PL106050B1 - Sposob nieniszczacej kontroli materialu fotograficznego i urzadzenie do nieniszczacej kontroli materialu fotograficznego - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest równiez urzadzenie do nieniszczacej kontroli materialu fotograficznego.

Znane sa sposoby kontrolowania tasmowego materialu fotograficznego z opisu patentowego USA nr 3286567 i z opisu wylozeniowego RFN nr 2015605. Opis patentowy USA nr 3286567 przedstawia urzadzenie do okreslania miejsc wadliwych w czulej warstwie tasmowego materialu za pomoca promieniowania podczerwo¬ nego przechodzacego przez ten material. Promieniowanie podczerwone zapewnia, ze na kontrolowanym materiale fotograficznym, po jego przejsciu nie powstaje obraz utajony.Miejsca wadliwe w materiale fotograficznym wplywaja znacznie na udzial promieniowania rozproszonego w wiazce promieniowania odczytujacego, a promie¬ niowanie rozproszone jest bardzo male w zakresie podczerwieni, wiec miejsca wadliwe kontrolowanego materialu fotograficznego nie moga byc z pewnoscia okreslone przez znane z opisu patentowego USA urzadze¬ nie.

Natomiast w opisie wylozeniowym RFN nr 2015605 zaproponowano, by jako wiazke promieniowania odczytujacego zastosowac wiazke promieniowania o takiej dlugosci fali, na która kontrolowany material fotograficzny jest czuly, przy czym miejsce padania wiazki promieniowania odczytujacego na kontrolowany material fotograficzny porusza sie wzgledem tego materialu z tak duza predkoscia, ze w materiale tym pod wplywem promieniowania odczytujacego nie powstaje obraz utajony. Przy stosowaniu promieniowania o takiej dlugosci fali na która kontrolowany material fotograficzny jest czuly, ruch wzgledny pomiedzy miejscem padania wiazki promieniowania na kontrolowany material a tym materialem, przy rozróznianiu drobnych wad materialu oraz predkosc nieniszczacego sprawdzania, która lezy w zakresie predkosci produkcji materialu106 050 fotograficznego musi hyc lak duza, ze zwiazana z tym wysoka czestotliwosc graniczna tak pogarsza stosunek sygnalu do szumu, ze miejsc wadliwych nie mozna oznaczyc z cala pewnoscia w kontrolowanym materiale fotograficznym. Równoczesnie, jezeli nie przeprowadzi sie starannego wyboru dlugosci fali promieniowania odczytujacego, zaklócenia w fotograficznie nieczynnych warstwach pomocniczych, które nie wplywaja na jakosc kontrolowanego materialu fotograficznego moga prowadzic do obnizenia czulosci calego ukladu na wady materialu fotograficznego.

Zgodnie z opisem wylozeniowym RFN nr 2015605, do wykrywania miejsc wadliwych w tasmowych materialach fotograficznych wykorzystuje sie tylko promieniowanie przechodzace przez kontrolowany material.

W urzadzeniu przedstawionym w opisie patentowym RFN nr 1900632, do okreslania wadliwych miejsc kontrolo¬ wanego materialu fotograficznego stosuje sie albo promieniowanie przechodzace przez ten material, albo promieniowanie odbite od niego.

W opisie wylozeniowym RFN nr 1648480, do oceny materialu wykorzystuje sie równoczesnie promienio¬ wanie przechodzace i promieniowanie odbite. Dla okreslenia wadliwych miejsc w kontrolowanym, tasmowym materiale fotograficznym potrzebne jest jednak, by oprócz wadliwych miejsc zmieniajacych przezroczystosc kontrolowanego materialu wychwytywac równiez te, które stanowia tylko odksztalcenie powierzchni. Ocena promieniowania odbitego od kontrolowanego materialu wymaga jednak spokojnego ruchu tego materialu bez falowania i drgan, co jest mozliwe tylko w miejscu, gdzie material ten jest prowadzony, lub w poblizu miejsca prowadzenia, na przyklad przez walec prowadzacy.

