Przedmiotem wynalazku jest plaskie urzadzenie obrazowe z zespolem odchylajacym przeznaczonym do kierowania wiazki elektronów na ekran obra¬ zowy tego urzadzenia, zwlaszcza do ograniczania prowadzenia oraz selektywnego odchylania wiazek elektronów.Od dawna czynione byly starania zmierzajace do zredukowania wymiaru glebokosci (grubosci) lampy obrazowej w celu uzyskania zasadniczo plaskiego urzadzenia obrazowego.Jedno z proponowanych rozwiazan polega na zastosowaniu banki o ksztalcie plaskiego pudelka, którego jedna z wiekszych scianek jest plyta czo¬ lowa, na której umieszczony jest ekran luminofo- rowy. Wyrzutnia elektronowa kieruje elektrony wzdluz lampy w kierunku zasadniczo równoleglym do ekranu. Elementy odchylajace zapewniaja se¬ lektywne odchylanie elektronów na kolejne punkty ekranu w celu uzyskania wymaganego wybierania.Lampa obrazowa tego typu jest opisana w opisie ^patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2928014 w wynalazku zgloszonym przez W. R.Aiken'a zatytulowanym „Lampa kineskopowa z ukladem elektronicznym" opublikowanym 08.03. 1960 r.Przy stosowaniu tej zasady technicznej wyla¬ niaja sie problemy realizacji plaskich urzadzen obrazowych o duzych ekranach, takich jak z ekra¬ nami o wymiarach w przyblizeniu 75 cm x 100 cm."W urzadzeniach o tak duzych wymiarach wyma¬ gana jest wewnetrzna konstrukcja nosna okreslo¬ nego typu zabezpieczajaca lampe prózniowa przed implozja. Urzadzenie z taka wewnetrzna kon¬ strukcja nosna opisano w opisie patentowym Sta¬ nów Zjednoczonych Ameryki nr 2858464.W lampie z wewnetrzna konstrukcja nosna utrzy¬ manie w stanie skupionym i prowadzenie wiazki elektronów jest bardziej krytyczne, gdyz wymaga zabezpieczenia przed oddzialywaniem konstrukcji nosnej na wiazke elektronów. Przy oddalaniu sie wiazki emitowanych elektronów od zródla, elek¬ trony te maja tendencje do rozbiegania sie, co po¬ woduje powiekszenie wymiarów poprzecznych wiazki.W przypadku, gdy rozrzut elektronów jest wy¬ starczajacy na to, zeby elektrony stykaly sie z konstrukcja nosna, czesci lampy zostaja nalado¬ wane elektrycznie, co narusza poprawne dzialanie lampy.Znanym jest, ze utrzymanie w stanie skupionym wiazki elektronów moze byc realizowane za pomo¬ ca prowadnic wiazek wytwarzajacych pole elek¬ trostatyczne oddzialywujace na elektrony wiazki w ten spos6b, ze te elektrony skupiaja sie w sto- 2j sunkowo waska wiazke w czasie przelotu elektro¬ nów w przestrzeni banki. Prowadnica wiazki sluzy do odchylania wiazki w kierunku ekranu lumino- forowego w wybranych punktach wzdluz toru wiazki.M Dla uproszczenia konstrukcji takiego plaskiego 15 20 115 766-a 3 urzadzenia obrazowego jest korzystnym, aby pro¬ wadnice wiazki mialy stosunkowo prosta kon¬ strukcje, to jest aby prowadnica mogla byc wy¬ konana z minimalnej liczby czesci, które moga byc latwo zmontowane a przy tym realizowac wy¬ magane od nich funkcje.Przedmiotem wynalazku jest plaskie urzadze¬ nie obrazowe zawierajace banke prózniowa, skla¬ dajaca sie ze scianki tylnej, scianki czolowej równoleglej do scianki tylnej, na której powierzch¬ ni wewnetrznej nalozony jest ekran luminoforowy, scianek bocznych oraz wewnetrznej konstrukcji nosnej, zabezpieczajacej plaska banke prózniowa przed implozja, w której to bance w sekcji wy¬ rzutni elektronowej umieszczona jest wyrzutnia elektronowa wieloczlonowa, przeznaczona do wy¬ twarzania i kierowania wielu wiazek elektronów w? kierunku scianki bocznej przeciwleglej do tej scianki bocznej, wzdluz której usytuowana jest wyrzutnia elektronowa, zasadniczo prostolinio¬ wymi torami równoleglymi do scianki czolowej z ekranem luminoforowym, a w sekcji odchylenia, przylegajacej bezposrednio do sekcji wyrzutni elektronowej, Usytuowane sa prowadnice ognis¬ kujace.Kazda prowadnica jest przyporzadkowana co najmniej jednej wiazce elektronów, i usytuowane równolegle do torów wiazek elektronów w po¬ czatkowych ich odcinkach, sa one przeznaczone do skupiania elektronów w wiazkach i odchylania wiazek ku ekranowi luminoforoweniu w wybie¬ ranych punktach torów wiazek.Kazda prowadnica sklada sie z rozmieszczonych z pewnym odstepem na sciance tylnej banki próz¬ niowej przewodników prostopadlych do kierunku torów wiazek elektronów emitowanych przez wy¬ rzutnie elektronowa, plaskiej elektrody równoleg¬ lej do plaszczyzny przechodzacej przez tory wia¬ zek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, która to elektroda siatkowa jest umieszczona w pewnym odstepie od plaszczyzny wyznaczonej torami wiazek w poczatkowych ich odcinkach i w której to elektrodzie siatkowej wy¬ konane sa otwory rozmieszczone na calej po¬ wierzchni elektrody siatkowej i uszeregowane w taki sposób, iz kierunek tego uszeregowania od¬ powiada kierunkowi, wyznaczonemu torami wia¬ zek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, przez które to otwory przelatuja elektrony wiazki odchylonej ku ekranowi lumino- forowemu.Zgodnie z wynalazkiem w sekcji odchylenia w przestrzeni miedzy elektroda siatkowa a sciana tylna banki prózniowej sa rozmieszczone elektro¬ dy ogniskujace, z których kazda jest przyporzad¬ kowana jednej wiazce elektronów, skierowane równolegle do torów wiazek emitowanych przez wyrzutnie elektronowa. Otwory plaskiej elektrody siatkowej sa rozmieszczone tak, iz ich scianki wzdluzne sa skierowane równolegle do torów wiazek i sa usytuowane naprzeciwko przyporzad¬ kowanej elektrody ogniskujacej. Scianki po¬ przeczne tych otworów sa skierowane do torów wiazek.Przewodniki rozmieszczone na sciance tylnej 5 766 i banki prózniowej maja rózne szerokosci. Przy tym. srodek kazdego z otworów w elektrodzie siatko¬ wej jest usytuowany nad jednym z wezszych, przewodników, a srodek scianki poprzecznej kaz- g dego z otworów jest usytuowany nad jednym z. szerszych przewodników.W prowadnicy ogniskujacej miedzy plaska elek¬ troda siatkowa a scianka czolowa z ekranem lumi¬ noforowym umieszczona jest druga plaska elek- 10 troda siatkowa z otworami, z których kazdy jest usytuowany nad jednym z otworów w pierwszej elektrodzie siatkowej.Korzystne jest, gdy pierwsze z przewodników rozmieszczonych na sciance tylnej banki próznio¬ wej sa uksztaltowane tak, iz maja obszary szersze laczone obszarami wezszymi, a drugie z przewod¬ ników sasiadujace z pierwszymi przewodnikami maja obszary szersze usytuowane miedzy obsza¬ rami wezszymi pderwiszych przewodników i obszary wecsze usytuowane miedzy obszara¬ mi szerszyimi pierwszych przewodników tak, iz. dlugosc kazdego obszaru szerszego kazdego z pier¬ wszych przewodników mierzona w kierunku pro¬ stopadlym do kierunku wyznaczonego torami wia¬ zek elektronów jest równa dlugosci obszaru wez¬ szego kazdego z drugich przewocjfcików, a dlugosc kazdego obszaru wezszego pierwszych przewodni¬ ków mierzona w tym samym kierunku jest równa dlugosci obszaru szerszego kazdego z drugich przewodników, przy czym otwory w elektrodzie siatkowej sa uszeregowane w kolumnach równole¬ gle do kierunku wyznaczonego torami wiazek, których to kolejna liczba odpowiada liczbie ognis¬ kowanych wiazek i rozmieszczona nad obszarami 35 szerszymi pierwszych przewodników, scianki wzdluzne otworów sa usytuowane nad obszarami wezszymi pierwszych przewodników, a< scianki: poprzeczne tych otworów sa usytuowane nad ob¬ szarami wezszymi drugich przewodników.Miedzy pierwsza elektroda siatkowa o scianka czolowa z ekranem luminoforowym umieszczona jest druga elektroda siatkowa z rozmieszczonymi' otworami, z których to otworów kazdy jest usy- 45 tuowany nad otworem w pierwszej elektrodzie siatkowej.Pierwsze przewodniki z przewodników rozmie¬ szczonych na sciance tylnej banki prózniowej ma¬ ja obszary szersze w ksztalcie eliptycznym pola- 50 czone obszarami wezszymi, a pierwsza elektroda siatkowa ma otwory w ksztalcie odwzorowujacym ksztalt szerszych obszarów pierwszych przewodni¬ ków, z których to otworów kazdy jest usytuowany nad szerszym obszarem kazdego z pierwszych prze- 55 wodników.Korzystne jest równiez, gdy równolegle prze¬ wodniki rozmieszczone na sciance tylnej banki prózniowej prostopadle do kierunku wyznaczonego* 60 torami wiazek elektronów maja jednakowe szero¬ kosci, a elektroda siatkowa ma prostokatne otwory uszeregowane w rzedach równoleglych do torów wiazek, których to rzedów.liczba odpowiada licz¬ bie ogniskowanych wiazek elektronów, z których n to otworów kazdy jest usytuowany nad jednym115 766 5 6 jl przewodników rozmieszczonych na tylnej scian¬ ce banki prózniowej.Miedzy pierwsza elektroda siatkowa i scianka czolowa z ekranem luminoforowym umieszczona jesf druga elektroda siatkowa z otworami, z któ¬ rych kazdy jest umieszczony nad odpowiednim otworem w pierwszej elektrodzie siatkowej.Korzystne jest poza tym, gdy równolegle prze¬ wodniki rozmieszczone na tylnej sciance banki prózniowej prostopadle do kierunku wyznaczonego torami wiazek elektronów maja jednakowe szero¬ kosci, a elektroda siatkowa ma otwory uszerego¬ wane w kolumnach równoleglych do kierunku wyznaczonego torami wiazek, których to kolumn liczba odpowiada liczbie ogniskowanych wiazek, z których to otworów pierwsze otwory i drugie otwory tworza osobne kolumny równolegle do kie¬ runku wyznaczonego torami wiazek i rzady pro¬ stopadle do kierunlku wyznaczonego torami wiazek, przy czym srodki drugich otworów w kazdej z tworzonej przez nich kolumnie sa przesuniete wzgledem srodków pierwszych otworów w kazdej z sasiednich tworzonych przez nich kolumn w kierunku wzdluznym o polowe odleglosci miedzy kolejnymi otworami w kolumnie, a w kierunku prostopadlym do kierunku wyznaczonym przez tory wiazek o odleglosc mniejsza niz wynosi sze¬ rokosc otworów mierzona w kierunku prostopad¬ lym do kierunku wyznaczonego torami wiazek.Miedzy pierwsza elektroda siatkowa o scianka czolowa banki prózniowej z ekranem luminoforo¬ wym umieszczona jest druga elektroda siatkowa z otworami pierwszymi i drugimi, z których to otworów pierwsze otwory i drugie otwory tworza osobne kolumny równolegle do kierunku wyzna¬ czonego torami wiazek i rzedy prostopadle do wy¬ znaczonego torami wiazek, przy czym otwory pier¬ wsze i drugie w drugiej elektrodzie siatkowej sa rozmieszczone wedlug takiego samego ukladu, jak w pierwszej elektrodzie siatkowej z tym, ze pier¬ wsze otwory uszeregowane w rzedach usytuowa¬ nych nad rzedami pierwszych otworów w pier¬ wszej elektrodzie siatkowej sa przesuniete wzgle¬ dem pierwszych otworów w pierwszej elektrodzie siatkowej o polowe odleglosci miedzy srodkami tych otworów, a drugie otwory uszeregowane w rzedach usytuowanych nad rzedami drugich otwo¬ rów w pierwszej elektrodzie sa przesuniete wzgle¬ dem drugich otworów w pierwszej elektrodzie siatkowej o polowe odlleglosci miedzy srodkami tych otworów.Przedmiot" wynalazku jest przedstawiony w przykladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia plaskie urzadzenie obrazowe w widoku perspektywicznym w czesciowym prze¬ kroju, fig. 2 — czesc jednego z przykladu wyko¬ nania prowadnicy wiazki w widoku perspekty¬ wicznym w czesciowym przekroju przeznaczonej dla urzadzenia z fig. 1, fig. 3 — przekrój poprzecz¬ ny czesci prowadnicy wiazki z fig. 2, fig. 4 — przekrój podluzny czesci prowadnicy wiazki z lig. 2 wzdluz linii 4—4 z fig. 3, fig. 5 — inny przy¬ klad wykonania prowadnicy wiazki w widoku per¬ spektywicznym w czesciowym przekroju, fig. 6 — przekrój poprzeczny czesci prowadnicy wiazki z fig. 5, fig. 7 — przekrój podluzny czesci prowad¬ nicy wiazki z fig. 5 wzdluz linii 7—7 z fig. 6, fig. 8 — czesc innego przykladu wykonania elektrody w widoku z góry przeznaczonej dla prowadnicy 5 wiazki z fig. 5, fig. 9 — czesc jeszcze innego przy¬ kladu wykonania elektrody siatkowej w widoku z góry przeznaczonej do zastosowania z elektrodami pokazanymi na fig. 8 w prowadnicy wiazki z fig. 5, fig. IG — przekrój poprzeczny innego wykonania prowadnicy wiazki, fig. 11 — przekrój Wzdluz linii 11—11 na fig. 10, fig. 12 — czesc jeszcze inne¬ go wykonania prowadnicy wiazki w widoku per¬ spektywicznym w czesciowym przekroju, fig. 13 — przekrój poprzeczny czesci prowadnicy wiazki po¬ kazanej na fig. 12, fig. 14 — przekrój wzdluz linii 14—14 na fig. 13, fig. 15 —/ widok perspektywiczny w czesciowym przekroju czesci zmodyfikowanej prowadnicy wiazki z fig. 12—14, fig. 16 — prze¬ krój podluzny prowadnicy wiazki pokazanej na fig. 15, przy czym przekrój wykonano wzdluz jed¬ nego z torów wiazki, figJ 17 — przekrój wzdluz linii 17—17 na fig. 16, fig. 18 — przekrój wzdluz linii 18—18 na fig. 16, fig. 19 — przekrój podluzny ilustrujacy inny przyklad wykonania skupiajacej prowadnicy wiazki pokazanej na fig. 12—18.Na figurze 1 przedstawiony jest jeden z przy¬ kladów wykonania urzadzenia obrazowego 10 we¬ dlug wynalazku. Urzadzenie obrazowe sklada sie z oslony prózniowej 12, zwykle szklanej, podzielo¬ nej na sekcje obrazowa 14 i sekcje 16 wyrzutni elektronowej. Sekcja obrazowa obejmuje prosto¬ katna scianke czolowa 18, na której wytworzony jest ekran, oraz scianke tylna 20, prostokatna usy¬ tuowana w pewnym odstepie od scianki czolowej i równolegla do tej scianki przedniej. Scianki czo¬ lowa 18 i tylna 20 sa polaczone sciankami bocz¬ nymi 22. Scianki przednia 18 i tylna 20 maja ta¬ kie wymiary, aby wymiary ekranu wynosily 75 x 100 cm, a odstep miedzy tymi sciankami wy¬ nosil od 2,5 do 7,5 cm.Pomiedzy scianka czolowa 18 i scianka tylna 20 znajduje sie wiele usytuowanych w pewnym od¬ stepie równoleglych scianek nosnych 24 przebiega¬ jacych od sekcji wyrzutni 16 do scianki bocznej 22 znajdujacej sie po stronie przeciwnej. Scianki nos¬ ne 24 pelnia role wymaganej wewnetrznej kon¬ strukcji nosnej. banki prózniowej 12 przeciwdzia¬ lajacej silom zewnetrznego cisnienia atmosferycz¬ nego i dziela sekcje obrazowa 14 na wiele kana¬ lów 26.Na wewnetrznej powierzchni scianki czolowej 18 naniesiony jest ekran luminoforowy 28. Ekran luminoforowy 28 moze byc ekranem dowolnego do¬ brze znanego typu takim, jakie stosowane sa obec¬ nie w lampach elektronowo-promieniowych, np. w lampach obrazowych telewizji czarno-bialej lub telewizji kolorowej. Na ekranie luminescencyjnym 28 nalozona jest warstwowa metalizacji 30, wytwo¬ rzona metoda napylenia prózniowego, stanowiaca elektrode.Sekcja wyrzutni 16 stanowi przedluzenie sekcji obrazowej 14 i jest usytuowana wzdluz jednego zbioru sasiednich czesci koncowych kanalów 26.Sekcja wyrzutni moze miec dowolny ksztalt odpo- 20 50 55 607 115 766 8 wiednj do umieszczenia w niej okreslonej wyrzutni elektronów.Wyrzutnie znajdujace sie w sekcji wyrzutni 16 moga miec dowolna konstrukcje odpowiednia do selektywnego kierowania wiazki elektronów 5 wzdluz kazdego z kanalów 26. Na przyklad struk¬ tura wyrzutni moze skladac sie z wielu indywi¬ dualnych wyrzutni umieszczonych na koncach ka¬ nalów 26 przeznaczonych do kierowania oddziel¬ nych wiazek elektronów wzdluz kanalów. Struk¬ tura wyrzutni moze skladac sie z liniowej katody usytuowanej wzdluz sekcji wyrzutni 16 przez kon¬ ce kanalów 26 i dostosowana do selektywnego kierowania poszczególnych wiazek elektronów wzdluz kanalów.W kazdym z kanalów 26 usytuowane sa pro¬ wadnice ogniskujace przeznaczone do utrzymania w stanie skupionym elektronów kierowanych w postaci wiazek do kanalu, które to elektrony po¬ ruszaja sie torem biegnacym wzdluz kanalu. Kaz¬ da prowadnica ma równiez elementy przeznaczone do odchylania przyporzadkowanej wiazki w kie¬ runku ekranu luminescencyjnego 28 w róznych punktach toru wiazki rozmieszczonych wzdluz kanalu 26, Na figurach 2, 3 i 4 pokazano jeden z przykla¬ dów realizacji prowadnicy ogniskujacej wedlug niniejszego wynalazku, umieszczona w kanale 26.Jak pokazano, w kazdym kanale 26 umieszczone sa cztery prowadnice ogniskujace. Jednakze nalezy zaznaczyc, ze kazdy kanal 26 moze miec dowolna wymagana liczbe prowadnic.Prowadnice ogniskujace wedlug przedstawione¬ go przykladu realizacji maja dwie ulozone na przemian grupy przewodników 34 i 36 umie¬ szczone na wewnetrznej powierzchni scianki tyl¬ nej 20 poprzecznie do kierunku kanalów 26. Prze¬ wodniki 34 i 36 wykonane sa w postaci pasków materialu o dobrej przewodnosci elektrycznej, ta¬ kiego jak metal nalozony warstwa na wewnetrz¬ nej