzebne jest zastosowanie ude- 20 rzania o duzej mocy w przeciagu krótkiego okresu czasu.Znany jest ze swiadectwa autorskiego ZSRR nr 326121 ki B. 656 65/70 sposób oddzielania sypkich materialów od scianek pojemnika polegajacy na M tym, ze pojemnik w którym znajduje sie material sypki jest poddawany periodycznemu mechanicz¬ nemu potrzasaniu. W rezultacie przylepiony albo przymarzniety material oddziela sie od scianek.Urzadzenie dla realizacji tego sposobu zawiera * zmontowane wokól pojemnika udarowe mlotki* wspólpracujace z zamocowanymi na- walach profilo¬ wanymi wodzikami W wyniku niewielkich przy¬ spieszen jakie maja szeroko stosowane mlotki uda¬ rowe, oddzielenie sypkich materialów od scianek pojemnika jest malo efektywne, pracochlonne i cza¬ sochlonne. Urzadzenie ma duze wymiary i zlozona konstrukcje przez co nie zapewnia ochrony oczysz¬ czonej powierzchni przed uszkodzeniem.Znany jest sposób oddzielenia sypkich materialów o róznej dyspercji od scianek pojemnika z opisu patentowego Wielkiej Brytanii nr 1407859, który po¬ lega na akumulacji energii podawanej ze zródla za¬ silania i wykorzystaniu tej energii dla generowania pojedynczego mechanicznego impulsu o czasie trwa¬ nia nie dluzszym niz 0,01 sek. na powierzchni me¬ talu dla wytworzenia w nim sprezystego odksztal¬ cenia. W urzadzeniu dla realizacji tego sposobu jako zespól akumulujacy zastosowano baterie kondensa¬ torów polaczona z elektromagnetyczna cewka, po¬ przez urzadzenie wyladowcze. * Elektromagnetyczna cewka zamocowana jest bez¬ posrednio do scianki pojemnika. Energia elektrycz¬ na zgromadzona w baterii kondensatorów wzbudza w cewce przy zamykaniu obwodu silne pole elek¬ tryczne, które odzialywuje na powierzchnie scianki wzbudzajac w niej pole elektromagnetyczne. Wza¬ jemne oddzialywanie tych dwóch pól powoduje ge¬ nerowanie mechanicznego impulsu w sciance pojem¬ nika. Z kolei imupls ten powoduje ugiecie scianki 123 374123 374 3 4 i oddzielenie od niej przyklejonego albo przymar- znietego materialu. Sila generowania mechanicznego impulsu jest rózna dla róznych materialów i róznych grubosci scianki, a dla scianek wykonanych z ma¬ terialu niemetalowego, generowanie takiego impulsu jest niemozliwe.Aby uzyskac zalozony efekt konieczne jest zamo¬ cowanie metalowej siatki albo nakladki na tych sciankach, co nieuchronnie zwieksza sztywnosc kon¬ strukcji scianek pojemnika, a poniewaz zasada pra¬ cy urzadzenia oparta jest o ugiecia scianki poprzez oddzialywanie pola elektromagnetycznego, to w przypadku zwiekszania sztywnosci scianki od¬ dzielanie sypkiego materialu zmniejsza sie.Znany jest równiez z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2698102 sposób i urza¬ dzenie do oddzielania sypkich materialów od scia¬ nek pojemnika, przy czym sposób polega na dzia¬ laniu pola elektromagnetycznego, poprzez posredni czlon wytwarzajacy pojedynczy impuls sily dziala¬ jacy na scianke dla wzbudzenia w niej drgan wlas¬ nych. W tym przypadku pole elektromagnetyczne akumuluje sie w posrednim czlonie, to jest naste¬ puje zamiana energii pola elektromagnetycznego w energie mechaniczna, która przemieszcza posredni czlon w kierunku oczyszczanej scianki.Urzadzenie dla oddzielania sypkich materialów o róznym rozdrobnieniu od scianek pojemnika, we¬ dlug tego patentu, zawiera zródlo elektrycznego pradu, elektromagnetyczna cewke zamocowana na plycie i polaczona ze zródlem pradu elektrycznego, której pole magnetyczne wspólpracuje z posrednim czlonem oddzialujacym na scianke pojemnika. Urza¬ dzenie dziala na zasadzie oddzialywania pola elek¬ tromagnetycznego, elektromagnetycznej cewki i po¬ sredniego czlonu w postaci ferromagnetycznego rdze¬ nia. Urzadzenie zuzywa bardzo duzo energii elek¬ trycznej ze wzgledu na dlugi okres czasu dzialania impulsu sily na scianke pojemnika.Ponadto urzadzenie nie umozliwia efektywnego oddzielenia materialu od scianek pojemnika, a przy dazeniu do uzyskania chocby sredniego efektu od¬ dzielania zwiekszaja sie wymiary urzadzenia i po¬ wstaje niebezpieczenstwo uszkodzenia oczyszczonej powierzchni.Celem niniejszego wynalazku jest opracowanie sposobu oddzielania sypkich materialów o róznym rozdrobnieniu od scianek pojemnika, o takich para- merach, które umozliwialyby efektywne wyladowa¬ nie materialu o róznej dyspersji z pojemnika i po¬ zwalaly na uzyskanie w obrabianych powierzchniach sprezystych odksztalcen takich, aby zmniejszyc stra¬ ty energetyczne i umozliwic praktycznie oczyszcza¬ nie scianek o dowolnych grubosciach i z materia¬ lów o dowolnych wlasnosciach fizykochemicznych.Celem wynalazku jest skonstruowanie urzadzenia do oddzielania od scianek pojemnika materialów sypkich, o róznym rozdrobnieniu, który umozliwial¬ by regulacje parametrów, niezbednych dla nieza¬ wodnego usuniecia materialu przylepionego albo przymarznietego do powierzchni pojemnika.Cel ten zostal osiagniety przez opracowanie spo¬ sobu oddzielania materialów sypkich o róznym roz¬ drobnieniu od scianek pojemnika za pomoca oddzia¬ lywania elektrycznego