Jezeli jednak miejsce padania wiazki promieniowania odczytujacego na badany material nie jest usytuowa¬ ne w poblizu miejsc prowadzenia, wtedy promieniowanie odbite od tasmy badanego materialu, na skutek sklonnosci tego materialu do drgan i do tworzenia fald nie jest uwzglednianie przy okreslaniu wadliwych zmian powierzchni badanego materialu. Przy znanych urzadzeniach trzeba umieszczac jedno za drugim dwa urzadzenia kontrolne, na skutek czego koszty ulegaja podwojeniu, a okreslenie wadliwych miejsc jest utrudnione.

W urzadzeniu znanym ze wzoru uzytkowego RFN nr 7128347 wiazka rozproszonego promieniowania odczytujacego po przejsciu przez badany material kierowana jest poprzez swiatlowód do odbiorników swiatla.

Dla uchwycenia duzej czesci promieniowania rozproszonego jest przy tym jednak konieczne umieszczenie pomiedzy materialem a swiatlowodem soczewki cylindrycznej, za pomoca której promieniowanie rozproszone jest koncentrowane w swiatlowodzie. To dodatkowe urzadzenie optyczne zwieksza wielkosc i koszty urzadzenia odbiorczego i na skutek odbicia promieniowania od soczewki cylindrycznej oraz przez absorpcje w niej, zmniejsza znacznie i tak juz male natezenie promieniowania rozproszonego, a zatem czulosc kontrolowania ulega zmniejszeniu.

W celu uzyskania stalego natezenia promieniowania odczytujacego podczas kontroli badanego tasmowego materialu fotograficznego w opisie wylozeniowym RFN nr 1648480 przedstawiono urzadzenie, które przekazuje promieniowanie odczytujace do kontrolowanego materialu tasmowego za pomoca swiatlowodu, a promieniowa¬ nie przechodzace przez ten material lub odbite od niego kieruje przez swiatlowód do odbiorników swiatla, przy czym swiatlowody nadawczy i odbiorczy wprawione sa w synchroniczny ruch obrotowy, a kat obrotu odpowia¬ da szerokosci kontrolowanego materialu tasmowego.

Wada urzadzenia jest to, ze przy ciaglej kontroli badania materialu tasmowego musi sie ono obracac z bardzo duza predkoscia, gdy wielkosc plamki w miejscu padania wiazki promieniowania odczytujacego pada na kontrolowany material, a zatem rozróznialnosc tego urzadzenia powinna byc taka, aby mozna bylo uchwycic równiez bardzo male miejsca wadliwe kontrolowanego materialu.

Jezeli badaniu podlega tasma materialu o szerokosci powyzej 1 m, dochodzi sie do ukladów ruchomych, które trudno zrealizowac, aby pokonac ich sile odsrodkowa. Urzadzenie takie nadaje sie do stosowania tylko przy badaniu materialu tasmowego o malej szerokosci, odpowiadajacej np. poszczególnym rolkom tasmy filmowej.

W opisie ogloszeniowym RFN nr 2107334 zaproponowano, by przez umieszczenie urzadzenia ogniskujace¬ go pomiedzy zródlem promieniowania a zwierciadlem obrotowym, wytworzyc zbiezne promieniowanie odczy¬ tujace, tak aby pomiedzy obrotowym zwierciadlem a badanym materialem tasmowym nie trzeba juz umieszczac urzadzenia ogniskujacego, a natezenie wiazki promieniowania odczytujacego nawet przy tasmie urzadzenia kontrolowanego o szerokosci 1-1,25 m pozostaje na nim jednakowe. Urzadzenie to jednak nie zapewnia niezmiennych wartosci elektrycznych sygnalów wyjsciowych odbiorników swiatla, a to na skutek zmiany w czasie natezenia zródla promieniowania, zdolnosci odbijania zastosowanego ukladu zwierciadel, równiez na skutek ich zanieczyszczenia o/az na skutek starzenia sie odbiorników swiatla, nawet gdy badany material posiada jednakowa gestosc optyczna.

Dla kontrolowania materialu tasmowego pod wzgledem zmian jego powierzchni, które sa wychwytywane tylko przez promieniowanie odbite od kontrolowanego materialu, w opisie zgloszenia RFN nr 1900631106 050 3 zaproponowano urzadzenie, w którym promieniowanie bezposrednio odbite jest kierowane do odbiornika swiatla. Pomiar tego stosunkowo silnego promieniowania bezposrednio odbitego jest niezwykle czuly na zmiany polozenia kontrolowanego materialu w miejscu odczytu, np. na skutek malych czastek kurzu, które osadzaja sie na skutek tarcia badanego materialu w miejscach jego prowadzenia, np. na bebnie kontrolnym, na którym nastepuje odczytywanie, kiedy kontrolowany material odksztalca sie przy kazdym obrocie bebna. Juz na skutek tego nastepuje zmiana kierunku wiazki promieniowania bezposrednio odbitego, a gdy szczelina wejsciowa odbiornika swiatla nie jest zbyt duza, silnie maleje czulosc kontroli wad.