powierzchni scianki tylnej 20 metoda odparo¬ wywania prózniowego lub inna metoda. Przewod¬ niki 34 i 36 sa rozmieszczone z pewnym odstepem na calej dlugosci kanalu 26.Wskazane jest, aby przewodniki 36 byly szersze, to jest aby ich wymiary wzdluz kanalu byly wieksze od wymiarów przewodników 34. Jednakze nie wyklucza' sie ewentualnosci, aby przewodniki 36 i 34 mialy jednakowa szerokosc.Pierwsza metalowa elektroda siatkowa 38 jest umieszczona na calej dlugosci kanalu 26 równole¬ gle do scianki tylnej 20 w pewnym odstepie od scianki tylnej 20. Pierwsza elektroda siatkowa 38 jest zamocowana w rowkach wykonanych w scian¬ kach nosnych 24. Pierwsza elektroda siatkowa 38 ma budowe regularna, sklada sie z jednakowych fragmentów, z których kazdy ma krzyzujace sie pod katem prostym elementy 38a i 38b. Jeden z tych elementów 38a jest usytuowany prostopadle do kierunku kanalu 26. Przy tym kazdy z ele¬ mentów 38a jest usytuowany naprzeciwko i rów¬ nolegle do jednego z przewodników 36.Elementy 38a moga miec zasadniczo tatka sama szerokosc jak przewodniki 36. Zaleca sie, aby ich szerokosc byla nieco mniejsza, niz szerokosc prze¬ wodników 36. .Inne elementy 38b umieszczone sa równolegle do kierunku kanalu 26. Tak wiec krzyzujace sie ele¬ menty 38a i 38b tworza zbiór prostokatnych otwo¬ rów 38c w pierwszej elektrodzie siatkowej 38- Przy tym otwory 3Sc sa rozmieszczone w kilku? rzedach wzdluz kanalu 26, Wzdluz kanalu 26 umieszczonych jest wiele elek¬ trod ogniskujacych 40. Przy tym sa Qne umie¬ szczone z zachowaniem pewnego odstepu pomie¬ dzy pierwsza elektroda metalowa 38 i przewodni¬ kami 34 i 36. Elektrody ogniskujace 40 sa umie¬ szczone równolegle i w pewnej odleglosci jedna od drugiej, przy czym kazda z elektrod 40 jest usytuowana naprzeciwko odpowiednich elementów^ 38b pierwszej elektrody siatkowej skierowanych- wzdluz kanalu 26.Jak pokazano, kazda z elektrod ogniskujacych 40 wykonana jest z drutu metalowego o przekroju kolowym i ma srednice zasadniczo równa szero¬ kosci elementu 36b pierwszej elektrody skierowa¬ nych wzdluz kanalu 26.Jednakze nalezy zaznaczyc, ze elektrody 40 mo¬ ga miec oczywiscie inny dowolny przekrój po¬ przeczny, lecz ich szerokosc nie powinna byc wieksza niz szerokosc elementów wzdluznych 38b- siatki 38.Druga metalowa elektroda siatkowa 42 usytuo¬ wana jest w kanale 26 równolegle i w pewnym odstepie od pierwszej elektrody metalowej 38 przed scianka czolowa 18. Druga elektroda siatko¬ wa 42 jest umocowana w rowkach scianek nos¬ nych 24. W drugiej elektrodzie siatkowej 42 znaj¬ duje sie wiele otworów 44. Kazdy z otworów ma. zasadniczo takie same wymiary i jest usytuowany dokladnie naprzeciw odpowiednich otworów 38e pierwszej elektrody siatkowej 38. Zatem otwory 44 sa rozmieszczone w kilku rzedach na calej szerokosci kanalu 26.W przykladzie realizacji lampy obrazowej we¬ dlug wynalazku typowymi wymiarami elementów prowadnicy ogniskujacej sa nastepujace wymiaryr pierwsza elektroda siatkowa 38 jest odsunieta od przewodników 34 i 36 o okolo 1,02 mm, natomiast druga elektroda siatkowa 42 jest odsunieta1 od pierwszej elektrody siatkowej 38 o okolo 0,25 mm..Kazda z elektrod ogniskujacych 40 ma srednice okolo 0,25 mm i jest odsunieta od przewodników 34 i 36 o okolo 0,25 mm, natomiast odleglosc po¬ miedzy ich srodkami wynosi okolo 3,56 mm.W pierwszej elektrodzie siatkowej «*8 elementy 38a maja szerokosc okolo 0,61 mm, a odleglosc po¬ miedzy ich srodkami wynosi 1,52 mm.Elementy 38b maja szerokosc okolo 0,25 mm, a; srodki ich sa odsuniete od siebie na odleglosc okolo 3,56 mm. Szerokosc przewodników 36 na ca¬ lej dlugosci kanalu 26 wynosi okolo 0,61 mm, na¬ tomiast szerokosc przewodników 34 wynosi okolo- 0,41 mm.Podczas pracy urzadzenia obrazowego 10 wysoki potencjal dodatni, zwykle okolo +125V, jest po¬ czatkowo przykladany do kazdego z przewodni¬ ków 34, Na drugiej elektrodzie siatkowej 42 jest utrzymywany potencjal okolo 180V. Niski poten- 20 25 30 35 40 45 50 55 609 115 766 10 *cjal dodatni, zwykle okolo +56V, jest przykladany do kazdego z przewodników 36, do pierwszej elek¬ trody siatkowej 38 i do kazdej z elektrod 40.Wyrzutnie elektronowe umieszczone w sekcji wyrzutni wytwarzaja elektrony i kieruja kilka wiazek elektronów do kazdego kanalu 26. Wiazki elektronów sa kierowane pomiedzy scianke tylna 20 i pierwsza elektrode siatkowa 38, przy czym kazda wiazka znajduje sie pomiedzy para sasia¬ dujacych elektrod 40, wobec czego elektrony wia¬ zek przelatuja zasadniczo prostoliniowym torem wzdluz kanalu 26.Na figurze 3 i figurze 4 wiazki elektronów 46 zaznaczono liniami przerywanymi.Jak pokazano na fig. 3, na skutek róznicy po¬ tencjalów pomiedzy elektrodami 40 i przewodni¬ kami 34 wytwarza sie pomiedzy nimi pole elektro¬ statyczne, którego linie silowe sa oznaczone za pomoca strzalek 48. Na skutek róznicy potencja¬ lów pomiedzy pierwsza elektroda siatkowa 38 i druga elektroda siatkowa 42 równiez wytwarza sie pole elektrostatyczne, którego linie silowe sa oznaczone strzalkami 50. W wyniku oddzialywania pól elektrostatycznych na elektronów wiaaki 46 zapobiega sie lub ogranicza sie oddalanie elektro¬ nów z wiazki w czasie ich przelotu w kanale i ustala poprzeczne polozenie wiazek 46 podczas przelotu elektronów wzdluz prowadnicy.Jak pokazano na fig. 4, na skutek róznicy po¬ tencjalów pomiedzy przewodnikami 34 i 36 wy¬ twarza sie pole elektrostatyczne pomiedzy prze¬ wodnikami, którego linie silowe sa oznaczone strzalkami 52. Linie silowe oznaczone strzalkami 53 wyznaczaja fale elektrostatyczne wytwarzane pomiedzy elementami 38a pierwszej elektrody siat¬ kowej 38 i odpowiednimi elementami drugiej elek¬ trody siatkowej 42.W czasie przelotu elektronów kazdej wiazki w przestrzeni pomiedzy pierwsza elektroda siatkowa '38 i scianka tylna 20 z przewodnikami 34 i 36 ko¬ lejne pola elektrostatyczne oddzialywuja na elek¬ trony wiazek, dzieki czemu uzyskuje sie okresowe skupianie (ogniskowanie) elektronów w wiazkach.Polaczenie okresowego ogniskowania i ograni¬ czania poprzecznego ruchu elektronów utrzymuje elektrony w wiazce na calej dlugosci prowadnicy lub do momentu, gdy sa one z niej wyprowadzone.Tak wiec kazda prowadnica ogniskujaca obej¬ muje pare sasiadujacych ze soba elektrod 40 i od¬ cinki przewodników 34 i 36 oraz fragmenty pier¬ wszej i drugiej elektrody siatkowych 38 i 42, usy¬ tuowane nad elektrodami 40.W celu wyprowadzenia wiazki elektronów 46 z prowadnicy, zmienia sie biegunowosc potencja¬ lu przykladanego do przewodnika 34 na ujemna, przykladowo na —60V.Gdy elektrony wiazki przelatuja nad tym prze¬ wodnikiem 34, sa one przyciagane przez elektrode siatkowa 42, majaca duzy potencjal dodatni. Tak wiec elektrony wiazki moga byc odchylone od przewodnika 34 o potencjale ujemnym, przejsc przez pobliski otwór 38c pierwszej elektrody siat¬ kowej 38 oraz przez znajdujacy sie w tej samej linii otwór 44 drugiej elektrody siatkowej ;42 i wyjsc z prowadnicy.Elektrony wiazki 46 sa przyciagane do ekranu luminoforowego 28 na skutek duzego dodatniego potencjalu warstwy metalizacji 30, co powoduje, ze elektrony wiazek trafiaja w ekran luminoforo- wy.Dzialanie jednego z przykladów wykonania urza¬ dzenia obrazowego 10 polega na tym, ze przewod¬ nik 34 znajdujacy sie najblizej scianki bocznej 22 lezacej w poblizu sekcji wyrzutni 16 jest pier¬ wszym przewodnikiem przelaczanym na niski po¬ tencjal. Wobec tego wszystkie wiazki 46 we wszy¬ stkich kanalach 26 zostana odchylone w punkcie znajdujacym sie w poblizu tej scianki bocznej 22 tak, iz zostana wyprowadzone z przyporzadkowa¬ nych im prowadnic i skierowane ku ekranowi lu- minoforowemu 28.Kolejne elektrody 34 sa przelaczane na niski potencjal kolejno na calej dlugosci kanalów w taki sposób, ze wiazki sa wyprowadzane z prowadnic w roznych punktach toru wiazki wzdluz kanalu.W ten sposób realizowane jest wybieranie ko¬ lejnych linii na ekranie luminoforowym 28.Na ekranie luminoforowym 28 moze byc uzys¬ kany obraz wizyjny w wyniku realizacji tych przelaczen z odpowiednia predkoscia i poprzez modulowanie róznych wiazek w sekcji wyrzutni 16 w kazdym wybieraniu linii.Odtwarzany obraz moze byc ogladany przez przednia scianke 18 banki 12.Wybieranie linii moze rozpoczac sie w punkcie znajdujacym sie najdalej od sekcji wyrzutni 16, tak, ze punkt, w Którym nastepuje odchylenie wiazki od jej toru prostoliniowego przemieszcza sie stopniowo w Kierunku przeciwleglej scianki bocznej 22 polozonej najblizej do sekcji 16 lub tez przelaczenie potencjalu przykladanego do kolej¬ nych elektrod 34 moze byc realizowane w dowolnej wymaganej kolejnosc; w celu uzyskania wymaga¬ nego obrazu na ekranie luminoforowym 28.Na figurze 5, 6 i 7 pokazano inny przyklad wy¬ konania prowadnicy ogniskujacej, która moze byc zastosowana w urzadzeniu obrazowym 10. Prowad¬ nica wedlug tego przykladu wykonania jest zasad¬ niczo identyczna do prowadnicy pokazanej na fig. 2—A z ta róznica, ze nie wystepuja w niej elek¬ trody 40, a przewodniki 34 i 36 sa zastapione przewodnikami 134 i 136 skonstruowanymi w spo¬ sób pozwalajacy realizowac za ich pomoca funkcje ogniskowania realizowane w poprzednim przykla¬ dzie wykonania za pomoca elektrod 40.Przewodniki 134 i 136 maja postac pasków z materialu przewodzacego prad elektryczny, takiego jak metal nalozony warstwowo metoda odparowy¬ wania prózniowego na tylnej sciance 20 na calej dlugosci kanalu 26. Kazdy z przewodników 134 ma wiele prostokatnych szerszych obszarów 134a polaczonych wezszymi obszarami 134b.Kazdy z szerszych obszarów 134a ma powierzch¬ nie nieco mniejsza niz poszczególne otwory 138c pierwszej elektrody siatkowej 188 w pierwszym przykladzie wykonania a jego usytuowanie odpo¬ wiada umiejscowieniu odpowiedniego otwortL Obszary wezsze 134b usytuowane sa tak, iz ich srodek pokrywa sie ze srodkiem elementu 138b siatki 138 skierowanego wzdluz kanalu 26, przy 10 15 20 25 90 35 45 50 55 60115 766 11 12 czym dlugosc siatki 138 tego obszaru jest zasadni¬ czo równa szerokosci elementu 138b.Kazdy z przewodników 136 sklada sie z obsza¬ rów szerszych 136a polaczonych obszarami wezszy¬ mi, przy tym kazdy z obszarów szerszych 136a miesci sie miedzy odpowiednimi obszarami wez¬ szymi 134b sasiednich dwóch przewodników 134.Tak wiec linia przechodzaca przez srodki obszarów szerszych 136a przewodników 136 pokrywa sie z linia przechodzaca przez srodki elementów 138b pierwszej metalowej elektrody siatkowej 138, a dlugosc tych obszarów szerszych 136a jest nie wieksza od szerokosci elementów 138b elektrody siatkowej 138, W typowym wykonaniu prowadnicy ogniskuja¬ cej pierwsza elektroda siatkowa 138 jest oddalona od przewodników 134 i 136 o okolo 0,76 mm, nato¬ miast druga elektroda siatkowa 142 jest oddalona od pierwszej elektrody siatkowej 138 o okolo 0,25 mm. Elementy 138a pierwszej elektrody siatkowej 138 maja szerokosc okolo 0,51 mm, a odleglosci pomiedzy ich srodkami wynosza okolo 1,52 mm.Elementy 138b maja szerokosc okolo 0,25 mm, a odleglosci pomiedzy ich srodkami wynosza okolo 3,56 mm.Jak podano poprzednio, wymiary przewodników 134 i 136 odpowiadaja wymiarom elementów 138a i 138b oraz wymiarom otworów 138c pierwszej elektrody siatkowej 138.W czasie pracy urzadzenia obrazowego 10 zawie¬ rajacego opisana wyzej strukture ogniskujaca, po¬ dawane napiecia i dzialanie elementów sa zasadni¬ czo takie same, jak w przypadku opisanej prowad¬ nicy ogniskujacej, pokazanej na fig. 2—4. Jak po¬ kazano na fig. 7, podczas przelotu elektronów kaz¬ dej wiazki 146 wzdluz prowadnicy, elektrony sa okresowo skupiane ma skutek oddzialywania pól elektrostatycznych wytworzonych w obszarach po¬ miedzy przewodnikami 134 i 136 oraz pomiedzy elektrodami siatkowymi 13t i 142 przez co uzys¬ kuje sie utrzymanie elektronów w wiazce w stanie skupienia.Jak pokazano na fig. 6 ograniczenie ruchu po¬ przecznego elektronów w wiazce 146 jest uzyski¬ wane na skutek oddzialywania pól elektrostatycz¬ nych wytwarzanych pomiedzy elektrodami siatko¬ wymi 138 i 142 oraz pomiedzy obszarami szerszymi 136a przewodników 136 i obszarami szerszymi 134a przewodników 134.Odprowadzenie elektronów 146 z prowadnic uzyskiwane jest w ten sam poprzednio opisany sposób poprzez przelaczenie biegunowosci poten¬ cjalów przykladanych do przewodników 134, na przyklad na —60V. Zatem w tym przykladzie rea¬ lizacji prowadnicy ogniskujacej ograniczenie bocz¬ nego ruchu elektronów w wiazce jest uzyskiwane droga odpowiedniego zaprojektowania przewodni¬ ków 134 i 136, a nie za pomoca elektrod ognisku¬ jacych 40.Poniewaz przewodniki 134 i 136 maja postac warstwy metalizacji nalozonej na powierzchnie scianki tylnej 20, latwiej jest uksztaltowac prze¬ wodnik o dowolnym wymaganym ksztalcie niz wlasciwie umocowac elektrody drutowe 40 w 15 okreslonej odleglosci pomiedzy scianka tylna 20* i pierwsza elektroda metalowa 38.W prowadnicy ogniskujacej wedlug drugiego przykladu wykonania prostokatny ksztalt szer¬ szych obszarów 134a przewodników 134 powoduje, 5 ze wytworzone pole elektrostatyczne nie jest jed¬ norodne i w strefach naroznych odznacza sie/ zwiekszonym natezeniem, co moze powodowac przebicia.Celem wyeliminowania tego zjawiska korzystne- jest nadanie bardziej zaokraglonych ksztaltów ob¬ szarów w celu wyeliminowania ostrych zalaman.Przykladowo na fig. 8 pokazano przewodnik 234 majacy szersze obszary 234a zasadniczo o ksztalcie- elipsy, której glówna os jest skierowana prosto¬ padle do osi kanalów 26.Eliptyczne szersze obszary 234a sa polaczone za pomoca wezszych obszarów laczacych 234b, usytuo¬ wanych wzdluz glównych szerszych obszarów 20 234c, Ksztalt przewodników 236 jest wyznaczony- ksztaltem przewodników 234 bowiem przewodnik 236 zajmuje obszar zasadniczo miedzy dwoma ko¬ lejnymi przewodnikami 234.Zaokraglone ksztalty szerszych obszarów 234 nie-. 25 tylko zmniejszaja mozliwosc przebicia, lecz rów¬ niez powoduja, ze oddzialywanie pól elektrosta¬ tycznych na elektrony wiazki staja sie bardziej jednorodne wzdluz wiazki elektronów.W przypadku, gdy szersze obszary 234a przewód- 30 ników 234 sa zaokraglone stosuje sie pierwsza siatke 238, w której powinny miec ksztalt odpo¬ wiadajacy ksztaltowi tych szerszych obszarów.Przykladowo, na fig. 9 pokazano pierwsza siatko- ka elektrode 238 z wykonanymi w niej otworami 35 238c, których ksztalt odpowiada eliptycznemu ksztaltowi szerszych obszarów 234a przewodni¬ ków 234.Na figurze 10 i 11 pokazano przyklad innego wykonania prowadnicy ogniskujacej, która moze* 40 byc zastosowana w urzadzeniu obrazowym 10. Pro¬ wadnica ogniskujaca wedlug tego przykladu wy¬ konania jest zasadniczo identyczna z prowadnica ogniskujaca pokazana na fig. 2—4 z tym wyjat¬ kiem, ze nie wystepuja tu elektrody 40 i druga. 