PL112971B1 - Method for manufacturing a semiconductor pressure sensing element - Google Patents

Method for manufacturing a semiconductor pressure sensing element Download PDF

Info

Publication number
PL112971B1
PL112971B1 PL19973177A PL19973177A PL112971B1 PL 112971 B1 PL112971 B1 PL 112971B1 PL 19973177 A PL19973177 A PL 19973177A PL 19973177 A PL19973177 A PL 19973177A PL 112971 B1 PL112971 B1 PL 112971B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
pressure
way
manufacturing
semiconductor
temperature
Prior art date
Application number
PL19973177A
Other languages
English (en)
Other versions
PL199731A1 (pl
Inventor
Marcin Konczykowski
Elwira Szafarkiewicz
Michal Baj
Leszek Konczewicz
Sylwester Porowski
Original Assignee
Zjednoczone Zaklady Produkcji
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zjednoczone Zaklady Produkcji filed Critical Zjednoczone Zaklady Produkcji
Priority to PL19973177A priority Critical patent/PL112971B1/pl
Publication of PL199731A1 publication Critical patent/PL199731A1/pl
Publication of PL112971B1 publication Critical patent/PL112971B1/pl

Links

Landscapes

  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Description

Opis patentowy opublikowano: 15.03.1982 Int. C1.2 H01L 29/84 G01L 1/18 Twórcy wynalazku: Marcin Konczykowski, Elwira Szafarkiewicz, Michal Baj, Leszek Konczewicz, Sylwester Porowski Uprawniony z patentu: Zjednoczone Zaklady Produkcji Aparatury Nau¬ kowej Osrodek Badawczo-Rozwojowy Wysokich Cisnien „Unipress"; Celestynów (Polska) Sposób wykonania pólprzewodnikowego czujnika cisnienia i.Wynalazek dotyczy sposobu wykonania 'pólprze¬ wodnikowego czujnika cisnienia, polegajacego na wytworzeniu materialu pólprzewodnikowego z was¬ ka przerwa energetyczna.Jednym z najbardziej rozpowszechnionych czuj¬ ników cisnienia hydrostatycznego sa czujniki man- ganinowe. Czujniki te sa nawijane z drutu manga- ninowego w postaci róznego typu cewek. Nastepnie tak wykonane cewki poddaje sie wygrzewaniu dla usuniecia naprezen, oraz montuje sie w urzadzeniach wysokocisnieniowych w sposób umozliwiajacy po¬ miar rezystancji tych czujników. Czujniki te znaj¬ duja zastosowanie przede wszystkim do pomiaru cisnien idealnie hydrostatycznych w temperaturach zblizonych do temperatury pokojowej.Wada sposobu wykonania tych czujników jest ko¬ niecznosc stosowania dlugich odcinków drutu man- ganinowego, co w konsekwencji daje wysoka niesta¬ bilnosc wskazan w wypadku wystapienia niejedno¬ rodnosci cisnienia. W niskich temperaturach, wada czujników jest silna zaleznosc rezystancji mangani- nu od temperatury. Mimo tych wad czujników urza¬ dzenia wyposazone w te czujniki sa stosowane za¬ równo w temperaturach pokojowych, jak równiez w niskich temperaturach, np. ponizej 77°K.Celem wynalazku jest wykonanie czujnika niepo- siadajacego wad powszechnie stosowanych czujni¬ ków szczególnie w niskich temperaturach. Cel ten osiagnieto domieszkujac pólprzewodnik z waska przerwa energetyczna pierwiastkami dajacymi sta- 10 20 25 30 ny donorowe w sposób taki aby spelniony byl wa¬ runek EF kT, gdzie EF — energia Fermiego, k — stala Boltzmana T — temperatura bezwzgledna, oraz aby koncentracja elektronów przewodnictwa byla niezalezna od cisnienia i temperatury, Uzyskarfy w ten sposób krysztal jest mechanicznie rozdrob¬ niony na mniejsze czesci, które nastepnie sa mon¬ towane w urzadzeniu wysokocisnieniowym w spo¬ sób umozliwiajacy pomiar rezystancji. Sposób ten umozliwia uzyskanie czujnika cisnienia nadajacego sie do stosowania przede wszystkim w niskich tem¬ peraturach. Czujnik jest malo wrazliwy na niehy- drostatyczne naprezenia, wskazania jego sa malo za¬ lezne od temperatury, oraz charakteryzuje sie duza czuloscia i poprawnoscia oraz powtarzalnoscia wskazan.Przykladowe charakterystyki czujników wykona¬ nych sposobem wedlug wynalazku przedstawione sa na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia zaleznosc rezystancji od cisnienia