W opisie patentowym NRD nr 86512 opisano sposób i urzadzenie, które przy odczytywyniu badanego materialu tasmowego wykorzystuje emisje wtórna tego materialu. W ten sposób unika sie krytycznej zaleznosci od polozenia materialu. Sposób ten nadaje sie do stosowania jednak tylko wtedy, gdy natezenie promieniowania odczytujacego jest bardzo duze, co ma miejsce jedynie przy kontroli zmian powierzchni juz naswietlonych i wywolanych waskich, tasmowych materialów fotograficznych, np. tasm filmowych. W innych przypadkach emisja wtórna jest bardzo mala i przy stosowaniu do wychwytywania zmian powierzchni materialów fotograficz¬ nych zapewnia tylko bardzo mala czulosc.

Celem wynalazku jest opracowanie sposobu nieniszczacej kontroli materialu fotograficznego przeprowadza¬ nej w sposób ciagly, a wiec uzyskanie obiektywnego, obrazu istniejacych wadliwych miejsc w/lub na tym materiale, które wplywaja ujemnie na jego jakosc oraz opracowanie sposobu i urzadzenia do szybkiego, ciaglego i nieniszczacego kontrolowania materialów fotograficznych o szerokosci do 1,25 m przez optyczne odczytywanie obrazu za pomoca promieniowania o takiej dlugosci fali, która nie powoduje powstania w materiale obrazu utajonego i uniemozliwia ocenienie jako wady róznic przezroczystosci fotograficznie nieczynnych warstw, które nie zmniejszaja jakosci materialu, przy czym równoczesnie wady wewnatrz i na powierzchni badanego materialu fotograficznego, które obnizaja jakosc tego materialu, sa wychwytywane pewnie, a czulosc wychwytywania wad ukladu pomiarowego nie ulega zmianom na skutek starzenia lub zanieczyszczenia przewidzianych urzadzen, zas zanieczyszczenia miejsc prowadzenia kontrolowanej tasmy materialu (np. na bebnie kontrolnym) lub ruchy drgajace albo powstawanie fald tego tasmowego materialu nie powoduja zafalszowania wyników pomiaru lub zmniejszenia rozpoznawalnosci wad i na kontrolowanym materiale fotograficznym.

Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze stosuje sie wiazke promieniowania odczytujacego o dlugosci fali odpowiadajacej lukom w czulosci badanego materialu fotograficznego, a równoczesnie lezacej blisko maksimum wspólczynnika przepuszczalnosci fotograficznie nieczynnych warstw pomocniczych, których wahania przezroczystosci nie wplywaja ujemnie na jakosc materialu fotograficznego.

Sposób wedlug wynalazku umozliwia analizowanie równoczesnie wiazki promieniowania przechodzacego przez badany material i wiazki promieniowania odbitego przez ten material, przy czym unika sie bledów spowodowanych przez nierównomierny bieg tasmy materialu, lub przez odpychanie materialu przez czastki brudu od walca podporowego w miejscu odczytywania. Równoczesny pomiar promieniowania przechodzacego przez badany material i promieniowania odbitego przez ten material uzyskuje sie przez to, ze stosuje sie element prowadzacy o duzym wspólczynniku przenikalnosci, przez który przechodzi promieniowanie rozproszone przez kontrolowany material i jest nastepnie bezposrednio zbierane przez swiatlowód, a na stronach czolowych elementu prowadzacego doprowadzane jest do jednego lub kilku odbiorników swiatla.