45 elektroda siatkowa 42. Prowadnica ogniskujaca, wedlug tego przykladu wykonania dziala zasadni¬ czo w taki sam sposób, jak poprzednio opisana prowadnica pokazana na fig. 2—4.Jednak, jak pokazano na fig. 10 ograniczenie bocznych przemieszczen elektronów wiazki 346: jest uzyskiwane na skutek oddzialywania pól elektrostatycznych wytworzonych pomiedzy ele¬ mentami wzdluznymi 338b elektrody siatkowej 338- 55 i poszczególnymi przewodnikami 334 oraz war¬ stwa metalizacji 30 luminoforu 28. Do warstwy metalizacji 30 zwykle przykladany jest wysoki po¬ tencjal od +2000 V do +8000 V, którego wartosc- zalezy od potencjalu katody generujacej elektrony 60 w sekcji wyrzutni 16 i od odleglosci pomiedzy warstwa metalizacji 30 i elektroda siatkowa 338.Gdy odleglosc pomiedzy warstwa metalizacji 30' i elektroda siatkowa 338 wynosi okolo 17,02 mm,. wystarczajace natezenie pól elektrostatycznych 65 uzyskuje sie przy potencjale równym okolo 5000 V., 50115 766 13 u -Jezeli ta odleglosc .jest wieksza, potencjal równiez powinien byc wiekszy, natomiast gdy odleglosc jest mniejsza, potencjal moze byc odpowiednio mniejszy.Jak pokazano na fig. 11, podczas przelotu elek¬ tronów wiazek 346 wzdluz prowadnicy, okresowe skupienie wiazki uzyskiwane jest na skutek od¬ dzialywania pól elektrostatycznych wytworzonych w obszarach miedzy przewodnikami 334 i 336 oraz "pomiedzy elementami 338a elektrody siatkowej 338 oraz warstwa metalizacji 30.Jak juz poprzednio wspomniano przy omawianiu prowadnicy ogniskujacej pokazanej na fig. 2—4 wyprowadzenie wiazki elektronów 346 z prowad¬ nicy uzyskuje sie poprzez przelaczenie potencjalów przylozonych do przewodników 334, przykladowo na —10 V. Tak wiec taka prowadnica ogniskujaca funkcjonuje zasadniczo w taki sam sposób, jak prowadnica ogniskujaca pokazana na fig. 2—4.Jednak ta prowadnica ogniskujaca ma znacznie prostsza konstrukcje w porównaniu z prowadnica 'Ogniskujaca pokazana na fig. 2—4, gdyz ma tylko jedna elektrode siatkowa.Prowadnica ogniskujaca, pokazana na fig. 2-—4 i prowadnica ogniskujaca, pokazana na fig. 10—11, moga obie pracowac raczej w warunkach, w których wszystkie przewodniki umieszczone na sciance tylnej 20, to znaczy przewodniki 34 i 36 oraz przewodniki 334 i 336 maja jednakowe duze potencjaly, na przyklad 125 V, niz w warunkach, gdy niektóre z tych przewodników maja duzy potencjal a inne — maly.Korzyscia tego, ze wszystkie przewodniki maja jednakowe potencjaly jest to, ze dla takiej pro¬ wadnicy potrzebny jest prostszy uklad elektryczny.Przy tym kazdy przewodnik kazdego ze zbiorów przewodników moze byc laczony z, sasiednim prze¬ wodnikiem drugiego zbioru przewodników tak, iz moze byc uzyskany dowolny wymagany ksztalt tych przewodników.Natomiast wada takiego urzadzenia jest to, ze zmniejsza sie przy tym natezenie ogniskujacego pola elektrostatycznego na skutek czego zmniejsza sie oddzialywanie tego pola na elektrony wiazek i zmniejszaja sie wlasciwosci ogniskujace prowad¬ nicy.Na figurach 12—14 pokazano jeszcze inny przy¬ klad wykonania prowadnicy ogniskujacej wedlug wynalazku, która moze byc stosowana w urzadze¬ niu obrazowym 10. W kazdym kanale 26 banki 12 pomiedzy sciankami nosnymi 24 znajduje sie wie¬ le prowadnic ogniskujacych,- z których pokazano cztery.Prowadnice ogniskujace zawieraja wiele równo¬ leglych przewodników 62 umieszczonych z pewnym odstepem na wewnetrznej powierzchni scianki tyl¬ nej 20 prostopadlych do osi kanalu 26 na calej jego dlugosci. Przewodniki 62 maja postac pasków materialu przewodzacego prad elektryczny, takiego jak metal, nalozonego warstwowo na sciance tyl¬ nej 20.Pierwsza -metalowa elektroda siatkowa 64 jest równolegla do scianki tylnej i jest umieszczona w pewnej odleglosci od scianki tylnej 26. Pierwsza •elektroda siatkowa 64 jest umocowana w rowkach scianek nosnych 24, Pierwsza elektroda siatkowa 64 ma wiele wykonanych w niej prostokatnych otworów 66, OtwoTy 66 sa rozmieszczone w rze¬ dach przebiegajacych wzdluz i poprzecznie do osi kanalu 26. Takie rozmieszczenie otworów 66 za¬ pewnia, ze pierwsza elektroda siatkowa 64 ma ele¬ menty wzdluzne 68 skierowane wzdluz osi kanalu 26 i elementy poprzeczne 70 skierowane prosto¬ padle do osi kanalu 26. Otwory 66 umieszczone w linii równoleglej do osi kanalu 26 znajduja sie nad odpowiednimi przewodnikami 62 na sciance tylnej 20.Druga metalowa elektroda siatkowa 72 jest rów¬ nolegla do pierwszej elektrody 64 i jest umie¬ szczona w pewnej odleglosci od pierwszej elek¬ trody siatkowej 64 przed scianka czolowa 18. Dru¬ ga elektroda siatkowa 72 ma wiele wykonanych w niej prostokatnych otworów 74. Otwory 74 sa roz¬ mieszczone w rzedach skierowanych wzdluz i po¬ przecznie do osi kanalu 26, przy czym kazdy z otworów 74 znajduje sie nad odpowiednim otwo¬ rem 66 pierwszej elektrody siatkowej 6*. Zatem druga elektroda siatkowa 72 ma wzdluzne elemen¬ ty 76 i poprzeczne elementy T8 tworzace mostki miedzy otworami 74.Szerokosc przewodników 62 w typowym wyko¬ naniu prowadnicy ogniskujacej tego typu, to jest wymiar mierzony wzdluz kanalu 26* wynosi okolo 1,25 mm, natomiast odstep miedzy nimi wynosi okolo 0,25 mm. Pierwsza elektroda siatkowa 64 jest oddalona od przewodników 62 o okolo 0,25 mm, a druga elektroda siatkowa 72 jest oddalona od pierwszej elektrody siatkowej 64 o okolo 0,76 mm.Wymiary otworów 66 i 76 elektrod siatkowych 64 i 70 mierzone w kierunku prostopadlym do osi kanalu 26 wynosza okolo 3,30 m$m i odpowiednio wymiary tych otworów mierzone wzdlui kanalu 26 wynosza okolo 0,01 mm. Otwory kazdej elek¬ trody siatkowej sa rozmieszczone w kierunku po¬ przecznym do kanaku 26 z odstepem równym okolo 1,78 mm a w kierunku równoleglym do osi kanalu 26 z odstepem równym okolo 8^1 ram.Podczas pracy urzadzenia obrazowego z taka prowadnica ogniskujaca, wysoki potencjal dodatni, zwykle równy okolo +200 V, jest dostarczany do kazdego z przewodników 62, a maly potencjal do¬ datni, zwykle równy okolo +50 V, jest przykla¬ dany do pierwszej i drugiej elektrod siatkowych 64 i 72.Wiazki elektronów 80 sa. kierowane w prowad¬ nicach ogniskujacych pomiedzy pierwsza elektroda siatkowa 64 i druga elektroda siatkowa 72, przy czym tor kazdej wiazki 80 jest zasadniczo prosto¬ liniowy i równolegly do powierzchni elektrod siat¬ kowych.Jak pokazano na fig. 13, na skutek róznicy po¬ tencjalów pomiedzy pierwsza elektroda siatkowa 64 i przewodnikami 62 wytwarza sie pole elektro¬ statyczne pomiedzy elementami wzdluznymi 68 pierwszej elektrody siatkowej 64 i przewodnikami 62, którego to pola linie silowe zaznaczone sa za pomoca strzalek 88. Pole elektrostatyczne, którego linie silowe sa oznaczone strzalkami 84, jest wy¬ twarzane pomiedzy wzdluznymi elementami 36 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60115 766 15 16 drugiej elektrody siatkowej 72 i warstwa metali¬ zacji 30 nalozona na ekranie luminoforowym 28, co jest spowodowane róznica potencjalów pomie¬ dzy druga elektroda siatkowa 72 i warstwa meta¬ lizacji 30.Jak poprzednio stwierdzono, przy omawianiu prowadnicy ogniskujacej pokazanej na fig. 10 i 11 do warstwy metalizacji 30 przykladany jest zwykle duzy potencjal dodatni równy od +2000 V do +8000 V, zalezmy ód potencjalu katody generuja¬ cej elektrony w sekcji wyrzutni i od odleglosci pomiedzy warstwa metalizacji 30 i druga elektro¬ da siatkowa 72, Jak pokazano na fig. 14, na skutek róznicy po¬ tencjalów pomiedzy pierwsza elektroda siatkowa 64 i przewodnikami 62 wytwarzane jest pole elek¬ trostatyczne pomiedzy elementami 68 prostopad¬ lymi do osi kanalu 68 pierwszej elektrody siatko¬ wej 68 i przewodnikami 62, którego to pola linie silowe sa oznaczone strzalkami 86.Na skutek róznicy potencjalów pomiedzy druga elektroda siatkowa 72 i warstwa metalizacji 30 wytwarzane jest pole elektrostatyczne pomiedzy ele¬ mentami 76 drugiej elektrody siatkowej i warstwa metalizacji 30, którego to pola linie silowe sa od¬ wzorowane strzalkami 88. Te pola elektrostatyczne oddzialywuja na elektrony wiazek 80, co w rezul¬ tacie prowadzi do okresowego skupiania wiazki podczas przelotu elektronów wzdluz zasadniczo prostoliniowego toru pomiedzy elektrodami siat¬ kowymi 64 i 72.Polaczenie wszystkich pól elektrostatycznych na elektrony sumaryczne oddzialywanie kazdej wiaz¬ ki 80 ogranicza ruch poprzeczny elektronów w wiazce na calej dlugosci toru wiazki w prowad¬ nicy ogniskujacej.Podobnie, jak w poprzednio opisanym przykla¬ dzie realizacji prowadnicy ogniskujacej, wyprowa¬ dzenie wiazek elektronów z prowadnicy ogniskuja¬ cej uzyskuje sie poprzez przelaczenie biegunowosci potencjalu przykladanego do przewodników 62, na przyklad na —100 V, Zaleta omówionej prowadnicy ogniskujacej w porównaniu z prowadnica ogniskujaca pokazana na fig. 2—4 i prowadnica pokazana na fig. 5—6 jest prosta budowa, przejawiajaca sie w tym, ze dla utrzymania elektronów w wiazce w stanie skupienia nie wymaga sie zastosowania elektrody ogniskujacej, i przewodników specjalnych ksztal¬ tów. Równiez przewodniki z wyjatkiem przewod¬ nika, który jest przelaczany na potencjal ujemny celem wyprowadzenia wiazki z prowadnicy utrzy¬ mywane sa przy tym samym potencjale, co upra¬ szcza budowe sterujacego ukladu elektronicznego i ogranicza do minimum straty mocy.Chociaz budowa tej prowadnicy ogniskujacej jest bardziej skomplikowana od struktury prowadnicy ogniskujacej pokazanej na fig. 10 i 11, gdyz ma ona dwie elektrody siat¬ kowe zamiast jednej, omawiana prowadni¬ ca wedlug tego przykladu realizacji ogniskujaca ma zalety polegajace na zapewnieniu mozliwosci przykladania tego samego potencjalu do wszyst¬ kich przewodników. Nawet wówczas, gdy prowad¬ nica ogniskujaca pokazana na fig.- 10 i 11 pracuje- z takim samym potencjalem wszystkich przewod¬ ników, jak to opisano poprzednio, ma ona te zale- 5 te, ze zapewnia sie wieksze oddzialywanie pól elektrostatycznych na elektrony wiazek.Na figurze 15—18, pokazano nastepny przyklad realizacji prowadnicy ogniskujacej wedlug wyna¬ lazku. 10 Ta prowadnica ogniskujaca podobnie, jak pro¬ wadnica ogniskujaca pokazana na fig. 12—14, ma wiele równoleglych przewodników 162 umieszczo¬ nych na tylnej sciance 20 skierowanych prosto¬ padle do osi kanalu 26. Tv^a równiez pierwsza 15 i druga metaliczne elektrody siatkowe 164 i 172. umieszczone w kanale 26 i umocowane w rowkach scianek nosnych 24, W pierwszej elektrodzie siatkowej 164 wykona¬ ne sa prostokatne otwory 166a i 166b. Przy tym.. otwory 166a sa przesuniete wzgledem otworów 166b w kierunku osi wzdluznej kanalu 26, tak iz srodek otworu 166b znajduje sie posrodku miedzy otworami 166a, oraz w kierunku poprzecznym do osi kanalu tak, iz srodki otworów 166b znajduja sie posrodku miedzy otworami 166a, a odstep mie¬ dzy srodkami otworów 166a d 166b znajdujacych sie w sasiednich kolumnach jest mniejszy od polo¬ wy dlugosci otworu, natomiast odstep miedzy srod¬ kami otworów 166 i 166b znajdujacych sde w sa¬ siednich rzedach jest nieco wietoszy od polowy sze¬ rokosci otworów. 20 25 30 Tak wiec otwory 166a i 166b w pierwszej elek¬ trodzie siatkowej 164 tworza kolumny skierowane 35 wzdluz osi kanalu 26 i rzedy skierowane prosto¬ padle do osi kanalu 26, przy czym dlugosc mie¬ dzy osiami dwóch sasiednich kolumn, z którycli jedna jest utworzona przez otwory 166a, a druga, — przez otwory 166b odpowiednio jest mniejsza od 40 polowy dlugosci otworu mierzonej w kierunku prostopadlym do osi kanalu 26, a odleglosc miedzy osiami dwóch sasiednich rzedów, z których jeden jest utworzony przez otwory 166a, a drugi — przez otwory 166b jest nieco wieksza od polowy 45 szerokosci otworów mierzonej w kierunku osi wzdluznej kanalu 26. Poza tym srodki otworów 166b znajduja sie w polowie odleglosci miedzy osiami kolejnych kolumn tworzonych przez otwo¬ ry 166a i w polowie odleglosci miedzy osiami ko¬ so lejnych rzedów tworzonych przez otwory 166a.Oznacza to, ze otwory 174a i 174b w drugiej elektrodzie siatkowej 172 równiez sa prostokatne i równiez sa usytuowane tak, iz tworza kolumny i rzedy. Przy tym rzedy utworzone otworami 174a 55 znajduja sie dokladnie nad rzedami utworzonymi przez otwory 166a w pierwszej elektrodzie siatko¬ wej, a rzedy utworzone otworami 174b znajdiuja sie nad rzedami utworzonymi przez otwory 166b pierwszej elektrody siatkowej.Jednakze srodki otworów 174a w drugiej elek¬ trodzie siatkowej sa przesuniete wzgledem srod¬ ków odpowiednich otworów 166a w pierwszej elek¬ trodzie siatkowej w kierunku prostopadlym do osi 65 kanalu 26 a srodki otworów 174b w drugiej elek- 60115 766 17 trodzie siatkowej 172 sa przesuniete wzgledem srodków otworów 16€b w pierwszej elektrodzie siatkowej 164 w kierunku prostopadlym do osi ka¬ nalu 26.Podczas pracy urzadzenia obrazowego 10 z taka prowadnica ogniskujaca do kazdego z przewodni¬ ków 162 przykladany jest wysoki potencjal równy okolo +200 V, natomiast maly potencjal dodatni równy okolo +50 V jest przykladany do pierwszej i drugiej elektrod siatkowych 164 i 172. Wiazki elektronów 180 sa kierowane do prowadnic ognis¬ kujacych pomiedzy pierwsza i druga elektrodami siatkowymi 164 i 172. . (Kazda wiazka 180 jest kierowana wzdluz zasad¬ niczo prostoliniowego toru skierowanego równo¬ legle do kierunku, wyznaczonego nakladajacymi sie obszarami przesunietych otworów 166a i 174a w pierwszej 164 i drugiej 172 elektrodach siatko¬ wych.Jak pokazano na fig. 16, 17 i 18 na skutek róz¬ nicy potencjalów pomiedzy pierwsza elektroda siatkowa 164 i przewodnikami 162 wytwarzane jest pomiedzy nimi pole elektrostatyczne, które jest odwzorowane liniaimi silowymi 182.Na skutek róznicy potencjalów pomiedzy druga elektroda siatkowa 172 i przewodnikami 162 wy¬ twarzane jest pomiedzy nimi pole elektrostatycz- ' ne odwzorowywane, liniami silowymi 184.Na skutek róznicy potencjalów pomiedzy druga elektroda siatkowa 172 i warstwa metalizacji 30, do której jak poprzednio opisano-, przykladany jest duzy potencjal dodatni, wytwarzane jest po¬ miedzy nimi pole elektrostatyczne, odwzorowane liniami silowymi 185.Na skutek róznicy potencjalów pomiedzy pier¬ wsza elektroda siatkowa 164 i warstwa metalizacji 30 wytwarzane jest pomiedzy nimi pole elektro¬ statyczne, odwzorowane liniaimi silowymi 186. Te pola elektrostatyczne oddzialuja na elektrony wia¬ zek 180 w taki sposób, ze utrzymuja elektrony wiazek 180 w stanie skupionym w czasie przelotu elektronów w wiazkach torami wyznaczonymi prowadnica ogniskujaca.Jak w innych poprzednio opisanych prowadni¬ cach ogniskujacych, wyprowadzenie wiazek 180 z prowadnic ogniskujacych uzyskuje sie poprzez po¬ laczenie biegunowosci potencjalu przykladanego do przewodników 162 na ujemna.Zaleta tej prowadnicy ogniskujacej w porówna¬ niu z prowadnicami ogniskujacymi pokazanymi na fig. 12—14 jest to, ze zapewnia mozliwosc stero¬ wania wieksza liczba wiazek na jednostke szero¬ kosci banki lampy.W urzadzeniu pokazanym na fig. 12—14 wzdluz kazdej wzdluznej kolumny otworów w elektrodach siatkowych przebiega pojedynczy tor wiazki. Jed¬ nak w urzadzeniu wedlug opisanego ostatnio przy¬ kladu realizacji wynalazku liczba torów wiazek jest prawie dwukrotnie wieksza niz w przypadku rozwiazania pokazanego na fig. 12—14 pod warun¬ kiem, ze oba urzadzenia maja takie same po¬ przeczne i takie same sa wymiary otworów na elektrodach siatkowych. Czym wieksza jest liczba prowadnic ogniskujacych, tym wieksza jest liczba 18 wiazek elektronów, którymi mozna sterowac w urzadzeniu obrazowym.Na figurze 19 przedstawiono inny przyklad reali¬ zacji prowadnicy ogniskujacej, która moze byc za- 5 stosowana w urzadzeniu obrazowym 10.Ta prowadnica ogniskujaca podobnie, jak pro¬ wadnica ogniskujaca, pokazana na fig. 12—14 i prowadnica ogniskujaca pokazana na fig.' 15—18, ma na tylnej sciance 20 wiele równoleglych prze- 10 wodników 262 prostopadlych do osi kanalu oraz pierwsza i druga metalowe elektrody siatkowe 264 i 272 biegnace w poprzek kanalu. Pierwsza elek¬ troda siatkowa 264 ma wiele wykonanych w niej prostokatnych otworów 266, natomiast druga elek- 15 troda siatkowa 272 ma wiele wykonanych w niej prostokatnych otworów 274.Otwory elektrody siatkowej 266 i 272 moga byc rozmieszczone " w sposób pokazany na fig. 12—14 lub tak, jak w przykladzie wykonania pokazanym 20 na fig. 15—18. Jednak w tej prowadnicy ognisku¬ jacej kazdy rzad otworów drugiej eleWtrody- siatkowej 272 jest raczej przesuniety wzdluznie wzgledem odpowiedniego rzedu otworów pierwszej elektrody siatkowej 266, a nie znajduje sie bezpo- 25 srednio nad rzedem otworów w pierwszej elektro¬ dzie siatkowej. Wzdluzne przesuniecie wykonane jest w kierunku odpowiadajacym kierunkowi prze¬ lotu elektronów w wiazkach.Te prowadnice ogniskujace dzialaja w ten sam 30 sposób jak poprzednio opisane prowadnice ognis¬ kujace pokazane na fig. 12—14 i fig. 15—18 zalez¬ nie od rozmieszczenia otworów elektrod siatko¬ wych. Jednak w tych prowadnicach ogniskujacych wzdluzne przesuniecie otworów drugiej elektrody 35 siatkowej 272 wzgledem otworów pierwszej elek¬ trody siatkowej 266 powoduje wytwarzanie pól elektrostatycznych odzialywujacyeh na elektrony wiazek w ten sposób, ze tory wiazek sa odwzoro¬ wywane liniami falistymi pomiedzy elektrodami 40 siatkowymi.Jak pokazano na fig. 19 pola elektrostatyczne dzialajace na elektrony wiazek 280 powoduja, ze elektrony przemieszczaja sie nieco w kierunku elektrody siatkowej 272 gdy elektrony przelatuja 45 do otworów 274 drugiej elektrody siatkowej i nie¬ co w kierunku pierwszej elektrody siatkowej 264, gdy przelatuja obok otworów 266 pierwszej elek¬ trody siatkowej.W celu wyprowadzenia wiazek elektronów 280 50 z prowadnicy ogniskujacej 260 biegunowosc, po¬ tencjal przykladany do jednego z