poprzez posredni czlon wy- twrzajacy pojedynczy impuls sily dzialajacy na scianke, wzbudzajac w niej drgania wlasne, polega¬ jacy na tym, ze pole elektromagnetyczne wytwarza sie za pomoca pradu impulsowego i akumuluje sie energie pola elektromagnetycznego dla wytworzenia jedynego impulsu w posrednim czlonie w czasie nie mniej niz 10"*s i dla wzbudzenia drgan wlasnych w sciance pojemnika, nadaje sie posredniemu czlo¬ nowi przyspieszenie nie mniejsze niz 100 g.Umozliwia to oddzielanie materialu od scianek pojemnika w najbardziej efektywny sposób, wyko¬ rzystujac przy tym zakumulowana energie ladunku elektrycznego, przetworzona w impuls sily, przy czym prad impulsowy wytwarza zmienne pole elek¬ tryczne, które akumuluje sie jako energia mecha¬ niczna w posrednim czlonie nadajac mu zwiekszone przyspieszenie wieksze od 100 g, w kierunku obra¬ bianej powierzchni. W rezultacie tego przemieszcza¬ jacy sie z duzym przyspieczeniem posredni czlon przy uderzeniu o scianke pojemnika ma duza jed¬ nostkowa moc wystarczajaca do pokonania sily ad¬ hezji przylepionego albo przymarznietego materia¬ lu, co powoduje obnizenie strat energetycznych i rozszerza zakres zastosowania sposobu wedlug wy¬ nalazku.Dla scianek o duzej grubosci nawarstwienia ko¬ rzystne jest aby podczas narastania amplitudy drgan wlasnych scianek pojemnika do wartosci maksymal¬ nej wystepuje powtórne zadzialanie na scianke im¬ pulsem sily, dla spowodowania rezonansu drgan w sciance pojemnika. Umozliwia to zwiekszenie efektywnosci oddzielania sypkiego materialu o róz¬ nym rozdrobnieniu poprzez naruszenie sil inercji scianki pojemnika bez zwiekszania energii impulsu sily. Jezeli pierwszy impuls sil przy wiekszych na¬ warstwieniach wykorzystuje sie do pokonania sil inercji scianki, to cala sile drugiego impulsu wy¬ korzystuje sie na pokonanie sil adhezji.Powtórny impuls sily nalezy przykladac do plasz¬ czyzny, koncentrycznie obejmujacej plaszczyzne scianki pojemnika, do której jest przylozony pierw¬ szy impuls. Umozliwia tq wywolanie rezonansowych drgan scianki na wiekszej jej powierzchni, a takze zwiekszenie plaszczyzny oczyszczanej powierzchni i wyeliminowanie przedwczesnego wygasania drgan scianki pojemnika.Cel wynalazku zostal osiagniety równiez przez za¬ projektowanie urzadzenia do oddzielania materia¬ lów sypkich o róznym rozdrobnieniu od scianek po¬ jemnika, zawierajacego zródlo pradu elektrycznego, usytuowana na plycie cewke elektromagnetyczna polaczona ze zródlem pradu elektrycznego, której pole magnetyczne wspólpracuje z czlonem posred¬ nim, oddzialywujacym na scianke pojemnika, w któ¬ rym posredni czlon w którym akumuluje sie energie pola elektromagnetycznego w ciagu nie mniej niz 10~* s, jest usytuowany pomiedzy scianka pojem¬ nika i cewka elektromagnetyczna i wspólpracuje z elementem ruchomym cewki przy wytworzeniu w niej pola elektromagnetycznego.Umozliwia to znaczne zmniejszenie procesów przejsciowych, zachodzacych w posrednim czlonie przy zmianie energii elektrycznej w mechaniczna, tym samym polepsza charakterystyki czlonu.Korzystnie wspólpraca posredniego czlonu z cew- 10 15 20 25 30 35 48 50 55 60123 374 5 6 ka elektromagnetyczna jest realizowana za pomoca elementu ruchomego w postaci podpartego sprezy¬ na trzonu. Umozliwia to powrót posredniego czlonu do polozenia wyjsciowego po uderzeniu w scianke pojemnika.Korzystnie urzadzenie zawiera uzupelniajaca ply¬ tke o duzej przewodnosci elektrycznej, usytuowana naprzeciw posredniego czlonu od strony cewki elek¬ tromagnetycznej i polaczona z jarzmem poprzez pod¬ party sprezyna trzon, jarzmo, usytuowana wspól¬ osiowo z cewka elektromagnetyczna i polaczona z dodatkowa plytka przez mechanizm dla przekazy¬ wania sil z plytki na jarzmo, tuleje, w której dol¬ nej czesci zamocowana jest dodatkowa plytka, zas na bocznej czesci — mechanizm przekazujacy sily z dodatkowej plytki na jarzmo, przy czym tule¬ ja jest usytuowana pomiedzy elektromagnetyczna cewka i jarzmem z mozliwoscia przemieszczenia oraz polaczona z plyta za pomoca sztywnych ele¬ mentów.Taki wariant wykonania urzadzenia umozliwia zwiekszenie efektywnosci stracenia przylepionego materialu w wyniku powtórnego dodatkowego za¬ dzialania na scianke pojemnika i wytworzenie w niej drgan rezonansowych. Urzadzenie umozliwia powtórne dodatkowe zadzialanie na scianke w okre¬ sie wzrostu amplitudy drgan wlasnych scianki po¬ jemnika do wartosci maksymalnej, spowodowanych pierwszym uderzeniem, przy Czym powtórny impuls sily jest przylozony do plaszczyzny, koncentrycznie obejmujacej rejon plaszczyzny scianki pojemnika, do której jest przylozony pierwszy pojedynczy im¬ puls sily.Na jarzmie od strony scianki pojemnika jest za¬ mocowany kolnierz, majacy otwory, w których sa usytuowane podparte sprezynami szpilki. Umozliwia to regulacje usytuowania urzadzenia wzgledem scianki pojemnika w zaleznosci od grubosci scianki i grubosci nawarstwionego materialu, a takze fizy- komechanicznych wlasciwosci nawarstwionego ma¬ terialu i materialu scianki oraz