Problem utrzymywania stalego natezenia wiazki promieniowania odczytujacego nawet przy kontroli materialu fotograficznego w postaci tasmy o szerokosci do 1,25 m, w polaczeniu ze zmiana w czasie parametrów ukladu optycznego i optyczno-elektronicznego, poczawszy od zródla promieniowania az do odbiorników swiatla zostal rozwiazany przez to, ze przy analizowaniu kazdej linii badanego materialu przeprowadza sie porównanie sygnalu wyjsciowego odbiornika swiatla z sygnalem wartosci zadanej w ten sposób, ze promieniowa¬ nie odczytujace pada kolejno na badany material i na wzorzec gestosci przy czym w chwili odczytywania wzorca gestosci sygnal wyjsciowy odbiornika swiatla jest porównywany z ustalona uprzednio wielkoscia zadana.

Czule i pewne wychwytywanie zmian powierzchni badanego materialu jest zapewnione przez to, ze do oceny zamiast slabego, odbitego od badanego materialu promieniowania odczytujacego stosuje sie promieniowa¬ nie bezposrednio odbite o duzej czulosci kierunkowej i o duzym natezeniu, które w przypadku gdy badany material nie ma wad powierzchni pada w odleglosci kilku cnetymetrów od odbiornika swiatla, podczas gdy przy odczytywaniu wad powierzchni promieniowanie bezposrednio odbite od badanego materialu zmienia przynaj¬ mniej dwukrotnie kierunek i dopiero dochodzi do odbiornika swiatla.

Sposobem wedlug wynalazku uzyskano stalosc natezenia promieniowania odczytujacego w polaczeniu ze staloscia warunków pracy ukladu optycznego i odbiornika swiatla. Przy kolejno-liniowym analizowaniu materialu kontrolowanego porównuje sie sygnal wyjsciowy odbiornika swiatla przy przejsciu wiazki promienio¬ wania odczytujacego przez wzorzec gestosci z wartoscia zadana z generatora, co daje mozliwosc regulacji przez zmiane wzmocnienia ukladu dla kompensacji wahan.4 106 050 Zgodnie ze sposobem wedlug wynalazku, wiazka promieniowania odczytujacego jest kierowana w taki obszar badanego materialu, gdzie ani czastki brudu na elemencie prowadzacym, ani ruchy drgajace lub faldowanie sie tasmowego materialu nie symuluja szkodliwych zmian powierzchni badanego materialu. Miejsce takie jest usytuowane tam, gdzie badany material oddala sie kilka milimetrów od miejsca podparcia na elemencie prowadzacym i w ten sposób powstaje niewielka szczelina powietrzna pomiedzy elementem prowadzacym a badanym materialem tasmowym. Material przesuwa sie tam spokojnie, bez fald i drgan.

W celu stosowania sposobu wedlug wynalazku w poblizu miejsca padania wiazki promieniowania odczytu¬ jacego na badany material, jako element prowadzacy zastosowano obrotowy, polerowany, przezroczysty wydrazony cylinder. Oprócz unikniecia symulowania wad w powierzchni badanego materialu przez jego ruch drgajacy, powstawanie fald lub przez odksztalcenie powierzchni przy kontroli przez zanieczyszczenie stosowane¬ go jako element prowadzacy walca, mozna przy tym samym promieniowaniu odcz>tujacym uchwycic promienio¬ wanie przechodzace przez kontrolowany material, bez znacznego oslabiania go przez przezroczysty cylinder.

Male wtracenia obcych cial w stosowanym jako element prowadzacy wydrazonym cylindrze zmieniaja jedynie nieznacznie promieniowanie rozproszone i w zadnym przypadku nie powoduja symulowania wadliwych miejsc w kontrolowanym materiale fotograficznym.

Swiatlowód, który jest umieszczony wewnatrz wydrazonego cylindra sluzy zarówno bezposredno do zbierania promieniowania rozpraszanego przez kontrolowany material jak ido przekazywania dalej tego promieniowania do odbiorników. W swiatlowodzie, na tej jego stronie, która jest zwrócona do promieniowania przechodzacego przez kontrolowany material, umieszczony jest wzorzec gestosci tak, ze przy analizowaniu kolejno-liniowym kontrolowanego materialu pada na ten wzorzec promieniowanie odczytujace, przy czym znajduje sie on poza krawedzia zewnetrzna badanego materialu tasmowego. Przy analizowaniu wzorca gestosci odbiornik swiatla otrzymuje sygnal pomiarowy, za pomoca którego uzyskuje sie porównanie z wartoscia zadana oraz kontrole stalosci promieniowania odczytujacego i kontrole stalosci parametrów ukladu optycznego oraz optyczno-elektronicznego.