przewodników, na przyklad przewodmika 262a zostaje zmieniony na potencjal ujemny. Powoduje to, ze tor wiazki elektronów odchyla sie w kierunku drugiej elek- 55 trody siatkowej 272.Nastepnie elektrony 280 przelatuja przez otwo¬ ry 274a drugiej elektrody siatkowej 272 i trafiaja w ekran luminóforowy 28, jak pokazano na fig. 19.Poniewaz opisane tu wiazki elektronów 280 okre- 60 sowo odchyla sie w kierunku otworu 274a drugiej elektrody siatkowej oddzialywanie pól elektrosta¬ tycznych zapewniajace skierowanie wyprowadza¬ nej wiazki z prowadnicy przez otwory 274a nie jest tak silne jak w innych przykladach wykona- 65 nia i z tego powodu wyprowadzenie wiazki elek-10 tronów z prowadnicy moze byc zrealizowane przy nizszych potencjalach sterujacych niz jest to reali- . zowane w przypadkach wykonania pokazanych na fig. 12—14 i na fig. 15—18.W prowadnicach ogniskujacych pokazanych na fig. 10 i 11 majacych tylko jedna elektrode siat¬ kowa 338, nieznaczne oscylacje wiazki elektronów 346 moga byc w podobny sposób uzyskane poprzez wzdluzne przesuniecie otworów 338c wzgledem przewodników 334 w kierunku ruchu elektronów %wiazek 346.Chociaz zostal opisany szczególowo jedynie przy¬ klad wykonania urzadzenia obrazowego 10 ze sciankami nosnymi pomiedzy sciankami tylna i przednia dla zabezpieczenia sie przed implozja banki prózniowej 12 to jednak nalezy miec na uwadze, ze w zamian scianek nosnych moga byc stosowane konstrukcje nosne dowolnego typu, na przyklad wsporniki nosne. Nie ma znaczenia ro¬ dzaj stosowanej konstrukcji nosnej pomiedzy przednia i tylna scianka, lecz musi ona byc tak ustawiona, aby tworzyla kanaly prowadzace z sek¬ cji wyrzutni 16 do scianki bocznej znajdujacej sie naprzeciwko sekcji wyrzutni.W powyzszym przykladzie realizacji wynalazku opisane zostaly rózne elektrody siatkowe usytuo¬ wane w kanalach równolegle do scianki tylnej i przymocowanych do scianek nosnych. Jednakze nalezy miec na uwadze, ze kazda z elektrod siat¬ kowych moze byc wspólna elektroda dla wszyst¬ kich kanalów.Urzadzenie obrazowe 10 moze byc wyposazone w dodatkowe siatki umieszczone pomiedzy pro¬ wadnicami ogniskujacymi i warstwa metalizacji 86 na ekranie luminoforowym 28 i siatki te pelnia role prowadnic ogniskujacych lub przyspieszaja¬ cych elektrony w wiazkach w tym czasie, gdy elektrony przelatuja w przestrzeni pomiedzy pro¬ wadnica ogniskujaca i ekranem luminoforo¬ wym 28.Jezeli jakiekolwiek urzadzenie obrazowe wedlug wynalazku zrealizowane wedlug jednego z przy¬ kladów wykonania przedstawionych na fig. 10—19, wykorzystujace róznice potencjalów miedzy war¬ stwa metalizacji 30 i jedna z elektrod siatkowych dla zapewnienia oddzialywania skupiajacego na elektrony wiazek, zawiera taka dodatkowa siatke wówczas róznica potencjalów miedzy elektroda siatkowa prowadnicy ogniskujacej a sasiednia do¬ datkowa siatka moze byc wykorzystana do zapew¬ nienia czesciowego skupiania elektronów w wiaz¬ kach.Zastrzezenia patentowe 1. Plaskie urzadzenie obrazowe zawierajace ban¬ ke prózniowa, skladajaca sie ze scianki tylnej, scianki czolowej równoleglej do scianki tylnej, na której powierzchni wewnetrznej nalozony jest ekran luminoforowy, scianek bocznych oraz we¬ wnetrznej konstrukcji nosnej, zabezpieczajacej plaska banke prózniowa przed implozja, w której to bance w sekcji wyrzutni elektronowej umie¬ szczona jest wyrzutnia elektronowa wieloczlonowa, 5 766 20 przeznaczona do wytwarzania i kierowania wielu wiazek elektronów w kierunku scianki bocznej przeciwleglej do tej scianki bocznej, wzdluz której usytuowana jest wyrzutnia elektronowa, zasadni- 5 czo prostoliniowymi torami równoleglymi do scian¬ ki czolowej z ekranem luminoforowym, a w sekcji odchylania, przylegajacej bezposrednio do sekcji wyrzutni elektronowej, usytuowane sa prowadnice ogniskujace, z których kazda jest przyporzadko- 10 wana co najmniej jednej wiazce elektronów, rów¬ nolegle do torów wiazek elektronów w poczatkom wych ich odcinkach, przeznaczone do skupiania elektronów w wiazkach i do odchylania wiazek ku ekranowi luminoforowemu w wybieranych punktach torów wiazek, z których to prowadnic ogniskujacych kazda prowadnica sklada sie z roz¬ mieszczonych z pewnym odstepem na sciance tyl¬ nej banki prózniowej przewodników prostopadlych do kierunku torów wiazek elektronów emitowa¬ nych przez wyrzutnie elektronowa, plaskiej elektro¬ dy siatkowej równoleglej do plaszczyzny przecho¬ dzacej przez tory wiazek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, która to elektroda 25 siatkowa jest umieszczona w pewnym odstepie od plaszczyzny wyznaczonej torami wiazek w po¬ czatkowych ich odcinkach i w której to elektro¬ dzie siatkowej wykonywane sa otwory rozmie¬ szczone na calej powierzchni elektrody siatkowej ^ i uszeregowane w taki sposób, iz kierunek tego uszeregowania odpowiada kierunkowi, wyznaczo¬ nemu torami wiazek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, przez które to otwo¬ ry przelatuja ^elektrony wiazki odchylonej ku 5 ekranowi luminoforowemu, znamienne tym, ze w sekcji odchylania (14) w przestrzeni miedzy elek¬ troda siatkowa (38) a sciana tylna (20) banki próz¬ niowej (12) sa rozmieszczone elektrody ogniskujace (40), z których kazda jest przyporzadkowana jed- |0 nej wiazce elektronów (46), skierowane równolegle do torów wiazek emitowanych przez wyrzutnie elektronowa (16), a otwory (38c) plaskiej elektrody siatkowej (38) sa rozmieszczone tak, iz ich scianki wzdluzne (38b) sa skierowane równolegle do torów l5 wiazek i sa usytuowane naprzeciwko przyporzad¬ kowanej elektrody ogniskujacej (40), scianki po¬ przeczne (38a) tych otworów (38) sa skierowane prostopadle do torów wiazek, przewodniki (34, 36) rozmieszczone na sciance tylnej (20) banki próz- i0 niowej (12) maja rózne szerokosci, przy czym sro¬ dek kazdego z otworów (38c) w elektrodzie siatko¬ wej (38) jest usytuowany nad jednym z wezszych przewodników (34), a srodek scianki poprzecznej <38a) kazdego z otworów (38c) jest usytuowany nad l5 jednym z szerszych przewodników (36). 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze w prowadnicy ogniskujacej miedzy plaska elek¬ troda siatkowa (38) a scianka czolowa (18) z ekra¬ nem luminoforowym (28) umieszczona jest druga 0 plaska elektroda siatkowa (42) z otworami (44), z których kazdy jest usytuowany nad jednym z otworów (38c) w pierwszej elektrodzie siatkowej (38). 3. Plaskie urzadzenie obrazowe zawierajace ban- 5 ke prózniowa, skladajaca sia ze scianki tylnej,21 115 766 22 scianki czolowej równoleglej do scianki tylnej, na której powierzchni wewnetrznej nalozony jest ekran luminoforowy, scianek bocznych oraz we¬ wnetrznej konstrukcji nosnej, zabezpieczajacej plaska banke prózniowa przed implozja, w któ- 5 rej to bance w sekcji wyrzutni elektronowej umieszczona jest wyrzutnia elektronowa wielo¬ czlonowa, przeznaczona do wytwarzania i kiero¬ wania wielu wiazek elektronów w kierunku scian¬ ki bocznej przeciwleglej do tej scianki bocznej, wzdluz której usytuowana jest wyrzutnia elektro- io nowa, zasadniczo prostoliniowymi torami równo¬ leglymi do scianki czolowej z ekranem luminofo- rowym, a w sekcji odchylania, przylegajacej bez¬ posrednio do sekcji wyrzutni elektronowej, usytuo¬ wane sa prowadnice ogniskujace, z których kazda 15 jest przyporzadkowana co najmniej jednej wiazce elektronów, równolegle do torów wiazek elektro¬ nów w poczatkowych ich odcinkach, przeznaczone do skupiania elektronów w wiazkach i do odchy¬ lania wiazek ku ekranowi luminoforowemu w wy- 20 bieranych punktach torów wiazek, z których to prowadnic ogniskujacych kazda prowadnica skla¬ da sie z rozmieszczonych z pewnym odstepem na sciance tylnej banki prózniowej przewodników prostopadlych do kierunku torów wiazek elektro- *s nów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, plaskiej elektrody siatkowej równoleglej do pla¬ szczyzny przechodzacej przez tory wiazek elek¬ tronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, która to elektroda siatkowa jest umieszczona w 30 pewnym odstepie od plaszczyzny wyznaczonej to¬ rami wiazek w poczatkowych ich odcinkach i w której to elektrodzie siatkowej wykonane sa otwo¬ ry rozmieszczone na calej powierzchni elektrody siatkowej i uszeregowane w taki sposób, iz kieru- 35 nek tego uszeregowania odbiega kierunkowi, wy¬ znaczonemu torami wiazek elektronów emitowa¬ nych przez wyrzutnie elektronowa, przez które to otwory przelatuja elektrony wiazki odchylonej ku ekranowi luminoforowemu, znamienne tym, ze pier- 40 wsze (134) z przewodników (134,136) rozmieszczonych na sciance tylnej (20) banki prózniowej (12) sa uksztaltowane tak, iz maja obszary szersze (134a) laczone obszarami wezszymi (134b), a drugie (136) z przewodników (134, 136) sasiadujace z pierwszy- 45 mi przewodnikami (134) maja obszary szersze (136a) usytuowane miedzy obszarami wezszymi <134b) pierwszych przewodników (134) i obszary wezsze (136b) usytuowane miedzy obszarami szer¬ szymi (134a) pierwszych przewodników (134) tak, iz 50 dlugosc kazdego obszaru szerszego (134a) kazdego z pierwszych przewodników (134) rftierzona w kie¬ runku prostopadlym do kierunku wyznaczonego . torami wiazek elektronów jest równa dlugosci obszaru wezszego (136b) kazdego z drugich prze- 55 wodników (136), a dlugosc kazdego Obszaru wez¬ szego (134b) pierwszych przewodników (134) mie¬ rzona w tym samym kierunku jest równa dlugosci obszaru szerszego (136a) kazdego z drugich prze¬ wodników (136), przy czym otwory (138c) w elek- 60 trodzie siatkowej (138) sa uszeregowane w kolum¬ nach skierowanych równolegle do kierunku wy¬ znaczonego torami wiazek, których to kolejna licz¬ ba odpowiada liczbie ogniskowanych wiazek i roz- 65 mieszczona "nad obszarami szerszymi (134a) pier- wszych przewodników (134), scianki wzdluzne (138b) otworów (138c sa usytuowane nad obszara¬ mi wezszymi (134b) pierwszych przewodników <134), a scianki poprzeczne (138a) tych otworów <138c) sa usytuowane nad obszarami wezszymi (136b) drugich przewodników (136). 4. Urzadzenie wedlug zastrz. 3, znamienne tym, ze miedzy pierwsza elektroda siatkowa (138) a scianka czolowa (18) z ekranem luminoforowym (28) umieszczona jest druga elektroda siatkowa (142) z rozmieszczonymi otworami (144), z których to otworów <144) kazdy jest usytuowany nad otworem (138c) w pierwszej elektrodzie siatko¬ wej (138). 5. Urzadzenie wedlug zastrz. 3 albo 4, znamienne tym, ze pierwsze przewodniki (234) z przewodni¬ ków (234, 236) rozmieszczonych na sciance tylnej (20) banki prózniowej (12) maja obszary szersze (234a) w ksztalcie eliptycznym polaczone obszarami wezszymi (234b), a pierwsza elektroda siatkowa (238) ma otwory (234c) w ksztalcie odwzorowuja¬ cym ksztalt szerszych obszarów (234a) pierwszych przewodników (234), z których to otworów (234c) kazdy jest usytuowany nad szerszym obszarem (234a) kazdego z pierwszych przewodników (234). 6. Plaskie urzadzenie obrazowe zawierajace ban¬ ke prózniowa, skladajaca sie ze scianki tylnej, scianki czolowej równoleglej do scianki tylnej, na której powierzchni wewnetrznej nalozony jest ekran luminoforowy, scianek bocznych oraz we¬ wnetrznej konstrukcji nosnej, zabezpieczajacej plaska banke prózniowa przed implozja, w której to bance w sekcji wyrzutni elektronowej umie¬ szczona jest wyrzutnia elektronowa wieloczlonowa, przeznaczona do wytwarzania i kierowania wielu wiazek elektronów w. kierunku scianki bocznej przeciwleglej do tej scianki bocznej, wzdluz której usytuowana jest wyrzutnia elektronowa, zasadni¬ czo prostoliniowymi torami równoleglymi do scian¬ ki czolowej z ekranem luminoforowym, a w sekcji odchylania, przylegajacej bezposrednio do sekcji wyrzutni elektronowej, usytuowane sa prowadnice ogniskujace, z których kazda jest przyporzadko¬ wana nolegle do" torów wiazek elektronów w poczatko¬ wych odcinkach, przeznaczone do skupiania elek¬ tronów w wiazkach i do odchylania wiazek ku ekranowi luminoforowemu w wybieranych punk¬ tach torów wiazek, z których to prowadnic ognis¬ kujacych kazda prowadnica sklada sie z rozmie¬ szczonych z pewnym odstepem na sciance tylnej banki prózniowej przewodników prostopadlych do kierunku torów wiazek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, plaskiej elektrody siatkowej równoleglej do plaszczyzny przechodza¬ cej przez tory wiazek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, która to elektroda siatkowa jest umieszczona w pewnym odstepie od plaszczyzny wyznaczonej torami wiazek w poczat¬ kowych ich odcinkach i w której to elektrodzie siatkowej wykonane sa otwory rozmieszczone na calej powierzchni elektrody siatkowej i uszerego¬ wane w taki sposób, iz kierunek tego uszeregowa¬ nia odpowiada kierunkowi, wyznaczonemu torami23 115 766 24 wiazek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elektronowa, przez które to otwory przelatuja elektrony wiazki odchylonej ku ekranowi lumino- forowemu, znamienne tym, ze równolegle prze¬ wodniki (62) rozmieszczone na sciance tylnej (20) banki prózniowej (12) prostopadle do kierunku wyznaczonego torami wiazek elektronów maja jed¬ nakowe szerokosci, a elektroda siatkowa (64) ma prostokatne otwory (66) uszeregowane w rzedach równoleglych do torów wiazek, których to rzedów liczba odpowiada liczbie ogniskowanych wiazek elektronów, z których to otworów (66) kazdy jest usytuowany nad jednym z przewodników (62) roz¬ mieszczonych na tylnej sciance (20) banki próz¬ niowej (12). 7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze miedzy pierwsza elektroda siatkowa i scianka czolowa (18) z ekranem luminoforowym (28) umie¬ szczona jest druga elektroda siatkowa (72) z otwo¬ rami (74), z których kazdy jest umieszczony nad odpowiednim otworem (66) w pierwszej elektrodzie siatkowej (64). 8. Plaskie urzadzenie obrazowe zawierajace ban¬ ke prózniowa, skladajaca sie ze scianki tylnej, scianki czolowej równoleglej do scianki tylnej, na której powierzchni wewnetrznej konstrukcji nos¬ nej, zabezpieczajacej plaska banke prózniowa przed iimplozja, w której to bance w sekcji wy¬ rzutni elektronowej umieszczona jest wyrzutnia elektronowa wieloczlonowa, przeznaczona do wy¬ twarzania i kierowania wielu wiazek elektronów w kierunku scianki bocznej przeciwleglej do tej scianki bocznej, wzdluz której usytuowana jest wyrzutnia elektronowa, zasadniczo prostoliniowymi torami równoleglymi do scianki czolowej z ekra¬ nem luminoforowym, a w sekcji odchylania, przy¬ legajacej bezposrednio do sekcji wyrzutni elek¬ tronowej, usytuowane sa prowadnice ogniskujace, z których kazda jest przyporzadkowana co naj¬ mniej jednej wiazce elektronów, równolegle do torów wiazek elektronów w poczatkowych ich od¬ cinkach, przeznaczone do skupienia elektronów w wiazkach i do odchylania wiazek ku ekranowi lu- minoforowemu w wybieranych punktach torów wiazek, z których to prowadnic ogniskujacych kazda prowadnica sklada sie z rozmieszczonych z pewnym odstepem na sciance tylnej banki próz¬ niowej przewodników prostopadlych do kierunku torów wiazek elektronów emitowanych przez wy¬ rzutnie elektronowa, plaskiej elektrody siatkowej równoleglej do plaszczyzny przechodzacej przez tory wiazek elektronów emitowanych przez wy¬ rzutnie elektronowa, która to elektroda siatkowa jest umieszczona w pewnym odstepie od plaszczyz¬ ny wyznaczonej torami wiazek w poczatkowych rch odcinkach i -w której to elektrodzie siatkowej wykonane sa otwory rozmieszczone na calej po¬ wierzchni elektrody siatkowej i uszeregowane w taki sposób, iz kierunek tego uszeregowania odpo¬ wiada kierunkowi, wyznaczonemu torami wiazek elektronów emitowanych przez wyrzutnie elek¬ tronowa, przez które to otwory przelatuja elektro¬ dy wiazki odchylonej ku ekranowi luminofoTOwe- mu, znamienne tym, ze równolegle przewodniki (162) rozmieszczone na tylnej sciance (20) banki prózniowej (12) prostopadle do kierunku wyzna¬ czonego torami wiazek elektronów maja jedna¬ kowe szerokosci, a elektroda siatkowa (164) ma otwory (166a), 166b) uszeregowane w kolumnach równoleglych do kierunku wyznaczonego- torami wiazek, których to kolumn liczba odpowiada licz¬ bie ogniskowanych wiazek, z których to otworów pierwsze otwory (166a) i drugie otwory (166b) tworza osobne kolumny równolegle do kierunku wyznaczonego' torami wiazek i rzedy prostopadle do kierunku wyznaczonego torami wiazek, przy czym srodki drugich otworów (166b) w kazdej z tworzonej przez nich kolumnie sa przesuniete wzgledem srodków pierwszych otworów (166a) w kazdej z sasiednich tworzonych przez nich ko¬ lumn w kierunku wzdluznym o polowe odleglosci miedzy kolejnymi otworami w kolumnie, a w kie¬ runku prostopadlym do kierunku wyznaczonym przez tory wiazek o odleglosc mniejsza niz wy¬ nosi szerokosc otworów (166a, 166b) mierzona w kierunku prostopadlym do kierunku wyznaczonego torami wiazek. 