zmniejszenie kon¬ taktowych naprezen przy uderzeniu jarzma w scian¬ ke.Mechanizm do przekazywania sil z dodatkowej plytki na jarzmo, stanowi korzystnie wahacz, prze¬ gubowo polaczony z wspornikiem kolnierza, zamo¬ cowany na dodatkowej plytce albo zespól nurników, usytuowanych w korpusie z polaczonymi wnekami wypelnionymi robocza ciecza, korzystnie hydropla- stem. Umozliwia to zapewnienie wlasciwego odste¬ pu pomiedzy pierwszym i dodatkowym impulsem sily, a takze regulacje charakterystyk predkosci i po¬ wtórnego oddzialywania sily.Korzystnie tuleje i jarzmo wykonuje sie z wzdluz¬ nymi rozcieciami na ich cylindrycznych powierzch¬ niach, usytuowanymi symetrycznie wzgledem cewki elektromagnetycznej. Pozwala to na zmniejszenie efektu powstawania w tulei i jarzmie pradów wi¬ rowych, zaklócajacych prace urzadzenia i powodu¬ jacych straty energetyczne.Jarzmo i tuleja korzystnie wykonane sa z mate¬ rialu o slabych wlasnosciach magnetycznych albo niemagnetycznych. Wyklucza to albo znacznie zmniejsza straty energii pola elektrycznego.Korzystne jest aby urzadzenie bylo zaopatrzone w zamocowana do posredniego czlonu nakladke, wykonane w ksztaltcie plaskiej figury, równoleglej do scianki pojemnika przechodzacej przez wierzcho¬ lek wygiecia tej scianki i ograniczonej krzywa, któ^ rej wszystkie punkty sa miejscem geometrycznym punktów przeciecia stycznych do powierzchni wy¬ giecia, wyprowadzonych z punktów poczatkowych wygiecia scianki ze wspomniana plaszczyzna, przy czym minimalna dlugosc obwodu krzywej jest okres¬ lona wzorem. gdzie: K — wspólczynnik dynamiczny impulsu sily F — wielkosc przylozonego impulsu w (N] b — grubosc plytki w {mm] [6] — dopuszczalne naprezenie na zerwanie mate¬ rialu scianki, [N/mmf], przy czym w przekrojach prostopadlych do wspomnianej plaszczyzny, na¬ kladka wykonana jest z promieniami krzywizny nie mniejszymi od maksymalnych promieni krzy¬ wizny wygiecia scianki.Umozliwia to zwiekszenie efektywnosci rozlado¬ wywania droga równomiernego rozlozenia obciaze¬ nia na scianki pojemnika przy zadzialaniu impulsu sily.Do posredniego czlonu od strony scianki pojem¬ nika korzystnie mocuje sie jeden koniec drazka utrzymujacego na swoim drugim koncu oporowy czop, przy czym w sciance pojemnika wykonuje sie otwory, przez które przechodzi wspomniany drazek, zakrywane od strony wewnetrznej elastyczna plyt¬ ka, na która dziala oporowy czop. Umozliwia to pod¬ wyzszenie efektywnosci oddzielenia przylegajacych nasypanego materialu od pojemnika o sciankach o duzej grubosci, wykonanych przykladowo z be¬ tonu.Przedmiot wynalazku zostal zilustrowany w przy¬ kladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urzadzenie wedlug wynalazku w prze¬ kroju z uwidocznieniem kinematycznego polaczenia posredniego czlonu z cewka elektromagnetyczna, wykonanym w postaci podpartego spezyna trzonu, w przekroju fig. 2 — urzadzenie wedlug wynalazku, w innym przykladzie wykonania, z regulacyjnymi podporami i kinematycznym polaczeniem pomiedzy posrednim czlonem i cewka elektromagnetyczna, wykonanym w postaci solenoidu z trzonem w prze¬ kroju, fig. 3 — schemat oddzielenia materialu od scianki przy wykorzystaniu drugiego impulsu sily, wywolujacego drgania rezonansowe, fig. 4 — urza¬ dzenie w innym przykladzie wykonania, z podaniem dodatkowego impulsu sily, majace mechanizm prze¬ kazywania dodatkowej sily plytki na jarzmo, wyko¬ nanym w postaci wahacza, w przekroju, fig 5 — urzadzenie jak na fig. 4 — w przekroju Y ¦— Y, fig. 6 — urzadzenie z zespolem nurników, dla prze¬ niesienia dodatkowego udaru w przekroju, fig. 7 — urzadzenie ze sztywno zamocowana do posred¬ niego czlonu nakladka, w przekroju, fig. 8 — sche¬ mat konstrukcji krzywizny nakladki, fig. 9-14 -*¦ rózne ksztalty nakladek w styku w zaleznosci do ksztaltu oczyszczanej powierzchni, fig. 15 — urza¬ dzenia do czyszczenia scianek o duzej grubosci, wy¬ konanych przykladowo z betonu, fig. 16 — urzadze* it u ao 25 a ss u 80 U to123 374 7 8 ni* do oddzielania materialu o róznym rozdrobnie¬ niu ipr^y rozladowywaniu weglarek z zamarzniety¬ mi brylami, fig. 17 — urzadzenia dla oddzielania materialu o róznym rozdrobnieniu przy skladowaniu wegla w zasobnikach.Sposób oddzielania sypkich materialów o róznym rozdrobnieniu od scianek pojemnika jest prowadzo¬ ny nastepujaco. Do urzadzenia 1 (fig. 1), a zwlaszcza do jego plaskiej elektromagnetycznej cewki 2, po¬ laczonej ze zródlem 3 pradu impulsowego, w krót¬ kim okresie czasu podaje sie impuls pradu, wytwa¬ rzajacy w elektromagnetycznej cewce 2 zmienne pole elektromagnetyczne. Czas dzialania takiego pola i odpowiednio czas jego akumulowania w posred¬ nim czlonie 4 ustala sie jako mniejszy niz 10-* s.Akumulowanie energii pola elektromagnetyczne¬ go polega na tym, ze pole wzbudza w posrednim czlonie 4 prady wtórne, wytwarzajace wlasne pole elektromagnetyczne. W wyniku wzajemnego oddzia¬ lywania, tych dwóch pól energia elektryczna w po¬ srednim czlonie 4 ulega zmianie w mechaniczna, przemieszcza posredni czlon 4 od elektromagnetycz¬ nej cewki 2 w kierunku do obrabianej powierzchni, z przyspieszeniem wiekszym od 100 g to jest z przy¬ spieszeniem 981 m/s*.Opisany sposób jest realizowany za pomoca urza¬ dzenia 1, które zawiera plaska elektromagnetyczna cewke 2, polaczona ze zródlem 3 pradu impulsowe¬ go, które razem z elektromagnetyczna cewka 2 wy¬ twarza pole elektromagnetyczne, wzajemnie oddzia¬ lywujace z posrednim czlonem, wykonanym w po¬ staci plytki 4 z paramagnetyku albo diamagnetyku o wysokiej przewodnosci pradu. Takie wykonanie plytki 4 umozliwia zwiekszenie efektu przetwarza¬ nia energii elektromagnetycznej w mechaniczna z najmniejszymi stratami.Poniewaz materialy maja niekorzystne wlasciwos¬ ci mechaniczne, to plytki 4 wprasowuje sie w me¬ talowa tuleje 5 albo na plytce 4, mocuje sie naklad¬ ke 6 (fig. 2). Cewka elektromagnetyczna 2 jest umieszczana w korpusie wykonanym z dielektryka, przykladowo laminatu szklanego albo uksztalto¬ wanym z dowolnej kompozycji polimerów charak¬ teryzujacej sie korzystnymi wlasciwosciami dielek¬ trycznymi i mechanicznymi, co obniza straty ener¬ getyczne. Korpus 7 mocuje sie do jarzma 8 (fig. 1) W urzadzeniu 1 wspóldzialanie plytki 4 z cewka elektromagnetyczna 2 uzyskano za pomoca rucho¬ mego elementu — trzonu 9, majacego kulista glów¬ ke 10, osadzona w stozkowym gniezdzie 11 tulei 5.Umozliwia to oczyszczanie nierównych powierzchni pojemnika. Dla przemieszczenia pyltki 4 w wyjs¬ ciowe polozenie po wykonaniu pracy zastosowano sprezyne 12, zamocowana centrycznie z panewkami 13 i 14. Do regulacji sprezyny 12 zastosowano na¬ kretke 15. Dla ochrony elektromagnetycznej cewki 3, na korpusie zamocowano nakladke 16, a dla whrony jarzma Z przed wilgocia i pylem stosuje sie zaslepke 17.Na ggurze 2 jest uwidoczniona oczyszczana scian¬ ka 18 pojemnika z przylepionym albo przymarznie- tym do niej materialem 19 o róznym rozdrobnieniu.Plytka 4, ma grubosc 16] cm i jest usytuowana w odstepie [a] cm, wzgledem scianki 18. Cewka -tJAttwnagnHyczna 2, w tym przykladzie wykona¬ nia ma postac miedzianej szyny indukcyjnosci [Xi] cm.Grubosc [6] plytki 4 wyraza sie nierównoscia S L«10-8+0,4 uzyskana na podstawie eksperymen- f tów. Nierównosc ta umozliwia dostosowanie urza¬ dzenia do róznych warunków pracy w zaleznosci od grubosci {6] scianki 18 i nalozonej na nia warstwy oraz sil adhezji, a takze umozliwia maksymalna za¬ miane elektromagnetycznej energii w energie me¬ chaniczna. Prócz tego stosunek grubosci (5] do od¬ stepu (a) powinien byc równy albo wiekszy niz 0,3.Taki stosunek umozliwia otrzymanie optymalnej dlugosci rozbiegu plytki 4 w czasie dzialania pola elektromagnetycznego cewki 2, co umozliwia prace urzadzenia na powierzchniach majacych technolo¬ giczne nierównosci i w pewnej odleglosci od scianek 18 pojemnika. Zródlo 3 pradu impulsowego podaje impuls na zaciski 20, wysokonapieciowego prostow¬ niczego bloku 21, akumulacyjnego bloku 22, przy¬ kladowo baterii kondensatorów z kabla 23 wyso¬ kiego napiecia zespolu 24 rozladowania.Dla przesuwu plytki 4 w wyjsciowe polozenie wykorzystano urzadzenie elektromagnetyczne, gdzie rdzeniem ferromagnetycznym jest trzon 9 usytuo¬ wany w solenoidzie 25 i majacy ferromagnetyczny korpus 26, na którym zamocowany jest kolnierz 27, dla polaczenia urzadzenia 1 z mechanizmem 28. So- lenoid 25 jest polaczony ze zródlem 29 pradu. Za¬ kres ruchu trzonu 9 ustala sie za pomoca nakretki 30 z podkladka 31. Odstep (a) pomiedzy plytka i scianka 18 pojemnika jest ograniczony podporami 32 regulacyjnymi, usytuowanymi we wspornikach 33, które sa zamocowane na diselektrycznym kor¬ pusie 7. Ilosc takich podpór 32 umozliwia regulacje odstepu (a) w szerokim zakresie w zaleznosci od wielkosci sil adhezji.Urzadzenie 1 dla oddzielania materialów sypkich o róznym rozdrobnieniu od scianek 18 pojemnika dziala w nastepujacy sposób. Urzadzenie 1 za po¬ moca mechanizmu 28 dosuwa sie do scianki 18 po¬ jemnika i za pomoca regulowanych podpór 32 usta¬ wia sie zadany odstep (a), pomiedzy plytka 4 i scian¬ ka 18 pojemnika, po czym na wejsciowy zaciek 20 podaje sie zmienne napiecie 220 V. Napiecie poda¬ wane jest na baterie 22, kondensatorów która po naladowaniu rozladowuje sie poprzez zespól 24 roz¬ ladowania na elektromagnetyczna cewke. Cewka 2 wytwarza pole elektromagnetyczne dzialajace na plytke 4, w której wzbudza sie wtórne pole elektro¬ magnetyczne i w rezultacie czego zachodzi odpy¬ chanie plytki 4 od elektromagnetycznej cewki 2.Uderzenie plytki 4 poprzez tuleje 5 albo nakladke 6 w scianke 18 pojemnika powoduje wygiecie scian¬ ki 18 w zakresie odksztalcen sprezystych. Szybkosc przesuwu plytki 4 Jest bardzo duza, przykladowo jest wieksza od 100 g, gdzie g — przyspieszenie ziemskie. W porównaniu z jej niewielka masa, ener¬ gia plytki jest wystarczajaca dla pokonania sil ad¬ hezji przylepionego materialu i oddzielenia mate¬ rialu od scianki 18 pojemnika bez uszkodzenia oczyszczanej powierzchni.Dla scianek 18 pojemnika z nawarstwieniami z materialu 19 (fig. 3) o róznym rozdrobnieniu i róz¬ nej grubosci, przykladowo pylu weglowego w okre¬ sie wzrostu amplitudy drgan wlasnych scianki 18 10 159 12? 