W celu zwiekszenia sprawnosci, w znanym swiatlowodzie, na stronie odwróconej od kontrolowanego materialu umieszczony jest rowek wylozony materialem o duzym wspólczynniku odbicia rozproszonego. > W celu zwiekszenia szczeliny wejsciowej swiatlowód jest umieszczony tuz przy sciance wewnetrznej przezroczystego, wydrazonego cylindra, na stronie zwróconej do promieniowania odczytujacego. Urzadzenie zawiera równiez drugi odbiornik swiatla, który jest tak umieszczon^ze promieniowanie bezposrednio odbite od nieposiadajacego wad kontrolowanego materialu nie pada na niego, lecz pada w odleglosci kilku centymetrów od niego. Kat odbioru promieniowania odbitego tylko przy odczytywaniu zmienionej wadliwie powierzchni kontrolowanego materialu jest przez krótki czas zgodny z kierunkiem umieszczonego odbiornika swiatla.

Zaleta rozwiazania wedlug wynalazku jest to, ze umozliwia uchwycenie wad w kontrolowanym materiale fotograficznym poprzez zmiane skladowej rozproszonej wiazki promieniowania odczytujacego, poniewaz luki w czulosci materialów fotograficznych leza w zakresach dlugosci fali, w których promieniowanie odczytujace jest rozpraszane przez material fotograficzny. Przez wykorzystanie luk o malej czulosci przy wykorzystaniu efektu ultrakrótkiego czasu przy takim samym natezeniu promieniowania odczytujacego, ruch wzgledny pomiedzy punktem padania wiazki promieniowania na kontrolowany material a tym materialem moze byc niewielki nawet w celu rozróznienia malych wad. Dzieki temu maleje konieczna górna granica czestotliwosci.

Zwiazane z tym zwiekszenie stosunku sygnalu do szumu zwieksza czulosc urzadzenia pomiarowego, a zatem i pewnosc rozpoznania wadliwych miejsc.

Jezeli równoczesnie promieniowanie odczytujace jest promieniowaniem o takiej dlugosci fali, która jest zblizona do maksimum przenikania dla warstw pomocniczych, których wahania przezroczystosci nie pogarszaja jakosci materialu ze wzgledu na spowodowana tym minimalna absorpcje promieniowania odczytujacego i ze wzgledu na zwiazana z tym mala modulacje tego promieniowania przez warstwy pomocnicze, szumy odbiornika swiatla, które sa wywolane wahaniami przezroczystosci pozbawionego wad materialu kontrolowanego moga byc sprowadzone do minimum co znowu zwieksza stosunek sygnalu do szumu i pewnosc rozpoznawania wadliwych miejsc.

Rozwiazanie wedlug wynalazku charakteryzuje sie tym, ze za pomoca pojedynczego urzadzenia odczytuja¬ cego okresla sie równoczesnie wadliwe miejsca w materiale fotograficznym i szkodliwe zmiany na powierzchni tego materialu bez symulowania szkodliwych zmian powierzchni tasmy materialu przez niezamierzone odksztal¬ cenia np faldy lub przez drgania materialu tasmowego podczas kontroli i przez zwiazany z tym ruch poslizgowy miejsca odczytu, poniewaz zjawiska te powoduja odchylenie promieniowania odbitego od jego normalnego polozenia tak samo jak rzeczywiste szkodliwe zmiany powierzchni kontrolowanego materialu fotograficznego.

Równoczesnie uzyskano to, ze niewielkie zanieczyszczenia na skutek wystepujacego tarcia na elemencie prowadzacym, przez kontrolowany material nie maja zadnego szkodliwego wplywu na wynik pomiaru.106 050 5 Ponadto przez równoczesny pomiar wadliwych miejsc w kontrolowanym materiale i szkodliwych zmian na jego powierzchni oszczedza sie urzadzenie odczytujace i jednoczesnie zmniejsza sie obciazenie materialu fotograficznego promieniowaniem oraz znacznie upraszcza sie lokalizowanie uchwyconych wadliwych miejsc, co w innym przypadku musialo byc przeprowadzane jednoznacznie przez dwa oddzielne uklady.