w temperaturze 300°K oraz w temperaturze 77°K dla dwóch czujników róznie domieszkowanych, fig. 2 przedstawia zaleznosc rezy¬ stancji czujnika od temperatury dla kilku wybra¬ nych cisnien. Uzyskany znanymi sposobami mate¬ rial pólprzewodnikowy InSb domieszkujemy jedno¬ rodnie selenem wedlug jednego ze znanych proce¬ sów domieszkowania. Koncentracja wyprowadzo¬ nych domieszek jest wyzsza niz 1017 cm-8. Uzyskany tak krysztal zostal pociety na prostopadlosciany* o wymiarach 0,3X0,3X3 mm, do których przyluto- 112971112971 wano kontakty. Takuzyskany czujnik zostal zamon¬ towany w urzadzeniu wysokocisnieniowym.W pólprzewodnikach wplyw cisnienia na rezy¬ stancje wiaze sie na ogól zarówno ze zmianami ruch¬ liwosci jak i koncentracji nosników. Dla uzyskania wlasciwej pracy urzadzenia pomiarowego material z którego jest wykonany czujnik powinien byc tak dobrany by zmiany opornosci zwiazane ze zmiana koncentracji nosników odpowiadaly zmianom ruch¬ liwosci. Dla pólprzewodników z waska przerwa energetyczna warunek ten moze byc latwo spelnio¬ ny. W materialach tych cisnienie w istotny sposób zmienia pasma przewodnictwa i co za tym idzie sa duze zmiany ruchliwosci. Ze wzgledu na mala mase efektywna kulombowski potencjal wokól donorów nie daje stanów zlokalizowanych takze w zakresie niskich temperatur koncentracji nosników w pasmie przewodnictwa i nie zalezy ani od cisnienia ani od temperatury. Dla wiekszosci pólprzewodników ó pa¬ smie przewodnictwa typu Kane'a zaleznosc ruchli¬ wosci od cisnienia jest w przyblizeniu liniowa i wy¬ nosi od kilku do kilkudziesieciu % na 10 kbar. Dla uzyskania czujników o rezystancji niezaleznej od temperatury material zostal tak domieszkowany aby dominujacym mechanizmem rozpraszania elektro¬ nów bylo rozpraszanie na defektach sieci. W czujni¬ kach wykonanych z pólprzewodnika InSb przewod¬ nictwo elektryczne okreslone bylo elektronami z mi¬ nimum y. Niezaleznosc koncentracji od cisnienia 10 15 20 25 i temperatury wynika z braku pobudzen elektrono¬ wych poprzez przerwe energetyczna, oraz z braku zlokalizowanych poziomów w poblizu poziomu Fer¬ miego. Najblizsze stany, które wplywaja na rezy¬ stancje w wysokim cisnieniu leza znacznie powyzej poziomu Formiego, i tak Es = 0,45 eV, ESe = 0,52 eV, ETe = 0,62 eV. Tylko dla czujników z pólprzewod¬ nika domieszkowanego siarka poziomu Es limituje maksymalne cisnienie do 15 kbar. Dla dwóch pozo¬ stalych domieszek granice stanowi przemiana fazo¬ wa, która ma miejsce w 25 kbar. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób wykonania pólprzewodnikowego czujnika cisnienia, polegajacy na wytwarzaniu materialów pólprzewodnikowych z waska przerwa energetyczna, znamienny tym, ze material pólprzewodnikowy do¬ mieszkuje sie pierwiastkami dajacymi stany <4pnoro- we, w sposób taki, aby spelniony byl warunek Er kT, gdzie EF — energia Fermiego, k — stala Boltzmana, T — temperatura bezwzgledna, oraz aby koncentracja elektronów przewodnictwa byla nieza¬ lezna od cisnienia i temperatury, po czym uzyskany krysztal jest mechanicznie rozdrobniony na mniej¬ sze czesci, które nastepnie sa montowane w urza¬ dzeniu wysokocisnieniowym w sposób umozliwiaja¬ cy pomiar rezystancji. 2,5, i 1 1 T T o» 4 3 2 11 i i i I I I 1 1 • 'I InSbSe No 17 *»••#* • ••• •• • • • • ••• e OoOOO O OO O0OOO O O O O O. O O O - ¦*¦ ¦¦¦ ¦¦¦¦¦¦¦¦¦ _ 1 1 II 1 -1 P-21kbor 1 P-19,ekbar 1 H p-9,6kbor 1 p-6,6«b«r 1 -1 P-IHf 1 1 1 4o 8o T[K] 12o Fig.1 Fig.
2. ZGK, zam. 8786/1110/4/81, 120 Cena 45 zl PL
PL19973177A 1977-07-18 1977-07-18 Method for manufacturing a semiconductor pressure sensing element PL112971B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19973177A PL112971B1 (en) 1977-07-18 1977-07-18 Method for manufacturing a semiconductor pressure sensing element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19973177A PL112971B1 (en) 1977-07-18 1977-07-18 Method for manufacturing a semiconductor pressure sensing element

