Przedmiotem wynalazku jest srodek polerski do polerowania elementów z materialów pólprzewod¬ nikowych. Srodek wedlug wynalazku znajduje szczególnie korzystne zastosowanie przy polerowa¬ niu plytek z materialów pólprzewodnikowych, ta¬ kich jak krzem, german, fosforek galu czy tez ar¬ senek galu.Stosowane do produkcji przyrzadów pólprzewod¬ nikowych plytki z materialów pólprzewodnikowych musza miec lustrzana powierzchnie i okreslona ge¬ ometrie, w tym glównie plaskorównoleglosc. Z tych wzgledów plytki sa szlifowane i polerowane. Pole¬ rowanie prowadzi sie metoda mechaniczno-chemi¬ czna, uzywajac jako srodka polerskiego zawiesiny mikroproszku alundowego w roztworach substan¬ cji chemicznych, najczesciej 30-procentowego roz¬ tworu wodnego nadtlenku wodoru.Mechanizm polerowania mechaniczno-chemiczne¬ go za pomoca roztworu z mikroproszkiem polega na reakcji roztworu chemicznego z polerowanym materialem. W wyniku reakcji, na powierzchni ply¬ tek tworza sie produkty gabczaste, które sa usu¬ wane przez tkanine polerska niosaca mikroproszek.Obecnosc mikroproszku w roztworze polerskim, aczkolwiek przydatna w polerowaniu, powoduje je¬ dnakze powstawanie na powierzchni plytek rys i mi- krorys. Ich wielkosc i glebokosc jest uzalezniona od twardosci obrabianych materialów. W przypad¬ ku materialów miekkich, takich jak arsenek galu, fosforek galu, german czy zwiazki A11 BVI, znane 10 15 25 30 roztwory polerskie z mikroproszkiem nie pozwa¬ laja w ogóle na uzyskanie powierzchni bez mikrorys.Stosuje sie wówczas polerowanie dwuetapowe.W pierwszym etapie plytki poleruje sie zawiesina mikroproszku, nastepnie stosuje sie bardzo powol¬ ne dopolerowywanie z uzyciem samego roztworu chemicznego, bez mikroproszku. Oprócz powyzsze¬ go, znane roztwory polerskie oparte glównie na per- hydrolu sa silnie agresywne i dzialaja niszczaco na urzadzenie.Celem wynalazku jest opracowanie skladu srod¬ ka polerskiego, który umozliwilby uzyskanie lus¬ trzanej powierzchni o wysokiej jakosci, bez wad me¬ chanicznych z operacji polerowania.Stwierdzono, ze dobry efekt polerowania mozna uzyskac bez stosowania mikroproszku alundowego.Wedlug wynalazku, srodek polerski sklada sie z pod¬ chlorynu sodu o zawartosci chloru aktywnego w ilosci wagowo 1—5%, chlorku sodu w ilosci wa¬ gowo 1—5%, jednozasadowego fosforanu sodu w ilo¬ sci wagowo 0,1—1%, dwuzasadowego fosforanu so¬ du w ilosci wagowo 0,5—3%, wodorotlenku sodu w ilosci wagowo 1—5% oraz wody do 100%, korzy¬ stnie dejonizowanej.Korzyscia techniczna z zastosowania srodka po¬ lerskiego wedlug wynalazku jest przede wszystkim mozliwosc polerowania zwlaszcza miekkich mate¬ rialów pólprzewodnikowych bez narazenia ich na zarysowanie polerowanej powierzchni. Dalsza ko¬ rzystna cecha wynalazku jest mozliwosc obróbki 1141133 114113 4 róznych materialów pólprzewodnikowych na tym samym urzadzeniu polerskim, bez koniecznosci my¬ cia ukladu dozujacego roztwór polerski i bez wy¬ miany tkaniny polerskiej. Stwierdzono ponadto, ze srodkiem wedlug wynalazku skraca sie czas pole¬ rowania 2—5-krotnie, w porównaniu z czasem po¬ lerowania roztworami z mikroproszkiem.Przyklad I. Sporzadzono srodek polerski o na¬ stepujacym skladzie: sodu podchloryn o zawartosci chloru aktywnego — 1% wag. eodu chlorek ^"',-V'l — 5% wag. softu fosforan jellnoaasadowy — 0,1% wag. sodu fosforan dwuzajsadowy — 0,5% wag. ^odu \yq$Qrotlenek'* — 5% wag. woda dejonizowana < do 100% l Srodka 'o" powyzszym skladzie zuzyto do polero¬ wania plytek monokrysztalu germanu. Polerowa¬ nie prowadzono tarcza polerska pokryta syntety¬ cznym zamszem, na która dozowano srodek polerski z wydajnoscia 0,2 l/min. Nacisk jednostkowy tar¬ czy wynosil 150 g/cm2. Polerowanie prowadzono az do uzyskania lustrzanej powierzchni, przy czym stwierdzono osiagniecie predkosci polerowania o- kolo 0,5 ^m/min. Wypolerowane plytki nie wyka¬ zywaly wad mechanicznych powierzchni.Przyklad II. Sporzadzono srodek polerski o nastepujacym skladzie: 10 20 — 5% wag. — 1% wag. — 0,1% wag. — 3% wag. — 1% wag. do 100% sodu podchloryn o zawartosci chloru aktywnego sodu chlorek sodu fosforan jednozasadowy sodu fosforan dwuzasadowy sodu wodorotlenek woda dejonizowana Srodka o powyzszym skladzie uzyto do polero¬ wania plytek monokrysztalu fosforku galu. Polero¬ wanie prowadzono tarcza polerska pokryta synte¬ tycznym zamszem, na która dozowano srodek po¬ lerski z wydajnoscia 0,2 l/min. Nacisk jednostkowy tarczy wynosil 150 g/cm*. Polerowanie prowadzono az do uzyskania lustrzanej powierzchni, przy czym stwierdzono osiagniecie predkosci Frolerowania oko¬ lo 2 jjim/min. Wypolerowane plytki nie wykazywa¬ ly wad mechanicznych powierzchni.Zastrzezenie patentowe Srodek polerski do polerowania elementów z ma¬ terialów pólprzewodnikowych, znamienny tym, ze sklada sie z podchlorynu sodu o zawartosci chloru aktywnego w ilosci wagowo 1—5%, chlorku sodu w ilosci wagowo 1—5%, jednozasadowego fosfora¬ nu sodu w ilosci wago,wo 0,1—1%, dwuzasadawego fosforanu solu w ilosci wagowo 0,5—3%, wodoro¬ tlenku sodu w ilosci wagowo 1—5% oraz wody do 100%, korzystnie dejonizowanej.ZGK, 0002/1110/82 — 100 szt.Cena zl 45,— PL