Rozwiazanie wedlug wynalazku ma te dalsza zalete, ze nie jest potrzebne dodatkowe zastosowanie soczewki cylindrycznej, która zbiera promieniowanie rozproszone przez kontrolowany material i jednoczesnie oslabia na skutek odbicia i absorpcji natezenie mierzonego promieniowania. Dzieki temu mozna zmniejszyc wielkosc i koszty urzadzenia. Zwiazany z tym wzrost rozpoznawalnosci wad wspomagany jest przez to, ze apertura urzadzenia odbiorczego jest zwiekszona przez umieszczenie swiatlowodu tuz przy punkcie wyjscia promieniowania rozproszonego z kontrolowanego materialu, a wiemozna uchwycic wieksza czesc promieniowa¬ nia rozproszonego.

Dodatkowa zaleta rozwiazania wedlug wynalazku jest to, ze nawet przy kontrolowaniu tasmowego materialu fotograficznego o szerokosci np. 1,25 m problem równomiernego natezenia wiazki promieniowania odczytujacego zostal rozwiazany prostymi srodkami technicznymi, przy czym mozna wykluczyc nie tylko zmiane natezenia promieniowania odczytujacego, ale równiez zmiane w czasie sprawnosci optycznego ukladu odbiorczego i czulosci odbiornika swiatla. Przy kontrolowanym materiale fotograficznym o jednakowej gestosci optycznej zapewnione jest przy tym, ze w odbiorniku swiatla powstaja jednakowe elektryczne wielkosci wyjsciowe, przez co zwieksza sie czulosc urzadzenia pomiarowego, a wiec pewnosc rozpoznawania wadliwych miejsc w kontrolowanym materiale.

Rozwiazanie wedlug wynalazku ma te dodatkowa zalete,ze przez stosownie silnie zaleznego od kierunku, odbitego bezposrednio od kontrolowanego materialu promieniowania nie trzeba stosowac tak duzego natezenia promieniowania odczytujacego, jak to musialo miec miejsce np. przy wychwytywaniu wad na juz naswietlonych i wywolanych materialach fotograficznych, a pomimo to uzyskuje sie duza czulosc przy wychwytywaniu szkodliwych zmian powierzchni kontrolowanego materialu tasmowego, poniewaz promieniowanie bezposrednio odbite przechodzi przez odbiornik swiatla którego szczelina wejsciowa moze byc przynajmniej dwukrotnie mniejsza przy odczytywaniu takich wad powierzchniowych.

W dolaczonych do urzadzenia znanych ukladach logicznych, wystepujace sygnaly elektryczne zostaja odpowiednio przetworzone. Przez zastosowanie dyskretnego sposobu pomiaru dla okreslenia odksztalcen powierzchni osiagnieto, ze male wahania szorstkosci powierzchni, które nie pogarszaja jako*sci kontrolowanego materialu ale moga powodowac zmiany natezenia promieniowania odbitego od materialu, nie sa mierzonejako zmiana wyjsciowego sygnalu elektrycznego przez odpowiedni odbiornik swiatla.

Ponadto nawet male drgania przenoszone przez uklad transportu tasmy kontrolowanego materialu na te tasme nie moga powodowac falszywego wskazania.

Przedmiot wynalazku jest blizej objasniony w przykladzie wykonania na rysunku na którym fig. 1 przedstawia droge promienia odbitego od tasmy materialu do miejsca odczytu i uklad linii odczytu, fig. 2 przedstawia'prowadzenie tasmy materialu w miejscu odczytu oraz umieszczenie swiatlowodu, fig. 3 — umieszcze¬ nie wzorca gestosci na swiatlowodzie i uklad regulacji, fig. 4 — bieg wiazki promieniowania odczytujacego, odbitego od tasmy materialu w plaszczyznie linii odczytu przy materiale pozbawionym wad, fig. 4a — miejsce padania wiazki promieniowania odczytujacego przy materiale pozbawionym wad, fig. 5 — bieg wiazki promienio¬ wania odczytujacego, odbitego od tasmy materialu w plaszczyznie linii odczytu, przy materiale zwadami powierzchniowymi, a fig. 5a przedstawia miejsce padania wiazki promieniowania odczytujacego, przy materiale z wadami powierzchni.