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze miedzy pierwsza elektroda siatkowa (164) a scianka czolowa (18) banki prózniowej (12) z ekra¬ nem luminoforowym (28) umieszczona jest druga elektroda siatkowa z otworami pierwszymi (174a) i drugimi (174b), z których to otworów pierwsze otwory (174a) i drugie otwory (174b) tworza osob¬ ne kolumny równolegle do kierunku wyznaczonego torami wiazek i rzedy prostopadle do wyznaczo¬ nego torami wiazek, przy czym otwory pierwsze (174a) i drugie (174b) w drugiej elektrodzie siatko¬ wej sa rozmieszczone wedlug takiego samego ukla¬ du, jak w pierwszej elektrodzie siatkowej (164) z tym, ze pierwsze otwory (174a) uszeregowane w rzedach usytuowanych nad rzedami pierwszych otworów (166a) w pierwszej elektrodzie siatkowej (164) sa przesuniete wzgledem pierwszych otworów (166a) w pierwszej elektrodzie siatkowej (164) o polowe odleglosci miedzy srodkami tych otworów, a drugie otwory (174b) uszeregowane w rzedach usytuowanych nad rzedami drugich otworów (166b) w pierwszej elektrodzie (164) sa przesuniete wzgledem drugich otworów (166b) w pierwszej' elektrodzie siatkowej (164) o polowe odleglosci miedzy srodkami tych otworów. 10 15 20 26 30 35 40 45 50115 766 22 —l- Fig. 2. «-| f Ftg.3 7 J H ///J 234c 154 ?0 !J4H J34n 136 n 10 / '44 i4? ( /7? / \^&yy» ^ywy-yw v „^ FigJO n l115 766 I Fig.15. fig i? Fig. 19.PZGraf. Koszalin A-302 100 A-4 Cena 100 zl PLThe subject of the invention is a flat imaging device with a deflection unit designed to direct an electron beam to the image screen of this device, in particular for limiting the guidance and selective deflection of the electron beams. Efforts have been made for a long time to reduce the depth (thickness) of the image tube in order to obtain essentially a flat imaging device. One of the proposed solutions consists in the use of a bank in the shape of a flat box, one of the larger sides of which is the front plate on which the phosphor screen is placed. The electron gun directs the electrons along the tube in a direction substantially parallel to the screen. The deflection elements provide for selectively deflecting the electrons to successive points on the screen in order to obtain the required selection. An imaging lamp of this type is described in U.S. Patent No. 2,928,014 of WRAiken's invention entitled "Cathode Ray Tube with Electronics" published March 8, 1960 When this technical principle is applied, problems emerge in the realization of flat imaging devices with large screens, such as screens with dimensions of approximately 75 cm x 100 cm. "In such large-scale devices it is required an internal support structure of a certain type protecting the vacuum tube against implosion. A device with such an internal support structure is described in US Patent No. 2,858,464. In a lamp with an internal support structure, keeping the electron beam focused and guiding the electron beam is more critical, as it requires protection against interaction of the support structure with the electron beam. . As the beam of emitted electrons moves away from the source, these electrons tend to diverge, which results in an increase in the transverse dimensions of the beam. In the event that the electron scatter is sufficient for the electrons to contact the support structure, lamps are charged electrically, which disturbs the correct operation of the lamp. It is known that keeping the electron beam in a concentrated state can be achieved by the guide of the beams generating the electrostatic field affecting the electron beam in such a way that these electrons are concentrated a relatively narrow beam during the flight of electrons through the space of the banks. The beam guide serves to deflect the beam towards the luminous screen at selected points along the beam path. To simplify the construction of such a flat imaging device, it is preferable that the beam guides have a relatively simple structure, is that the guide can be made of a minimum number of parts that can be easily assembled and at the same time perform the required functions. The subject of the invention is a flat imaging device containing vacuum banks, consisting of a back wall, a wall the frontal wall parallel to the rear wall, on the internal surface of which there is a phosphor screen, the side walls and the internal supporting structure protecting the flat vacuum bank against implosion, in which a multi-lobe electron launcher is located in the electron beam section, intended for ¬ generate and direct multiple electron beams in? in the direction of the side wall opposite to that side wall along which the electron gun is located, essentially rectilinear paths parallel to the forehead with the phosphor screen, and in the deflection section directly adjacent to the electron gun section, each guide is provided. Assigned to at least one electron beam, and situated parallel to the electron beam paths in their initial sections, they are designed to focus electrons in the bundles and deflect the beams towards the phosphor screen at selected points on the beam paths. Each guide consists of a certain gap on the back wall of the banks of vacuum conductors perpendicular to the direction of the electron beam paths emitted by the electron beam, flat electrode parallel to the plane passing through the paths of electron beams emitted by the electron guns, which is a mesh electrode a is located at a certain distance from the plane defined by the paths of the bundles in their initial sections, and in which the mesh electrode is made openings distributed over the entire surface of the mesh electrode and arranged in such a way that the direction of this arrangement corresponds to the direction defined by the paths In accordance with the invention, in the deflection section in the space between the mesh electrode and the back wall of the vacuum bank, focusing electrodes are arranged, each of which is arranged in the direction of the luminous shield. assigned to one electron beam, directed parallel to the beam paths emitted by the electron guns. The openings of the planar mesh electrode are arranged so that their longitudinal walls are directed parallel to the bundle tracks and are situated opposite the assigned focusing electrode. The transverse walls of these openings face the paths of the bundles. Conductors arranged on the back wall 5 766 and the vacuum banks have different widths. While. The center of each hole in the mesh electrode is positioned over one of the narrow conductors, and the center of the transverse wall of each hole is over one of the wider conductors. In the focal guide between the flat mesh electrode and the forehead of the in the phosphor screen, a second flat mesh electrode is disposed with holes, each of which is positioned above one of the holes in the first mesh electrode. It is preferred that the first of the conductors arranged on the back wall of the vacuum banks are shaped such that have broader areas connected by the narrower regions, and the second of the guides adjacent to the first conductors have wider areas located between the greater areas of the midline guides and areas that are located between the broader areas of the first guides, either. the length of each wider region of each of the first conductors, measured perpendicular to the direction of the electron beam paths, is equal to the length of the narrow region of each of the second conductors, and the length of each narrow region of the first conductors is measured in the same direction. is equal to the length of the wider area of each of the second conductors, the holes in the mesh electrode being lined up in columns parallel to the direction of the bundle paths, the next number of which corresponds to the number of focussed beams and is arranged over the wider areas of the first conductors, longitudinal walls the openings are situated above the lighter areas of the first conductors, and the walls: the transverse areas of these openings are situated above the lighter areas of the second conductors. Between the first mesh electrode and the end face with a phosphor screen there is a second mesh electrode with distributed openings, the openings of which areeach is positioned above a hole in the first mesh electrode. The first conductors of conductors arranged on the back wall of the vacuum bank have wider areas in an elliptical shape bordered by more narrow areas, and the first mesh electrode has openings in the shape of a similar shape. broader regions of the first conductors, the holes each of which are located above the broader region of each of the first conductors. It is also advantageous if the parallel conductors arranged on the back wall of the vacuum banks perpendicular to the direction of the 60 electron beam paths have equal width, and the mesh electrode has rectangular holes lined up in rows parallel to the beam paths, the number of which corresponds to the number of focussed electron beams, of which n holes are each located over one of the conductors arranged on the back side. wall of the banks of the vacuum. Between the first electrode a second mesh electrode with holes, each of which is placed over a corresponding hole in the first mesh electrode. It is also advantageous to have parallel conductors arranged on the back wall of the vacuum bank perpendicular to the direction of the mesh and the front wall with a phosphor screen. of the electron beam paths are of equal width, and the mesh electrode has holes lined up in columns parallel to the direction of the beam paths, the number of columns of which corresponds to the number of focused beams, the openings of which the first holes and the second holes form separate columns parallel to the direction of the bundles and the rows perpendicularly to the direction of the bundles, with the centers of the second holes in each of the columns formed by them being shifted relative to the centers of the first holes in each of the adjacent columns formed by them in the longitudinal direction by half the distance between them another hole m in the column, and in the direction perpendicular to the direction of the beam paths by a distance less than the width of the holes measured in the direction perpendicular to the direction of the beam paths. Between the first mesh electrode and the front wall of the vacuum bank with a phosphor screen is placed a second mesh electrode with first and second holes, the first and second holes of which form separate columns parallel to the direction defined by the bundle paths and the rows perpendicular to the bundle paths, the first and second openings in the second electrode are arranged in the same arrangement as in the first mesh electrode, except that the first holes in the rows located above the rows of the first holes in the first mesh electrode are offset by half of the first holes in the first mesh electrode. the distances between the centers of these holes and the other holes in a row In the rows located above the rows of second holes in the first electrode, they are offset from the second holes in the first mesh electrode by half the distance between the centers of these holes. The subject of the invention is illustrated in the examples of the drawing, in which Fig. 1 shows a flat surface. the imaging device in a partial sectional perspective view, Fig. 2 - a part of one embodiment of the beam guide in a perspective view in partial section for the device of Fig. 1, Fig. 3 - a cross section of a part of the guide the bundle of Fig. 2, Fig. 4 - longitudinal section of the guide part of the bundle of lig. 2 along the lines 4-4 of Fig. 3, Fig. 5 - another embodiment of the bundle guide in a partial sectional perspective view, Fig. 6 - cross-section of a part of the bundle guide in Fig. 5, Fig. 7 - sectional view. the longitudinal part of the bundle guide 5 of Fig. 5 along the lines 7-7 of Fig. 6, Fig. 8 - part of another embodiment of the electrode in a plan view intended for the bundle guide 5 of Fig. 5, Fig. 9 - part of yet another Top view of an embodiment of the mesh electrode for use with the electrodes shown in Fig. 8 in the bundle guide of Fig. 5, Fig. IG - cross-sectional view of another embodiment of the bundle guide, Fig. 11 - section along line 11-11 in Fig. 10, Fig. 12 is a partial sectional perspective view of a part of yet another embodiment of the bundle guide, Fig. 13 is a cross-section of a portion of the bundle guide shown in Fig. 12, Fig. 14 is a section along line 14. - 14 in Fig. 13, Fig. 15 - partial sectional perspective view parts of the modified bundle guide shown in Figs. 12-14, Fig. 16 - longitudinal section of the bundle guide shown in Fig. 15, with the cross-section taken along one of the bundle tracks, Fig. 17 - section along line 17-17 in Figs. 16, Fig. 18 is a section along the lines 18-18 in Fig. 16, Fig. 19 is a longitudinal sectional view illustrating another embodiment of the focusing guide of the bundle shown in Figs. 12-18. In Fig. 1, one embodiment is shown. the imaging apparatus 10 of the invention. The imaging device consists of a vacuum shield 12, usually of glass, divided into image sections 14 and electron gun sections 16. The pictorial section comprises a rectangular front wall 18 on which the screen is formed and a rectangular back wall 20 located at a distance from the front wall and parallel to the front wall. The front walls 18 and the rear walls 20 are connected by the side walls 22. The front walls 18 and the rear walls 20 are dimensioned so that the screen dimensions are 75 x 100 cm, and the separation between these walls is 2.5 to 7.5 cm. Between the forehead 18 and the posterior wall 20 are a plurality of spaced parallel support walls 24 extending from the launcher section 16 to the side wall 22 on the opposite side. The supporting walls 24 perform the role of the required internal supporting structure. a bank of vacuum 12 to counteract the forces of external atmospheric pressure and divides the image sections 14 into a plurality of channels 26. A phosphor screen 28 is provided on the inner surface of the face 18. The phosphor screen 28 may be any well-known screen type such as as are currently used in cathode ray tubes, for example in black and white or color television picture lamps. Overlaying the luminescent screen 28 is a layered metallization 30, produced by a vacuum sputtering method, constituting an electrode. The launcher section 16 is an extension of the image section 14 and is located along one set of adjacent end portions of the channels 26. The launcher section may have any shape corresponding to it. 55 607 115 766 8 to accommodate a specific electron launcher. The launchers in launcher section 16 may be of any design suitable for selectively directing the electron beam 5 along each of the channels 26. For example, the structure of the launcher may consist of many individuals. Dual launchers located at the ends of channels 26 designed to direct separate beams of electrons along the channels. The structure of the launcher may consist of a linear cathode located along the launcher section 16 through the ends of channels 26 and adapted to selectively direct individual electron beams along the channels. For each channel 26 there are focal guides designed to keep the electrons concentrated. bundled into the channel, the electrons following the path along the channel. Each guide also has means for deflecting the ordered beam towards the luminescent screen 28 at different points of the beam path along the channel 26. Figures 2, 3 and 4 show one embodiment of the focusing guide according to the present invention, positioned in channel 26. As shown, four focus guides are provided in each channel 26. However, it should be noted that each channel 26 may have any required number of guides. The focus guides according to the illustrated embodiment have two alternating groups of conductors 34 and 36 positioned on the inner surface of the rear wall 20 transversely to the direction of the channels 26. Conductors 34 and 36 are made of strips of material with good electrical conductivity, such as a metal layer deposited on the inner surface of the rear wall 20 by vacuum evaporation or some other method. The conductors 34 and 36 are spaced at a certain interval over the entire length of the channel 26. It is advisable that the conductors 36 be wider, i.e. that their dimensions along the channel are greater than the dimensions of the conductors 34. However, it is not excluded that the conductors 36 and 34 were of equal width. The first metal mesh electrode 38 is placed along the entire length of channel 26 parallel to the posterior wall 20 at a distance from the posterior wall 20. The first mesh electrode 38 is secured in the grooves made in the support walls 24. The first the mesh electrode 38 has a regular structure, consisting of equal pieces, each of which has elements 38a and 38b crossing at right angles. One of these elements 38a is perpendicular to the direction of channel 26. Each element 38a is opposite and parallel to one of the conductors 36. The elements 38a may be substantially the same width as the conductors 36. It is recommended that their width was slightly smaller than the width of the conductors 36. The other elements 38b are placed parallel to the direction of channel 26. Thus, the crossing elements 38a and 38b form a set of rectangular holes 38c in the first mesh electrode 38. 