374 10 pojemnika do wartosci maksymalnej powtórnie dzia¬ la sie na scianke 18 impulsem sily, którego okres trwania jest nie dluzszy niz jedna czwarta okresu drgan wlasnych, wytwarzajac na sciance 18 pojem¬ nika drgania rezonansowe. Przy powtórnym dziala¬ niu sily na scianke 18 pojemnika impuls sily przy¬ klada sie do plaszczyzny koncentrycznie otaczajacej plaszczyzne scianki 18 pojemnika, do której przylo¬ zono pierwszy pojedynczy impuls sily.Urzadzenie dla realizacji tego sposobu zawiera wysokonapieciowy prostowniczy blok 21, akumula¬ cyjny blok 22 baterie kondensatorów, rozladowuja¬ cy blok 34, cewke elektromagnetyczna 2 polaczona z plytka 4 i dodatkowa plytka 35 wykonana z ma¬ terialu o wysokiej przewodnosci elektrycznej. Urza¬ dzenie przesuwa sie do scianki 18 pojemnika, do której jest przylepiony material 19, przykladowo pyl weglowy.Uderzenie w scianke 18 pojemnika plytka 4 przy duzych grubosciach nawarstwien rozklada sie na pokonywanie sil inercji scianki 18 pojemnika z przylepionym materialem 19, przez wytworzenie w sciance 18 pojemnika drgan wlasnych. Dodatko¬ we uderzenie plytki 25 powoduje rezonans drgan scianki 18 pojemnika i jest wykorzystane do po¬ konania sil adhezji scianki 18 pojemnika i materia¬ lu 19 o róznym rozdrobnieniu.Urzadzenie dla wytwarzania podwójnego uderza¬ nia i rezonansu drgan scianki 18 pojemnika zawiera elektromagnetyczna cewke 2, usytuowana w diaelek- trycznym korpusie 7, polaczona ze zródlem 3 pradu impulsowego i usytuowana na plycie 36. Pomiedzy scianka 18 pojemnika i cewka elektromagnetyczna 2 jest usytuowana plytka 4 o duzej przewodnosci elektrycznej, polaczona poprzez podparty sprezyna trzon 9 z kulista glówka.10, z dodatkowa plytka 35, do której zamocowuje sie kolnierz 37. Trzon 9 do¬ ciska obie plytki 4 i 35 do korpusu cewki elektro¬ magnetycznej 2 za pomoca sprezyny 12. Docisk re¬ guluje sie nakretka 15. Plytka 4 jest zamocowana .sztywno w niemagnetycznej metalowej tulei 36.W cylindrycznej czesci tulejki 38 wykonane sa na¬ ciecia 39, usytuowane symetrycznie wzgledem cewki elektromangetycznej i prostopadle do podstawy kor¬ pusu 7, przeznaczone dla zmniejszenia efektu po¬ wstawania pradów wirowych.Na kolnierzu 37 zamocowane sa wsporniki 40 (fig. 4, 5). Jarzmo 41 usytuowane wspólosiowo z cewka elektromagnetyczna 2 (fig. 4) ma od strony scianki 18 pojemnika kolnierz 42, a po przeciwnej stronie — obrzeze 43. Na wspornikach 40 jest zamocowany, mechanizm dla przekazywania sily od dodatkowej plytki 35 na jarzmo 41. Na fig. 4, 5 mechanizm ten jest wykonany w postaci wahacza 44, zamocowane¬ go przegubowo za pomoca osi 46, na wspornikach 40 kolnierza 37 i przekazujacego sily na obrzeza 43 jarzma 41. Material i naciecia 39 w jarzmie 41, sa takie jak dla tulei 38. Reakcja od pracy wahacza 44 przenosi sie na wsporniki 45, w których wykona¬ ne sa szczeliny.Jarzmo 41 ma kryze 47 (fig. 5) z otworami dla usytuowania w nich szpilek 48 (fig. 4) regulacji od¬ stepu [a]. Regulacje dokonuje sie za pomoca nakre¬ tki 49, pomiedzy która i kryza 47 umieszczona jest sprezyna 50.Urzadzenie dosuwa sie do oczyszczania scian 18 pojemnika z przyczepionym do niej materialem 19 x róznym rozdrobnieniu za pomoca plyty 36. Urza¬ dzenie mocuje sie do plyty 36 za pomoca szpilek 5 51 przyspawanych albo przykreconych do wsporni¬ ków 45. Na szpilki 51 nalozone sa nakretki 52, a po¬ miedzy wspornikiem 45 i plyta 36 usytuowane sa sprezyste elementy wykonane przykladowo w po¬ staci gumowych panewek 53. Sila docisku jest ogra¬ niczona sztywnoscia elementu tak, aby po rozpo¬ czeciu pracy urzadzenia odstep [b] pomiedzy plyta 36 i nakretka 52 pozostal tej samej wielkosci. Prócz tego odstep [b] powinien byc nieco wiekszy od od¬ stepu [a].Zródlo 3 pradu impulsowego ma wejsciowe styki 20, wysokonapieciowy prostowniczy blok 21, zwiek¬ szajacy wejsciowe napiecie i zmieniajacy prad zmieny w staly, akumulujacy blok 22, przykladowo baterie kondensatorów, kabel 22 wysokiego napiecia i zespól 24 rozladowania. Wyjsciowe napiecie moze, przykladowo byc regulowane od 1,0 do 5,0 kV. Rów¬ nolegle do obwodu wysokonapieciowego prostowni¬ czego bloku 21 na wyjsciu podlaczona jest bateria kondensatorów 22 o pojemnosci [C]. Baterie 22 la¬ czy sie z elektromagnetyczna cewka 2 poprzez zes¬ pól rozladowujacy 24 i kabel 23 wysokiego napiecia.Na figurze 6 uwidoczniono mechanizm dla prze¬ kazywania sil od dodatkowej plytki 35 na jarzmo 41, wykonany jako para nurników 54 i 55, usytuo¬ wanych w korpusie 56, w którym sa wneki wypel¬ nione robocza ciecza 57, korzystnie hydroplastem albo olejem. Korpus 56 jest zamocowany na stale do tulei 38 i do wspornika 45.Urzadzenie pracuje w sposób nastepujacy. Za po¬ moca plyty 36 (fig. 4) urzadzenie poprzez gumowe panewki 53, wsporniki 45 i tuleje 38 mocuje sie bez odstepu, do scianki 18 pojemników, a nastepnie za pomoca szpilek 48 i sprezyny 50, pomiedzy scian¬ ka 18 pojemnika i kryza 42 