Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie zasilajace do rurowych aparatów wyparnych z hydraulicznie wytwarzanym filmem cieczy.Do przeprowadzenia calego szeregu procesów zachodzacych w ukladach dwufazowych gaz-ciecz, stosuje sie czesto aparaty warstewkowe, miedzy innymi stosowane sa wyparki warstewkowe zwafie wyparkami filmowymi. W aparatach takich ciecz plynie po sciankach rury wyparnej, w postaci cienkiej równomiernej warstwy, zwanej filmem. Równomiernosc filmu ma szczególne duze znaczenie, gdyz nierównomierne rozprowadzenie roztworu po powierzchni grzejnej powodowac moze niewlasciwy przebieg procesu odparowania, jak na przyklad miejscowe przegrzanie.W aparatach wyparnych z hydraulicznie wytwarzanym filmem cieczy cienka warstwa cieczy plynaca po wewnetrznej sciance rury wytwarzana jest przez plynacy wspólpradowo z duza szybkoscia gaz. Uzyskany w ten sposób przeplyw dwufazowy nosi nazwe przeplywu pierscieniowego. W celu zainicjowania przeplywu pierscieniowego do wlotowej czesci rur musza byc doprowadzone w odpowiednich ilosciach zarówno gaz jak i ciecz.W wyparkach statycznych przeplyw cienkowarstewkowy realizowany jest przez rozprowadzenie grawitacyjne splywajacej cieczy po powierzchni wewnetrznej lub zewnetrznej rur wyparnych. Równomierne rozprowadzenie cieczy po powierzchni grzejnej wymaga stosowania zlozonych elementów.Znane sa urzadzenia zasilajace stosowane w wyparkach statycznych miedzy innymi z polskiego opisu patentowego numer 78399. Przedmiotem powyzszego wynalazku jest urzadzenie zraszajace z regulowana warstwa grubosci cieczy skladajace sie, z powierzchni stozkowej z nawinietymi na nia korzystnie kilkoma zwojami slimakowymi, wzglednie z wyfrezowanymi na niej rowkami i przymocowanej do sruby oraz z nieruchomej lub ruchomej czesci cylindrycznej. Urzadzenie to posiada srube wydrazona wewnatrz, posiadajaca w sciankach otwory i polaczona trwale z czescia stozkowa, na której nawiniete sa zwoje slimakowe lub wyfrezowane rowki2 108 911 o dowolnym przekroju, korzystnie trójkatnym. Cylindryczna czesc urzadzenia zraszajacego w zaleznosci od podanych nizej odmian moze byc ruchoma lub nieruchoma. Wkrecanie lub wykrecanie sruby ewentualnie w wypadku duzej ilosci rur, podnoszenie lub opuszczanie wspólnej plyty z która polaczone sa poszczególne urzadzenia zraszajace powoduja zmiane przekroju otworów lub w wypadku plyty zmiane przekroju dlawika zmieniajac tym samym przeplyw cieczy do wewnetrznej przestrzeni urzadzenia. Ciecz splywajac z pewna energia powstala na skutek róznicy poziomów zostaje zawirowana na zwojach lub rowkach slimakowych i wyrzucana jest na scianke rury wskutek sil odsrodkowej i stycznej, tworzac równoramienna ciagla warstewke na calym zraszanym obwodzie.Celem wynalazku jest opracowanie prostego urzadzenia umozliwiajacego uformowanie przeplywu pierscieniowego, nadajacego sie do zastosowania w aparatach o dowolnej liczbie rur wyparnych.Istota rozwiazania urzadzenia wedlug wynalazku polega na osadzeniu dowolnej ilosci rur wyparnych, do których doprowadzana jest para, w dwu scianach sitowych, tworzacych przestrzen miedzysitowa do której doprowadzona jest ciecz. W przestrzeni miedzysitowej rura wyparna posiada otwory, w przypadku dwu rur, ich konce sa uksztaltowane plasko lub równolegle tworzac szczeline, albo sa umieszczone wspólosiowo o róznych srednicach tworzac tez szczeline.Urzadzenie moze pracowac w ukladzie pionowym przy przeplywie z dolu ku górze, z góry na dól lub w ukladzie poziomym. Do zalet mozna równiez zaliczyc prostote budowy, pewnosc ruchu oraz mozliwosc prowadzenia procesu odparowania w bardzo korzystnych warunkach a wiec w zakresie dwufazowego przeplywu pierscieniowego.Przyklad rozwiazania wedlug wynalazku uwidoczniony jest na rysunku, na którym fig. 1 - przedstawia urzadzenie w przekroju poprzecznym pracujace w ukladzie pionowym, fig. 2 — przedstawia rure wyparna, z otworami, fig. 3 — przedstawia rury wyparne, których konce zakonczone sa ksztaltowo fig. 4 — przestawia polozenie rur wyparnych polozonych wzgledem siebie wspólosiowo o róznych srednicach, fig. 5 przedstawia polozenie rur wspólosiowe.Gaz jest doprowadzany do komory gazowej 2 króccem 1 umieszczonym wplasuczu 12.-Do przestrzeni miedzysitowej 6, która tworza sciany sitowe 3 i 4 oraz obudowa 11 jest doprowadzona ciecz króccem 5. Rura wyparna 7 moze byc osadzona w obu scianach 3 i 4. W tym przypadku w przestrzeni 6 rura 7 posiada otwory 8.Ksztalt otworów 8 moze byc rózny, a ich powierzchnia i rozmieszczenie na obwodzie rury 7 jest uzaleznione od parametrów pracy urzadzenia. W przestrzeni 6 rura 7 moze byc przecieta, a jej konce tworza szczeline 9.Szczeline 9 mozna równiez uzyskac poprzez uksztaltowanie plaskie lub ksztaltowe konców rury 7.W przypadku zastosowania róznych srednic rury 7 w przestrzeni 6 moga one byc umiejscowione jedna w drugiej lub osadzone w scianie 3 i scianie 4 niemal wspólosiowo, z utworzeniem szczeliny 9. Gaz z komory 2 dostaje sie do rury 7, natomiast ciecz z przestrzeni 6 poprzez otwory 8 albo szczeline 9 dostaje sie do rury 7. Plaszcz 10 ogranicza przestrzen miedzyrurowa 13. Przy odpowiednio dobranych natezeniach przeplywu obu faz w rurach 7 zostanie utworzony przeplyw pierscieniowy.Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie zasilajace do rurowych aparatów wyparnych z hydraulicznie wytwarzanym filmem cieczy zawierajace rury wyparne, znamiennety m, ze sklada sie z rur wyparnych (7), do których doprowadzona jest para a osadzonych w scianach sitowych (3 i 4) i uksztaltowanych plasko lub ksztaltowo z utworzeniem szczeliny (9) albo umieszczonych wspólosiowo o róznych srednicach z utworzeniem szczeliny (9) w tej samej przestrzeni miedzysitowej (6), do której doprowadzona jest ciecz. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamiennety m, ze rura (7) na obwodzie w przestrzeni miedzysitowej (6) posiada otwory (8).108 911 fig. 1 fig. 2 l/l ^ A I 7 Z. 6 "'K^ I - i i A~^ i i '¦ «. i ' 1 I cv^Ts fig.3 fig.4 fig.5 PL