3Sc holes are arranged in several? Rows along channel 26, along channel 26 a plurality of focussing electrodes 40 are disposed. They are also positioned with a certain distance between the first metal electrode 38 and conductors 34 and 36. The focusing electrodes 40 are positioned parallel and spaced from each other, each electrode 40 is positioned opposite to respective portions 38b of the first mesh electrode along the channel 26. As shown, each focusing electrode 40 is made of a circular metal wire and has a diameter of substantially equal to the width of the first electrode element 36b directed along channel 26. It should be noted, however, that electrodes 40 may of course have any other cross-section, but their width should not be greater than the width of the grid extensions 38b 38. A second metal mesh electrode 42 is disposed in the channel 26 parallel to and at a distance from the first metal electrode. j 38 in front of the front wall 18. The second mesh electrode 42 is secured in the grooves of the support walls 24. The second mesh electrode 42 has a plurality of holes 44. Each of the holes has. substantially the same dimensions and is positioned exactly opposite the corresponding holes 38e of the first mesh electrode 38. Thus, the holes 44 are arranged in several rows over the entire width of the channel 26. In an embodiment of the picture lamp according to the invention, the typical dimensions of the focusing guide elements are the following dimensions: first electrode the mesh 38 is offset from conductors 34 and 36 by about 1.02 mm, and the second mesh electrode 42 is offset 1 from the first mesh electrode 38 by about 0.25 mm. Each of the focusing electrodes 40 has a diameter of about 0.25 mm and is spaced from conductors 34 and 36 by about 0.25 mm, while the distance between their centers is about 3.56 mm. In the first mesh electrode, the elements 38a have a width of about 0.61 mm and a distance between them with the centers is 1.52 mm. The elements 38b have a width of about 0.25 mm, and; Their centers are separated from each other by a distance of about 3.56 mm. The width of the conductors 36 over the entire length of channel 26 is about 0.61 mm, and the width of the conductors 34 is about 0.41 mm. During operation of the imaging device 10 a high positive potential, usually about + 125V, is initially applied. to each of the conductors 34, a potential of approximately 180 volts is maintained on the second mesh electrode 42. Low potential 20 25 30 35 40 45 50 55 609 115 766 10 A positive body, typically about + 56V, is applied to each of the conductors 36, to the first mesh electrode 38, and to each of the electrodes 40. of the launcher section generate electrons and direct several electron beams to each channel 26. The electron beams are directed between the posterior wall 20 and the first mesh electrode 38, each beam being between a pair of adjoining electrodes 40, so that electrons of the bundles pass essentially a rectilinear path along channel 26. In FIGS. 3 and 4, electron beams 46 are marked with dashed lines. As shown in FIG. 3, due to the potential difference between electrodes 40 and conductors 34, an electrostatic field is generated between them, which the lines of the force are marked with arrows 48. Due to the potential difference between the first mesh electrode 38 and the second mesh electrode 42, the electrostatic lines, the power lines of which are marked with arrows 50. As a result of the interaction of electrostatic fields on the electrons of bundles 46, the separation of electrons from the bundle during their passage in the channel is prevented or limited, and the lateral position of the bundles 46 is established during the electron flight along the guide. 4, as a result of the potential difference between the conductors 34 and 36, an electrostatic field is created between the conductors, the power lines of which are indicated by arrows 52. The power lines indicated by arrows 53 define the electrostatic waves generated between the elements 38a of the first electrode. mesh 38 and the corresponding elements of the second mesh electrode 42. During the passage of electrons of each beam in the space between the first '38 mesh electrode and the back wall 20 with conductors 34 and 36, subsequent electrostatic fields affect the beam electrodes, thanks to what is obtained periodic focusing (focusing) of electrons in The combination of periodic focusing and limiting the transverse movement of the electrons keeps the electrons in a bundle over the entire length of the guide or until they are withdrawn from it. Thus, each focusing guide includes a pair of adjacent electrodes 40 and sections of conductors. 34 and 36, and fragments of the first and second mesh electrodes 38 and 42 located above electrodes 40. In order to lead the electron beam 46 from the guide, the polarity of the potential applied to conductor 34 is changed to negative, for example to -60 volts. As the beam electrons pass over this conductor 34, they are attracted by the grating electrode 42, which has a high positive potential. Thus, the beam electrons may be deflected from the negative conductor 34, pass through the adjacent hole 38c of the first mesh electrode 38 and through the aligning hole 44 of the second mesh electrode; 42 and exit the guide. Beam electrons 46 are attracted. to the phosphor screen 28 due to the large positive potential of the metallization layer 30, which causes the electrons of the beams to hit the phosphor screen. One embodiment of the imaging device 10 operates by having the conductor 34 closest to the sidewall 22 lying adjacent to the gun section 16 is the first conductor to be switched to low potential. Therefore, all the bundles 46 in all channels 26 will be deflected at a point near this side wall 22, so that they are led out of their associated guides and directed towards the phosphor screen 28. The other electrodes 34 are switched to the low one. potential successively over the entire length of the channels in such a way that the beams are led out of the guides at different points of the beam path along the channel. In this way, the selection of successive lines on the phosphor screen 28 is carried out. On the phosphor screen 28, a video image can be obtained. by carrying out these switches at the appropriate speed and by modulating the different beams in the launcher section 16 in each line selection. The playback picture can be viewed through the front wall 18 banks 12. Line selection may start at a point farthest from the launcher section 16, yes that the point at which the beam deviates from its rectilinear path gradually shifts to The direction of the opposite side wall 22 closest to section 16 or the switching of the potential applied to the successive electrodes 34 may be performed in any desired sequence; in order to obtain the required image on the phosphor screen 28. Figures 5, 6 and 7 show another embodiment of a focusing guide that may be used in the imaging apparatus 10. The guide according to this embodiment is substantially identical to the guide shown in Figs. 2-A with the difference that there are no electrodes 40, and conductors 34 and 36 are replaced by conductors 134 and 136 constructed in such a way as to carry out the focusing functions of the previous example. The day of manufacture with electrodes 40. The conductors 134 and 136 are in the form of strips of electrically conductive material, such as a metal layered by a vacuum evaporation method on the back wall 20 over the entire length of channel 26. Each of the conductors 134 has a plurality of rectangular wider regions 134a interconnected by narrower regions 134b. Each of the wider regions 134a has an area slightly smaller than the individual openings 138c of the first el. of the mesh electrode 188 in the first embodiment and its positioning corresponds to the position of the corresponding hole. The lateral regions 134b are positioned such that their center coincides with the center of the mesh element 138b extending along the channel 26, at 10 15 20 25 90 35 45 50 55 60 115 766 11 12, the length of the grid 138 of this region is substantially equal to the width of the element 138b. Each of the conductors 136 consists of broader regions 136a connected by nodal regions, each of the larger regions 136a being located between the respective knot regions. Thus, the line through the centers of the broader regions 136a of the conductors 136 coincides with the line through the centers of the elements 138b of the first metal mesh electrode 138, and the length of these wider regions 136a is no greater than the width of the elements 138b of the mesh electrode 138. In a typical design of the focusing guide, the first mesh electrode 138 is t spaced from conductors 134 and 136 by about 0.76 mm, while the second grid electrode 142 is spaced from the first grid electrode 138 by about 0.25 mm. The elements 138a of the first mesh electrode 138 have a width of about 0.51 mm and their center distances are about 1.52 mm. The elements 138b are about 0.25 mm wide and their centers are about 3.56 mm apart. previously, the dimensions of the conductors 134 and 136 correspond to the dimensions of the elements 138a and 138b and the dimensions of the openings 138c of the first mesh electrode 138. During operation of the imaging device 10 having the focal structure described above, the stresses applied and the operation of the elements are substantially the same. as in the case of the described focusing guide shown in FIGS. 2-4. As shown in Fig. 7, during the flight of electrons of each beam 146 along the guide, the electrons are periodically concentrated due to the interaction of the electrostatic fields generated in the areas between conductors 134 and 136 and between the grid electrodes 13t and 142, thereby obtaining Keeping the electrons in the bundle in a concentrated state is attempted. As shown in FIG. 6, the limitation of the transverse movement of electrons in bundle 146 is achieved by the interaction of the electrostatic fields generated between the mesh electrodes 138 and 142 and between the wider regions 136a. of conductors 136 and the broader regions 134a of conductors 134. The removal of electrons 146 from the guides is achieved in the same manner previously described by switching the polarity of the potentials applied to conductors 134, for example at -60V. Thus, in this embodiment of the focusing guide, the limitation of the lateral movement of the electrons in the beam is achieved by designing conductors 134 and 136 appropriately and not by focusing electrodes 40, since conductors 134 and 136 are in the form of a metallization layer deposited on top of the beam. surfaces of the back wall 20, it is easier to form a conductor of any desired shape than to properly secure the wire electrodes 40 at a defined distance between the back wall 20 * and the first metal electrode 38. In the focal guide according to the second embodiment, rectangular shape of the wider areas 134a conductors 134 cause the generated electrostatic field to be non-uniform and exhibit increased intensity in the corners, which can cause breakdowns. To eliminate this, it is preferable to make the areas more rounded to eliminate sharp flooding. Fig. 8 shows pr a catheter 234 having broader regions 234a of a substantially elliptical shape with the main axis pointing perpendicularly to the axis of the channels 26. The elliptical wider regions 234a are connected by narrower connecting regions 234b, located along the major wider regions 20 234c, Conductor shape 236 is delimited by the shape of guides 234, for conductor 236 occupies the area essentially between two consecutive conductors 234. The rounded shapes of the broader areas 234 not. 25 only reduce the possibility of breakdown, but also cause the interaction of electrostatic fields on the beam electrons to become more uniform along the electron beam. In the event that the wider regions 234a of conductors 234 are rounded, the first grid 238 is used, in For example, Figure 9 shows a first mesh of electrode 238 with holes 35 238c formed therein, the shape of which corresponds to the elliptical shape of the broader regions 234a of conductors 234. 11 shows an example of another embodiment of a focusing guide that may be used in an imaging apparatus 10. The focusing guide of this embodiment is substantially identical to the focusing guide shown in FIGS. 2-4 except that it is not there are electrodes 40 and a second. 