jarzma 41 nastawia sie odstep [a]. Po osiagnieciu krytycznej warstwy ma¬ terialu 19 o róznym rozdrobnieniu na sciance 18 pojemnika wlacza sie napiecie wejsciowe Uwi do wysokonapieciowego prostowniczego bloku 21 zró¬ dla 3 pradu impulsowego. Wysokonapieciowy pro¬ stowniczy blok 21 laduje baterie kondensatorów 22 do zadanej pojemnosci [C].Po zakonczeniu ladowania wlacza sie zespól 24 rozladowania. Wyzwolona energia, zgromadzona w baterii kondensatorów 22 o niewielkim okresie czasu, przykladowo 0,001 s, plynie kablem 23 wy¬ sokiego napiecia do cewki elektromagnetycznej 2, gdzie powstaje krótkotrwale elektromagnetyczne pole o duzym natezeniu. Pole to wspóldziala z pa¬ ramagnetyczna plytka 4 i dodatkowa plytka 35, wy¬ twarzajac w nich pola wirowe. Pola wirowe gene¬ ruja z kolei oddzielne pole elektromagnetyczne.Wspóldzialanie tych pól powoduje wzajemne odpy¬ chanie sie obu plytek 4 i 35 i cewki 2.W przypadku £dy plytki 4 i 35 maja jednakowa mase i sklad fizykochemiczny, a takze ze wzgledów konstrukcyjnych urzadzenia w przyblizeniu równe masy, to zgodnie z prawem zachowania energii plytki 4 i 35 beda odsuwac sie od elektromagnetycz¬ nej cewki 2 z jednakowa predkoscia, a zatem na elektromagnetycznej cewce 1 powstana dwie sily 15 20 » JO 95 40 45 50 55 60m 374 11 12 reakcji, równe co do wielkosci i przeciwnie skierowa¬ ne, w rezultacie czego elektromagnetyczna cewka Z zachowa polozenie równowagi. Plytka 4 przemiesz¬ czajac sie z tuleja 38, szybko wygina scianke 18 po¬ jemnika, pokonujac przy tym sily inercji scianki 18.Przy duzych masach przylegajacego materialu 19 o róznym rozdrobnieniu i sztywnosci konstrukcji po¬ jemnika, sily inercji sa znaczne, dlatego tez pierw¬ szy silny impuls od plytki 4 jest wykorzystany je¬ dynie do pokonania sil inercji. Równoczesnie do¬ datkowa plytka 35 przemieszcza wahacz 44 wzgle¬ dem wspornika 45 w nacieciu 39 przekazujac dzia¬ lanie sily na obrzeze 43. Sila ta powoduje ruch jarzma 41 w kierunku scianki 18 pojemnika. Oprócz tego w punkcie polaczenia wspornika 45 z waha¬ czem 44 dziala dodatkowa sila, która podwaja sile przemieszczania jarzma 41, w ramach odstepu (a).Po pierwszym impulsie sily podawanym na scianke 18 pojemnika wytwarza sie powtórny impuls sily.Ten powtórny impuls pochodzi od uderzenia kolnie¬ rza 42 o scianke 18 pojemnika i powstaje w okresie wzrostu amplitudy drgan to jest w przedziale do 1/4 okresu, od 3/4 do 5/4 okresu drgan wlasnych scianki i tak dalej.Dzieki temu, ze okres drgan wlasnych scianki 18 pojemnika jest znacznie wiekszy, od czasu pokona¬ nia przez jarzmo 41 odstepu (a). Praktycznie po¬ wtórny impuls sily nastepuje w pierwszej cwiartce okresu drgan wlasnych scianki 18 pojemnika, wy¬ zwalajac tym samym w niej krótkotrwaly rezonans, co umozliwia pokonanie sily adhezji pomiedzy czast¬ kami materialu 19 o róznym rozdrobnieniu oraz po¬ miedzy czastkami scianka 18 pojemnika.Urzadzenie pracuje równiez w taki sam sposób przy zastosowaniu mechanizmu dla przekazywania sil z dodatkowej plyty 35 do jarzma 41, wykonanym w postaci pary nurników 54 i 55 (fig. 6).Do nadania ruchu dodatkowej plycie 35 z kol¬ nierzem 37 stosuje sie nurnik 54, przekazujacy sile poprzez robocza ciecz 57 nurnikowi 55. Nurnik 55 oddzialywuje na obrzeze 43. Praca urzadzenia prze¬ biega w tej samej kolejnosci. Ilosc naciec w tulei 53 (fig. 4) umozliwia regulacje sily w szerokich prze¬ dzialach i uwalnia konstrukcje urzadzenia od wibra¬ cji przekazywanych od scianki 18 pojemnika.Wykorzystanie urzadzenia wedlug wynalazku dla oddzielenia przyleglego materialu 19 o róznym roz¬ drobnieniu od scianek 18 pojemnika zapewnia obni¬ zenie strat energii, wysoki stopien automatyzacji i zwiekszenie czasu pracy urzadzenia.Dla uzyskania zwiekszenia efektywnosci wylado¬ wywania poprzez równomierne rozdzielenie zalado¬ wanego materialu na scianki 18 (fig. 7) pojemnika przy impulsie silowym celowe jest wyposazenie urzadzenia w zamocowana do plyty 4 nakladke 58 z usztywniajacymi zebrami 59, wykonana w ksztal¬ cie figury geometrycznej, lezacej w plaszczyznie równoleglej do scianki 18 pojemnika, przechodzacej przez wierzcholek wygiecia scianki 18 pojemnika i ograniczonej krzywa, której wszystkie punkty sa miejscem geometrycznym punktów przeciecia stycz¬ nych F, D do powierzchni wygiecia, prowadzonych z punktów A, B poczatku wygiecia scianki 18 (fig. 7) pojemnika, z plaszczyzna R (fig. 8).Ksztalt nakladki 58 (fig. 9-14) jest przystosowany do ksztaltu oczyszczanej powierzchni i jej sztywno¬ sci. Ze zwiekszeniem sztywnosci scianki 18 (fig. 7) pojemnika o dlugosci 1 (fig. 9-14) obwód nakladki 58 zmniejsza sie, jednak nie moze byc mniejszy niz wynika to z nierównosci: gdzie: K — wspólczynnik dynamiczny impulsu sily F — wielkosc przylozonego impulsu N 5 — grubosc plytki w mm [o] — dopuszczalne naprezenie na zerwanie ma¬ terialu scianki 18 w N/mm1.W przekrojach prostopadlych do plaszczyzny H (fig. 8), nakladka 58 (fig. 7) jest wykonana z pro¬ mieniem krzywizny, nie mniejszym od maksymal¬ nych promieni R (fig. 