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL199731A1 PL199731A1 (pl) 1979-02-12
PL112971B1 true PL112971B1 (en) 1980-11-29

Family

ID=19983717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19973177A PL112971B1 (en) 1977-07-18 1977-07-18 Method for manufacturing a semiconductor pressure sensing element

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL112971B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL199731A1 (pl) 1979-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP4102216B1 (en) Multi-dimensional multi-parameter gas sensor and manufacturing method therefor, and gas detection method
Bird et al. Phase breaking in ballistic quantum dots: Transition from two-to zero-dimensional behavior
CA1271523A (en) Hydrogen sulphide sensor
DE4035371C2 (de) Kapazitiver Feuchtesensor
Larsen et al. Electrical properties of yttrium iron garnet at high temperatures
US4246786A (en) Fast response temperature sensor and method of making
US4218650A (en) Apparatus for measuring semiconductor device resistance
Li et al. Electrical conductivity of (Mg, Fe) SiO3 perovskite and a perovskite‐dominated assemblage at lower mantle conditions
Schroeder et al. Thermopowers and resistivities of silver-palladium and copper-nickel alloys
US4202799A (en) Organic-heat-sensitive semiconductive compounds
EP2504691B1 (de) Verfahren zum herstellen eines heizbaren gassensors sowie verwendung eines stützmittels zu dessen herstellung
US2470653A (en) Resistance thermometer
Imamuddin et al. Thermoelectric properties of p‐type Bi2Te3–Sb2Te3–Sb2Se3 alloys and n‐type Bi2Te3–Bi2Se3 alloys in the temperature range 300 to 600 K
US3889362A (en) Method of making electrical resistance element
US4246787A (en) Fast response temperature sensor and method of making
PL112971B1 (en) Method for manufacturing a semiconductor pressure sensing element
Buravov et al. Mechanism of Conductivity of Well-conducting Complexes on the Basis of Tetracyanquinodimethyl
Bhatia et al. Pressure-induced first-order transition in layered crystalline semiconductor GeSe to a metallic phase
Potter et al. Dipole-dipole interactions in potassium chloride doped with hydroxyl
US4388267A (en) Temperature profile detector
US3194071A (en) Heat flow meter
US4924114A (en) Temperature sensor
Van Houten Mechanical losses in Li-doped NiO semiconductors
Abdinov et al. Effect of temperature and rare-earth doping on charge-carrier mobility in indium-monoselenide crystals
Ihas et al. Low temperature thermometry in high magnetic fields

Legal Events

Date Code Title Description
RECP Rectifications of patent specification