45 mesh electrode 42. The focusing guide, according to this embodiment, operates substantially in the same manner as the previously described guide shown in FIGS. 2-4. However, as shown in FIG. 10, the limitation of lateral displacement of the electrons in bundle 346: is obtained. due to the interaction of the electrostatic fields between the longitudinal members 338b of the mesh electrode 338-55 and the individual conductors 334 and the metallization layer 30 of the phosphor 28. A high potential of +2000 V to +8000 V is usually applied to the metallization layer 30. the value of which depends on the potential of the electron generating cathode 60 in the gun section 16 and on the distance between the metallization layer 30 and the mesh electrode 338. When the distance between the metallization layer 30 'and the mesh electrode 338 is about 17.02 mm. a sufficient intensity of electrostatic fields 65 is obtained at a potential of about 5000 V. 50115 766 13 u - If this distance is greater, the potential should also be greater, while when the distance is smaller, the potential may be correspondingly smaller. As shown in Fig. 11, as the electrons of the beam 346 pass along the guide, the periodic focus of the beam is obtained due to the action of the electrostatic fields created in the areas between conductors 334 and 336 and "between the elements 338a of the mesh electrode 338 and the metallization layer 30. As previously mentioned in Referring to the focusing guide shown in Figs. 2-4, the derivation of the electron beam 346 from the guide is achieved by switching the potentials applied to conductors 334, for example at -10 volts. Thus, such a focus guide functions substantially in the same way as the focus guide shown in Figs. 2-4. However, this focus guide is significant that is of simpler construction compared to the focusing guide shown in Figures 2-4 as it has only one mesh electrode. The focus guide shown in Figures 2-4 and the focusing guide shown in Figures 10-11 can both work rather under conditions where all conductors located on the back 20, i.e. conductors 34 and 36 and conductors 334 and 336, have equal high potentials, e.g. 125 V, than under conditions where some of these conductors have high potential and others - The advantage that all conductors have equal potential is that a simpler electrical system is required for such a guide, and each conductor of each guide collection may be linked to an adjacent conductor of the second set of conductors so that it may any required shape of these conductors can be obtained, while the disadvantage of such a device is that the intensity of the focusing electrostatic field decreases, as a result of which it changes The effect of this field on the beam electrons is greater and the focusing properties of the guide are reduced. Figures 12-14 show yet another example of the embodiment of the focusing guide according to the invention that can be used in an imaging device. 10. 26 banks in each channel. 12 between the bearers 24 are a plurality of focus guides, four of which are shown. The focus guides include a plurality of parallel conductors 62 disposed at a distance on the interior surface of the rear wall 20 perpendicular to the axis of the channel 26 over its entire length. The conductors 62 are in the form of strips of electrically conductive material, such as metal, layered on the back wall 20. The first metal mesh electrode 64 is parallel to the back wall and is positioned at a distance from the back wall 26. The first mesh electrode 64 is secured in the grooves of the rails 24, the first mesh electrode 64 has a plurality of rectangular openings 66 formed therein, the openings 66 are arranged in rows extending longitudinally and transversely to the axis of the channel 26. This arrangement of the holes 66 ensures that the first mesh electrode is 64 has longitudinal members 68 extending along the axis of channel 26 and cross members 70 directed perpendicular to the axis of channel 26. Openings 66 arranged in a line parallel to the axis of channel 26 are located above the corresponding conductors 62 on the rear wall 20. A second metal mesh electrode 72 is parallel to the first electrode 64 and is located at a distance from the first electrode The mesh electrode 64 in front of the front wall 18. The second mesh electrode 72 has a plurality of rectangular holes 74 formed therein. The holes 74 are arranged in rows directed along and transversely to the axis of the channel 26, each of the holes 74 located therein. above the corresponding opening 66 of the first mesh electrode 6 *. Thus, the second mesh electrode 72 has longitudinal members 76 and transverse members T8 bridging the holes 74. The width of the conductors 62 in a typical design of a focusing guide of this type, i.e. the dimension measured along the channel 26, is about 1.25 mm, while the gap between them is about 0.25 mm. The first mesh electrode 64 is spaced from the conductors 62 by about 0.25 mm, and the second mesh electrode 72 is spaced from the first mesh electrode 64 by about 0.76 mm. The dimensions of the openings 66 and 76 of the mesh electrodes 64 and 70 are measured perpendicular to it. the axis of the channel 26 is approximately 3.30 m, and the dimensions of these openings measured along the channel 26 are accordingly approximately 0.01 mm. The openings of each mesh electrode are arranged transversely to channel 26 with a spacing of approximately 1.78 mm and in a direction parallel to the axis of channel 26 with a spacing of approximately 8-1 frames. When operating the imaging device with such a focal guide, high a positive potential, usually around +200 volts, is applied to each of the conductors 62, and a small positive potential, usually around +50 volts, is applied to the first and second mesh electrodes 64 and 72. 80 electron beams are . in focus guides between the first mesh electrode 64 and the second mesh electrode 72, the path of each bundle 80 is substantially straight and parallel to the surface of the mesh electrodes. As shown in FIG. 13, due to the potential difference an electrostatic field is generated between the longitudinal members 68 of the first mesh electrode 64 and the conductors 62 between the first mesh electrode 64 and the conductors 62, the fields of which are indicated by the arrows 88. The electrostatic field, the power lines of which are indicated by arrows 84, is formed between the longitudinal elements 36 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 115 766 15 16 of the second mesh electrode 72 and the metallization layer 30 deposited on the phosphor screen 28 due to the potential difference between the second mesh electrode 72 and the metallization layer 30. As previously stated, in the discussion of the focusing guide shown in Figs. 10 and 11 to The metallization layer 30 is typically applied a large positive potential of +2000 V to +8000 V, let us take the electron generating cathode potential in the gun section and the distance between the metallization layer 30 and the second mesh electrode 72, as shown in FIG. 14, due to the potential difference between the first mesh electrode 64 and the conductors 62, an electrostatic field is created between the elements 68 perpendicular to the channel axis 68 of the first mesh electrode 68 and the conductors 62, the power fields of which are indicated by arrows. 86. Due to the potential difference between the second mesh electrode 72 and the metallization layer 30, an electrostatic field is created between the elements 76 of the second mesh electrode and the metallization layer 30, the fields of power lines patterned by arrows 88. These electrostatic fields affect the electrons. beam 80, which in turn leads to the periodic concentration of the beam during the passage of electrons along the the essentially rectilinear path between the grating electrodes 64 and 72. Combining all the electrostatic fields on the electrons, the total interaction of each beam 80 limits the transverse movement of the electrons in the beam along the entire length of the beam path in the focusing guide. On the day of the implementation of the focusing guide, the lead-out of the electron beams from the focusing guide is obtained by switching the polarity of the potential applied to conductors 62, for example -100V. An advantage of this focusing guide compared to the focusing guide shown in Figs. 2-4 and the guide shown in Figs. 5-6 is of a simple structure, such that the focusing electrode and special shape conductors are not required to keep the electrons in the bundle in a concentrated state. Also the conductors, except for the conductor, which is switched to a negative potential to lead the beam out of the guide, are kept at the same potential, which simplifies the design of the control electronics and minimizes the power loss. Although the design of this focal guide is more complicated by the structure of the focusing guide shown in FIGS. 10 and 11, since it has two mesh electrodes instead of one, the focusing guide in question according to this focussing embodiment has the advantages of being able to apply the same potential to all conductors. Even when the focusing guide shown in Figs. 10 and 11 operates at the same potential of all conductors as previously described, it has the advantage that the electrostatic fields are more influenced by the electrons in the beam. In Figures 15-18, a further embodiment of the focusing guide according to the invention is shown. This focusing guide, like the focusing guide shown in FIGS. 12-14, has a plurality of parallel conductors 162 arranged on the rear wall 20 directed perpendicularly to the axis of the channel 26. Also, first 15 and second metallic electrodes. mesh electrodes 164 and 172 placed in channel 26 and secured in the grooves of the rails 24. Rectangular openings 166a and 166b are formed in the first mesh electrode 164. Thereby .. the holes 166a are offset with respect to the holes 166b in the longitudinal direction of the channel 26, so that the center of the hole 166b is midway between the holes 166a and in a transverse direction to the channel axis so that the centers of the holes 166b are centrally between the holes 166a, and the distance between the centers of the holes 166a and 166b in the adjacent columns is less than half the length of the hole, while the distance between the centers of the holes 166 and 166b at the courts in the adjacent rows is slightly greater than half the width of the holes . Thus, openings 166a and 166b in the first mesh electrode 164 form columns directed along the axis of channel 26 and rows directed perpendicular to the axis of channel 26, the length between the axes of two adjacent columns, one of which is formed by the holes 166a and the other, through the holes 166b, respectively, is less than one half of the length of the hole as measured perpendicular to the axis of the channel 26, and the distance between the axes of two adjacent rows, one of which is formed by the holes 166a and the other by the holes 166b are slightly greater than half the width of the holes measured in the longitudinal axis of channel 26. Moreover, the centers of the holes 166b are halfway between the axes of successive columns formed by holes 166a and halfway between the axes of consecutive rows formed by holes 166a. That is, holes 174a and 174b in the second mesh electrode 172 are also rectangular and are also positioned to form a column ny and rows. The rows formed by the holes 174a 55 are precisely above the rows formed by the holes 166a in the first mesh electrode and the rows formed by the holes 174b are over the rows formed by the holes 166b of the first mesh electrode. However, the centers of the holes 174a in the second mesh electrode. are offset from the centers of the respective holes 166a in the first mesh electrode in a direction perpendicular to the axis 65 of channel 26, and the centers of the holes 174b in the second mesh electrode 172 are offset with the centers of the holes 16b in the first mesh electrode 164 in the first mesh electrode 164. in the direction perpendicular to the axis of channel 26. During operation of the imaging device 10 with such a focusing guide, a high potential of about +200 V is applied to each of the guides 162, while a small positive potential of about +50 V is applied to the first and second mesh electrodes 164 and 172. The electron beams 180 are directed to the focus guides between the first and second mesh electrodes 164 and 172.. (Each bundle 180 is directed along a substantially rectilinear path parallel to the direction defined by the overlapping areas of offset holes 166a and 174a in the first 164 and second 172 mesh electrodes. As shown in Figures 16, 17, and 18 in Figs. Due to the potential difference between the first mesh electrode 164 and the conductors 162, an electrostatic field is generated between them, which is represented by the power lines 182. Due to the potential difference between the second mesh electrode 172 and the conductors 162, an electrostatic field is created between them. Due to the potential difference between the second mesh electrode 172 and the metallization layer 30 to which a large positive potential is applied as previously described, an electrostatic field is generated between them, mapped by the power lines 185. potential between the first mesh electrode 164 and the metallization layer and an electrostatic field is generated between them, mapped by force lines 186. These electrostatic fields affect the electrons of the bundles 180 in such a way that they keep the electrons in the bundle 180 concentrated as the electrons fly through the bundles along paths designated by the focus guide. in the other previously described focusing guides, the derivation of the bundles 180 from the focusing guides is achieved by combining the polarity of the potential applied to conductors 162 negative. The advantage of this focusing guide compared to the focusing guides shown in Figs. 12-14 is that that provides the ability to control a greater number of beams per unit width of lamp banks. In the apparatus shown in Figs. 12-14, a single beam path runs along each longitudinal column of holes in the mesh electrodes. However, in the device according to the recently described embodiment of the invention, the number of lanes of the bundles is almost twice as high as in the embodiment shown in Figs. 12-14, provided that both devices have the same transverse and the same dimensions. holes on the mesh electrodes. The greater the number of focus guides, the greater the number of 18 electron beams that can be steered in the imaging device. Figure 19 shows another embodiment of a focusing guide that may be used in the imaging device 10. This focus guide similarly such as the focus guide shown in Figs. 12-14 and the focus guide shown in Figs. 15-18 have a plurality of parallel conductors 262 perpendicular to the channel axis on the back wall 20 and first and second metal mesh electrodes 264 and 272 extending across the channel. The first mesh electrode 264 has a plurality of rectangular holes 266 formed therein, and the second mesh electrode 272 has a plurality of rectangular holes 274 formed therein. The holes 266 and 272 may be arranged "as shown in FIGS. 14 or as in the embodiment 20 shown in Figs. 15-18. However, in this focal guide each row of holes of the second mesh electrode 272 is rather longitudinally offset with respect to the corresponding row of holes of the first mesh electrode 266 rather than directly adjacent to it. - 25 medium over the row of holes in the first mesh electrode. The longitudinal displacement is made in the direction corresponding to the direction of flight of the electrons in the bundles. These focus guides operate in the same way as the previously described focus guides shown in Fig. 12- 14 and Figs. 15-18 depending on the arrangement of the openings of the mesh electrodes. However, in these guides focussing longitudinal displacements The fact that the holes of the second mesh electrode 272 relative to the holes of the first mesh electrode 266 generate electrostatic fields affecting the beam electrons such that the beam paths are imaged with wavy lines between the mesh electrodes 40. As shown in FIG. 19, The electron beam 280 causes the electrons to move slightly towards the mesh electrode 272 as the electrons fly 45 into the holes 274 of the second mesh electrode and a little towards the first mesh electrode 264 as they pass past the holes 266 of the first mesh electrode. the derivation of electron beams 280 50 from a polarity focusing guide 260, a potential applied to one of the conductors, for example conductor 262a, is changed to a negative potential. This causes the path of the electron beam to deflect towards the second mesh electrode 272. The electrons 280 then pass through openings 274a of the second mesh electrode 272 and hit the phosphor screen 28 as shown in Figure 19. of electrons 280 periodically deflects towards the opening 274a of the second mesh electrode, the interaction of electrostatic fields ensuring that the beam discharged from the guide is directed through the holes 274a is not as strong as in other embodiments, and therefore the discharge of the electrostatic beam is not as strong. 