8) krzywizny wygiecia scianki 18 (fig. 7) pojemnika.Twardosc materialu roboczej czesci nakladki 58 nie powinna byc wieksza od twardosci materialu scianki 18 pojemnika.Taka konstrukcja nakladki 58 umozliwia znacznie rozszerzenie zastosowan urzadzenia, a takze zwiek¬ sza strefe oczyszczania i efektywnosc oddzielenia materialu 19, o róznym rozdrobnieniu dyspersji od scianek 18 pojemnika.Dla uproszczenia technologii wykonania nakladki 58 jej ksztalt moze byc uproszczony w stosunku do ksztaltu teoretycznego tak jak to uwidoczniono na fig. 9-14.Aby zwiekszyc efektywnosc oddzielania materialu 19 (fig. 15) o róznym rozdrobnieniu w pojemniku o sciankach 18 o duzej grubosci, wykonanych przy¬ kladowo z betonu, do plyty 4 od strony scianki 18 pojemnika, mozna zamocowac za pomoca kolnierza 61 trzon 60. Z drugiej strony trzon 60 ma oporowy czop kulisty 62. Trzon 60 jest zamocowany prze¬ suwnie w otworze 63, wykonanym w sciance 18 po¬ jemnika. Oporowy czop 62 jest umieszczony we wglebieniu 64 i opiera sie o gietka plytke 65, której krawedz jest w jednej plaszczyznie wewnetrzna po¬ wierzchnia scianki 18 pojemnika i styka sie z przy¬ legajacym materialem 19 o róznym rozdrobnieniu, przykladowo weglem.Urzadzenie pracuje w sposób nastepujacy. Ze zró¬ dla 3 pradu impulsowego zakumulowana energie podaje sie na elektromagnetyczna cewke 2, która jest zamocowana do wspornika 66, zamocowanego na sciance 18 pojemnika. Jezeli czas rozladowania jest bardzo maly, przykladowo 0,001 s. to elektro¬ magnetyczna cewka 2 wzbudza pole elektromagne¬ tyczne o duzym natezeniu powodujace wzbudzenie w paramagnetycznym materiale o duzej przewod¬ nosci elektrycznej plytki 4 odpowiedniego pola. Przy oddzialywaniu tych dwóch pól zachodzi szybkie od¬ pychanie plytki 4 od cewki elektromagnetycznej 2.Plytka 4 poprzez kolnierz 61 wprowadza w ruch trzon 60, który poprzez oporowy trzon 62 wygina gietka plytke 65. W rezultacie przylegajacy mate¬ rial 19 o róznym rozdrobnieniu odpada zarówno od gietkiej plytki 65, jak i od scianki 18 pojemnika.Zastosowanie wyzej opisanych wariantów wyko¬ nania urzadzenia (fig. 1) do oddzielania sypkich ma¬ terialów 19 o róznym rozdrobnieniu opisane ponizej na konkretnych przykladach. 10 1S 20 28 20 35 40 49 90 00123 $74 13 11 Przyklad . I. Wariant wykorzystania urzadze¬ nia 1 (fig. 16) dla oddzielenia sypkiego materialu 19 o róznym rozdrobnieniu przykladowo wegla z we- glarki 67, kiedy na jej sciankach przylega przy- marznieta skorupa 68 wegla. W tym przypadku z dwóch stron weglarki 67 dosuwa sie do bocznych scianek weglarki oraz do jej dna uprzadenie 1.Urzadzenie 1 jest dosuniete do bocznych scianek za pomoca poprzecznych belek 69, zas do dna — za pomoca teleskopowego mechanizmu 70, usytuowa¬ nego na wózku 71, na którym to wózku 71 jest rów¬ niez usytuowany blok 72 wysokiego napiecia. Praca urzadzenia 1 opisana zostala powyzej, przy czym skorupa 68 wegla oddziela sie od scianek weglarki 67 rozdrabniajac sie na oddzielne kawalki.Przyklad II. Do scianek zasobnika 73 (fig. 17) przeznaczonego do skladowania wegla przysuwa sie za pomoca wsporników 74 urzadzenie 1. Pod dzia¬ laniem urzadzenia 1, scianki zasobnika 73 wyginaja sie w zakresie sprezystych odksztalcen, oddzielajac przy tym skorupe 68 przylegajacego wegla.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób oddzielania od scianek pojemnika ma¬ terialów sypkich o róznym rozdrobnieniu za po¬ moca oddzialywania pola elektromagnetycznego poprzez posredni czlon wytwarzajacy silny poje¬ dynczy impuls dzialajacy na scianke, wzbudzajac w niej drgania wlasne, znamienny tym, ze pole elektromagnetyczne wytwarza sie za pomoca pradu impulsowego i akumuluje sie energie pola elektro¬ magnetycznego dla wytworzenia pojedynczego im¬ pulsu sily w posrednim czlonie w czasie mniejszym niz 10-* s i dla wzbudzenia drgan wlasnych w scian¬ ce pojemnika nadaje sie posredniemu czlonowi przyspieszenie nie mniejsze niz 100 g. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w okresie wzrostu amplitudy drgan wlasnych scianki pojemnika do wartosci maksymalnej, wytwarza sie drugi impuls sily dzialajacy na scianke dla wytwo¬ rzenia w sciance pojemnika drgan rezonansowych. 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze przy powtórnym dzialaniu impulsem sily, impul¬ sem tym dziala sie na plaszczyzne obejmujaca kon¬ centrycznie plaszczyzne scianki pojemnika, do któ¬ rej przylozono pierwszy impuls sily. 4. Urzadzenie do oddzielenia od scianki pojem¬ nika materialów sypkich o róznym rozdrobnieniu zawierajace zródlo pradu elektrycznego, cewke elekromagnetyczna usytuowana na plycie polaczona ze zródlem pradu elektrycznego, której pole elek¬ tromagnetyczne wspóldziala z posrednim czlonem dzialajacym na scianke pojemnika, znamienne tym, ze posredni czlon (4) którym akumuluje sie ener¬ gie pola elektromagnetycznego w ciagu mniej niz 10~* s, jest usytuowany pomiedzy scianka (18) po¬ jemnika i cewka elektromagnetyczna (2) i wzajem¬ nie oddzialywuje z ruchomym elementem cewki (2), przy wytworzeniu w niej pola elektromagnetycz¬ nego. 5. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze wzajemne oddzialywanie posredniego czlonu (4) i elektromagnetycznej cewki (2) zrealizowane jest za pomoca ruchomego elementu w postaci podpar¬ tego sprezyna (12) trzonu (9). 6. Urzadzenie wedlug zastrz. 4 albo 5, znamienne tym, ze zawiera dodatkowa plytke (35) o duzej przewodnosci elektrycznej, usytuowana z przeciw¬ nej strony wzgledem posredniego czlonu (4) i elek- 5 tromagnetycznej cewki (2), polaczona z cewka (2) i czlonem (4) za pomoca podpartego sprezyna (12) trzonu (9), jarzmo (41) usytuowane wspólosiowo na elektromagnetycznej cewce (2), polaczone z dodat¬ kowa plytka (35) za pomoca mechanizmu przeka- io zywania sily na jarzmo, tuleje (39) w dolnej czesci polaczona z plytka (4), a boczna czescia z mechaniz¬ mem przekazywania sily impulsu z dodatkowej plytki (55) na jarzmo (41), przy czym tuleja (38) jest usytuowana pomiedzy elektromagnetyczna cewka (2) 15 i jarzmem (41) z mozliwoscia przemieszczania i jest polaczona z plyta (36) za pomoca sprezystych ele¬ mentów. 7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze jarzmo (41) ma kryze (47) usytuowana od strony 10 scianki (18) pojemnika, majaca otwory, w których sa usytuowane regulacyjne szpilki podparte spre¬ zynami (50). 8. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze mechanizm przekazujacy sile z dodatkowej plytki 25 (35) na jarzmo (41) zawiera wahacz (44) przegubowo polaczony z wspornikiem (40) kolnierza (37) zamoco¬ wanego na dodatkowej plytce (35). 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze mechanizm przekazywania sily z dodatkowej plytki 30 (35) na jarzmo (U) jest wykonany w postaci pary nurników (54, 55) usytuowanych w korpusie (56) majacym dopelniajace sie wneki wypelnione robo¬ cza ciecza (51}. 10. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, 35 ze robocza ciecz (57) stanowi korzystnie hydroplast. 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze jarzmo (41) i tuleja (38) maja podluzne naciecia (39), usytuowane na powierzchniach walcowych, roz¬ mieszczone symetrycznie wzgledem cewki elektro- 40 magnetycznej (2), dla zmniejszenia zjawiska indu¬ kowania pradów wirowych. 12. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze jarzmo (41) i tuleja (38) wykonane sa z materia¬ lu o slabych wlasciwosciach magnetycznych. 45 13. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze jarzmo (41) i tuleja (38) sa z materialu o wlasci¬ wosciach niemagnetycznych. 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 4 albo 5, znamienne tym, ze ma nakladke (58) zamocowana do posrednie- 50 go czlonu (41) wykonana w postaci figury geome¬ trycznej lezacej w plaszczyznie równoleglej do scianki (18) pojemnika przechodzaca przez wierz¬ cholek wygiecia tej scianki i organiczonej krzywa, której wszystkie punkty sa miejscem geometrycz- 55 nym punktu przeciecia stycznych do powierzchni wygiecia poprowadzonych z punktów poczatkowych wygiecia scianki, z plaszczyzna, przy czym minimal¬ na dlugosc obwodu krzywej okreslona jest nierów* noscia: ^ 6 [o] gdzie: K — wspólczynnik dynamiczny impulsu sily, F — wielkosc przylozonego impulsu w N, •5 [o] — grubosc plytki w mm,mm 15 16 5 — dopuszczalne naprezenie na zerwanie ma¬ terialu scianki, [N/mm1], przy czym w prze¬ krojach prostopadlych do plaszczyzny na¬ kladka (58) wykonana jest z promieniami krzywizny nie mniejszymi od maksymal¬ nych promieni krzywizny wygiecia scian¬ ki (18). 15. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze ma nakladke (58) zamocowana do posredniego czlonu (41) wykonana w postaci figury geometrycz¬ nej lezacej w plaszczyznie równoleglej do scianki (18) pojemnika, przechodzacej przez wierzcholek wygiecia tej scianki i ograniczonej krzywa, której wszystkie punkty sa miejscem geometrycznym pun¬ ktu przeciecia stycznych do powierzchni wygiecia poprowadzonych z punktów poczatkowych wygiecia scianki, z plaszczyzna, przy czym minimalna dlugosc obwodu krzywej okreslona jest nierównoscia. 1 K " 15 M°I gdzie: K — wspólczynnik dynamiczny impulsu sily F — wielkosc przylozonego impulsu w N, 6 — grubosc plytki w mm, [o] — dopuszczalne naprezenie na zerwanie ma¬ terialu scianki, [N/mm*], przy czym w prze¬ krojach prostopadlych do plaszczyzny na¬ kladka (58) wykonana jest z promieniami krzywizny nie mniejszymi od maksymal¬ nych promieni krzywizny wygiecia scianki (18). 16. Urzadzenie wedlug zastrz. 4 albo 5, znamienne tym, ze do posredniego czlonu (4) przymocowany jest od strony scianki (18) pojemnika jednym kon¬ cem pret (60), który na drugim swoim koncu ma przymocowany oporowy czop (62), przy czym w sciance (18) pojemnika wykonany jest otwór (63), przez który przechodzi pret (60) przykrywany od strony wewnetrznej gietka plytka (62), na która dziala oporowy czop (62). ^vvw\w.v ^v,w,ww irrT;\JP ! F/B.7 43 44 45 |£. 22 24 Fig. 4 FIE.3 mu *?^—^ * nam mm Ftan FiS.5123 374 U «L SS$t St FB.B FtLS c- FJG.15 nam ZGK 0179/1100/84 — 95 egz.Cen» 100,— d PL