10 thrones from the guide can be realized with lower control potentials than is the reality. Referring to the embodiments shown in Figs. 12-14 and Figs. 15-18. In the focusing guides shown in Figs. 10 and 11 having only one mesh electrode 338, slight oscillations of the electron beam 346 can similarly be obtained by longitudinal displacement of holes 338c with respect to conductors 334 in the direction of the movement of electrons% of bundles 346. Although only an example of the imaging device 10 with bearing walls between the posterior and anterior walls has been described in detail to prevent the implosion of the vacuum bank 12, it should be taken into account, however, that that instead of the bearing walls any type of load-bearing structure, for example load-bearing brackets, may be used. It does not matter what type of support structure is used between the front and rear walls, but it must be oriented so as to form channels leading from the launcher section 16 to the side wall opposite the launcher section. Various electrodes have been described in the above embodiment of the invention. mesh located in the channels parallel to the posterior wall and attached to the supporting walls. However, it should be borne in mind that each of the mesh electrodes may be a common electrode for all channels. The imaging device 10 may be provided with additional grids placed between the focus guides and a metallization layer 86 on the phosphor screen 28, and the gratings will fill this mesh. the roles of guides to focus or accelerate the electrons in the bundles while the electrons pass in the space between the focus guide and the phosphor screen 28. If any imaging device of the invention is implemented according to one of the embodiments shown in Fig. 10 -19, taking advantage of the potential difference between the metallization layer 30 and one of the grating electrodes to provide an interaction of the focusing electron beam, contains such an additional grid then the potential difference between the focusing grid electrode and the adjacent additional grid may be used to provide partial electro focusing New moon in bundles. Patent Claims 1. A flat imaging device containing a vacuum bank, consisting of a back wall, a front wall parallel to the back wall, on the inside of which is a phosphor screen, side walls and an internal supporting structure, protecting a flat vacuum bank against implosion, in which banks in the electron gun section are placed a multi-member electron gun for producing and directing a plurality of electron beams towards the side wall opposite to the side wall along which the electron gun is located focussing guides are provided in the deflection section directly adjacent to the electron gun section, each of which is aligned with at least one electron beam, parallel to it. to the electron beam paths in their initial sections, intended to concentrate the electrons in the bundles and to deflect the beams towards the phosphor screen at selected points of the beam paths, of which the focusing guides each guide consists of a bank of perpendicular vacuum conductors located at a certain distance on the rear wall to the direction of the electron beam paths emitted by the electron guns, of a planar mesh electrode parallel to the plane passing through the electron beam paths emitted by the electron guns, which mesh electrode is placed at a distance from the plane defined by the electron beam paths their lengthwise sections and in which the mesh electrode holes are made, distributed over the entire surface of the mesh electrode, and arranged in such a way that the direction of this arrangement corresponds to the direction determined by the paths of electron beams emitted by the electron gun through which the opening May The electrons of the beam deflected towards the phosphor screen pass by, characterized in that in the deflection section (14) in the space between the mesh electrode (38) and the back wall (20) of the vacuum bank (12) the focusing electrodes (40) are disposed. ), each of which is arranged with one electron beam (46), directed parallel to the beam paths emitted by the electron gun (16), and the openings (38c) of the flat mesh electrode (38) are arranged so that their longitudinal walls are (38b) are directed parallel to the tracks I5 of the bundles and are situated opposite the assigned focusing electrode (40), the transverse walls (38a) of these holes (38) are directed perpendicular to the bundle tracks, the conductors (34, 36) are arranged on the the back wall (20) the vacuum banks (12) have different widths, with the center of each hole (38c) in the mesh electrode (38) located above one of the narrow conductors (34), and the center of the wall transverse <38a) each the holes (38c) are located over one of the wider conductors (36) over I5. 2. Device according to claim A method according to claim 1, characterized in that in the focal guide between the flat mesh electrode (38) and the front wall (18) with the phosphor screen (28) there is a second flat mesh electrode (42) with openings (44), of which each is located over one of the openings (38c) in the first mesh electrode (38). 3. A flat imaging device comprising a vacuum bank, consisting of a back wall, 21 115 766 22 of the front wall parallel to the back wall, on the inner surface of which is a phosphor screen, side walls and an internal support structure protecting the flat bank pre-implosion, in which the bends in the electron gun section are placed a multi-member electron gun designed to produce and direct multiple electron beams towards the side wall opposite to the side wall along which the launcher is situated focussing guides are located in the deflection section directly adjacent to the electron gun section, each of which is aligned with at least one bundle of electro-wave, essentially rectilinear paths parallel to the front wall with the phosphor screen. electrons parallel to the electron beam paths in their initial o sections, intended to concentrate the electrons in the bundles and to deflect the beams towards the phosphor screen at selected points of the beam paths, of which the focusing guides each guide consists of banks of vacuum conductors perpendicular to the rear wall arranged with a certain interval on the back wall. direction of the electron beam paths emitted by the electron guns, of a flat mesh electrode parallel to the plane passing through the electron beam paths emitted by the electron guns, which mesh electrode is placed at a distance from the plane defined by the beam paths in their initial sections and in which the mesh electrode holes are made, distributed over the entire surface of the mesh electrode and arranged in such a way that the direction of this arrangement deviates from the direction marked by the paths of the electron beams emitted by the electron guns by which holes pass through the elect the rims of the beam inclined towards the phosphor screen, characterized in that the first (134) of the conductors (134,136) disposed on the rear wall (20) of the vacuum banks (12) are shaped so that they have wider areas (134a) connected by more narrow areas ( 134b), and the second (136) of the guides (134, 136) adjacent to the first guides (134) have wider areas (136a) located between the higher areas <134b) of the first guides (134) and the lateral areas (136b) located between the broader regions (134a) of the first conductors (134) so that the length of each broader region (134a) of each of the first conductors (134) is drawn in a direction perpendicular to the designated direction. of the electron beam paths is equal to the length of the narrow area (136b) of each of the second conductors (136), and the length of each narrow area (134b) of the first conductors (134) measured in the same direction is equal to the length of the wider area ( 136a) of each of the second conductors (136), the openings (138c) in the mesh electrode (138) being lined up in columns oriented parallel to the direction of the bundle paths, the number of which corresponds to the number of focused bundles and positioned "over the broader regions (134a) of the first conductors (134), the longitudinal walls (138b) of the openings (138c are positioned over the nodal areas (134b) of the first conductors <134), and the transverse walls (138a) of these openings <138c) are positioned above the fleshy regions (136b) of the second conductors (136). A device as claimed in claim 3, characterized in that between the first mesh electrode (138) and the end wall (18) with a phosphor screen (28) placed there is a second mesh electrode (142) with apertures (144) disposed of, which holes <144) are each located above an opening (138c) in the first mesh electrode (138). 5. Device according to claim According to claim 3 or 4, characterized in that the first conductors (234) of the conductors (234, 236) arranged on the back wall (20) of the vacuum banks (12) have wider regions (234a) in an elliptical shape connected by more narrow regions (234b), and the first mesh electrode (238) has openings (234c) that mimic the shape of the wider regions (234a) of the first conductors (234), the openings (234c) each of which are located above the wider area (234a) of each of the first conductors ( 234). 6. A flat imaging device comprising a vacuum bank, consisting of a posterior wall, a front wall parallel to the posterior wall, on the inner surface of which is a phosphor screen, side walls and an internal supporting structure protecting the flat vacuum bank against implosion, the bank of which in the electron gun section is located a multi-member electron gun designed to produce and direct a plurality of electron beams in the direction of the side wall opposite to the side wall along which the electron gun is situated, substantially rectilinear paths parallel to the wall the front end with a phosphor screen, and in the deflection section, adjacent to the electron gun section, there are focal guides, each of which is aligned parallel to the "electron beam paths in the initial sections, intended to concentrate the electrons in bundles and for swiveling beam towards the phosphor screen at selected points of the beam paths, of which the focal guides each guide consist of a bank of vacuum conductors arranged with a certain distance on the rear wall perpendicular to the direction of the electron beam paths emitted by the electron gun, a flat mesh electrode parallel to the plane passing through the paths of electron beams emitted by the electron gun, which mesh electrode is placed at a distance from the plane defined by the paths of the bundles in their initial sections, and in which the mesh electrode is made openings distributed over the entire surface of the mesh electrode and arranged in such a way that the direction of the alignment corresponds to the direction defined by the paths of the electron beam emitted by the electron gun, through which the electrons of the beam deflected towards the luminous screen pass through the openings, characterized by the fact that The wrong conductors (62) arranged on the back wall (20) of the vacuum bank (12) perpendicular to the direction of the electron beam paths are of equal width, and the mesh electrode (64) has rectangular holes (66) lined up in rows parallel to the tracks a number of rows the number of which corresponds to the number of focussed electron beams, the holes (66) each of which is located above one of the conductors (62) disposed on the back wall (20) of the vacuum bank (12). 7. Device according to claim 6. The apparatus as claimed in claim 6, characterized in that between the first mesh electrode and the front wall (18) with the phosphor screen (28) there is a second mesh electrode (72) with openings (74), each of which is located above a respective opening (66). ) in the first mesh electrode (64). 8. A flat imaging device comprising a vacuum bank, consisting of a posterior wall, a front wall parallel to the posterior wall, on the surface of which the internal support structure protects the flat vacuum bank against iimplosion, in which the tubes in the electron projection section are there is a multi-member electron gun designed to generate and direct a plurality of electron beams towards a sidewall opposite that sidewall along which the electron gun is located, with substantially rectilinear paths parallel to the phosphor screen front wall and in the deflection section; Focusing guides are located directly adjacent to the electron gun section, each of which is aligned with at least one electron beam, parallel to the electron beam paths in their initial sections, designed to concentrate electrons in bundles and to deflect them. a bundle to the screen or at selected points of the beam paths, of which the focusing guides each guide consists of banks of vacuum conductors arranged with a certain distance on the back wall perpendicular to the direction of the electron beam paths emitted by the projected electron, flat mesh electrode parallel to the plane passing through electron beam paths emitted by the electron beam, which mesh electrode is placed at a distance from the plane defined by the beam paths in the initial sections, and in which mesh electrode holes are made, distributed over the entire surface of the mesh electrode and arranged in a row in such a way that the direction of this alignment corresponds to the direction determined by the paths of the electron beams emitted by the electron guns, through which the electrodes of the beam deflected towards the phosphor screen, characterized in that the conductors (162) are arranged in parallel on the rear wall (20), the vacuum banks (12) perpendicular to the direction of the electron beam paths are of equal width, and the mesh electrode (164) has holes (166a), 166b) lined up in columns parallel to the direction of the paths a bundle of columns the number of which corresponds to the number of focussed bundles, the openings of which the first holes (166a) and the second holes (166b) form separate columns parallel to the direction of the bundle paths and the rows perpendicular to the direction of the bundle paths, the centers of which the second holes (166b) in each column they form are offset from the centers of the first holes (166a) in each of the adjacent columns they form longitudinally by half the distance between the successive holes in the column, and in a direction perpendicular to the direction. determined by the paths of the bundles by a distance smaller than the width of the holes (166a, 166b) measured in the direction perpendicular to the direction determined the ego tracks of bundles. 9. Device according to claim The method of claim 8, characterized in that between the first mesh electrode (164) and the front wall (18) of the vacuum bank (12) with the phosphor screen (28) there is a second mesh electrode with first (174a) and second (174b) openings, the openings of which the first openings (174a) and the second openings (174b) form separate columns parallel to the direction of the bundles and rows perpendicular to the paths of the bundles, the first (174a) and second (174b) openings in the second electrode of the mesh electrode are arranged in the same order as the first mesh electrode (164) except that the first holes (174a) lined up in the rows located above the rows of the first holes (166a) in the first mesh electrode (164) are offset relative to each other. the first holes (166a) in the first mesh electrode (164) about half the centers of these holes, and the second holes (174b) lined up in rows located over the rows of second holes (166b) in the first electrode e (164) are offset with respect to the second holes (166b) in the first 'mesh electrode (164) by about half the centers of these holes. 10 15 20 26 30 35 40 45 50 115 766 22 -l- Fig. 2. «- | f Ftg. 3 7 J H /// J 234c 154? 0! J4H J34n 136 n 10 / '44 i4? (/ 7? / \ ^ & Yy »^ ywy-yw v“ ^ FigJO n l115 766 I Fig.15. Fig and? Fig. 19.PZGraf. Koszalin A-302 100 A-4 Price PLN 100 PL