Wychodzaca ze zródla 1 wiazka promieniowania 2 przechodzi przez uklad filtrów 3 optycznych dajacych wiazki promieniowania odczytujacego 4 o takiej dlugosci fali, która odpowiada lukom w czulosci kontrolowane¬ go materialu fotograficznego, a równoczesnie przypada w poblizu maksimum przezroczystosci nieczynnych fotograficznie warstw pomocniczych, których wahania przezroczystosci nie wplywaja ujemnie na jakosc materialu fotograficznego. Uklad filtrów 3 moze byc latwo wymieniany przy kontroli róznych materialów fotograficznych. Mozliwe jest zastosowanie jako zródla promieniowania 1, lasera, którego dlugosc fali jest zmienna. Nie jest wtedy potrzebny uklad filtrów 3. Wiazka promieniowania odczytujacego 4 przechodzi przez przeslone szczelinowa 5 i uklad optyczny 6, zanim padnie na zwierciadlo 7. Wiazka 4 promieniowania odczytujacego jest ruchoma w kierunku poprzecznym do kierunku ruchu kontrolowanego materialu 8. Zwier¬ ciadlo 7 okresla kat padania 26a wiazki 4 promieniowania odczytujacego na kontrolowany material 8.

Za pomoca soczewki cylindrycznej 9 przeslona szczelinowa 5 zostaje zobrazowana na materiale tasmowym 8 jako punkt padania 10 i za pomoca zawartego w zwierciadle 7 wielokata zwierciadel, jest liniowo poruszana z taka predkoscia przez kontrolowany material 8, ze przy stosowaniu zjawiska bardzo krótkiego czasu padania promieniowania odczytujacego 4 nie wytwarza jeszcze w materiale fotograficznym 8 zadnego obrazu utajonego.6 106 050 Potrzebny ruch wzgledny pomiedzy punktem padania 10 wiazki 4 promieniowania odczytujacego na kontrolo¬ wany material, przy nieprzerwanej kontroli materialu 8 przesuwajacego sie z predkoscia produkcji tego materialu 8, nawet przy rozróznianiu miejsc wadliwych w lub na kontrolowanym materiale o szerokosci do 1,25 m, majacych powierzchnie 1 mm2, jest tak duzy, ze poziom szumu odbiornika swiatla 11,12, spowodowa¬ ny przez górna granice czestotliwosci przyjmuje tak male wartosci, które zapewniaja pewne rozpoznawanie wadliwych miejsc. Dalszym warunkiem pewnego rozpoznawania wadliwych miejsc w lub na kontrolowanym materiale 8 jest równoczesne odbieranie wiazki promieniowania 13 przechodzacego przez material 8 i wiazki promieniowania odbitego 14 od kontrolowanego materialu 8.

W celu unikniecia niezamierzonych ruchów drgajacych kontrolowanego materialu tasmowego 8 jest on w poblizu miejsca padania 10 wiazki 4 promieniowania odczytujacego, podpierany przez element prowadzacy 15, przy czym miejsce podparcia 16 i punkt padania 10 promieniowania odczytujacego 4 sa oddalone od siebie tylko na tyle, aby w punkcie padania 10 wiazki 4 promieniowania odczytujacego powstala mala szczelina powietrzna 17, która uniemozliwia, by zanieczyszczenia 18 wykonanego w postaci walca elementu prowadzacego 15 zmienialy powierzchnie kontrolowanego materialu 8 w punkcie padania 10 wiazki 4 promieniowania odczytuja¬ cego.

Poniewaz element prowadzacy 15 jest wykonany z materialu o wysokim wspólczynniku przepuszczania promieniowania,wiazke promieniowania przechodzacego przez kontrolowany material 8 i wiazke promieniowa¬ nia 13 rozpraszanego przez niego doprowadza sie do swiatlowodu 19, który przekazuje je do umieszczonych po stronach czolowych swiatlowodu 19 odbiorników swiatla 12, w których przeksztalcane sa one w odpowiednie sygnaly elektryczne.

Przez umieszczenie swiatlowodu 19 wewnatrz przezroczystego elementu prowadzacego 15 wykorzystuje sie tu dzialanie swiatlowodu 19 jako soczewki cylindrycznej, przez co zostaje zwiekszona szczelina wejsciowa urzadzenia odbierajacego i wieksza czesc przechodzacego przez kontrolowany material 8 promieniowania rozproszonego 13 zostaje doprowadzona do odbiorników swiatla 12. W celu zwiekszenia sprawnosci swiatlowo¬ du 19 w przykladzie wykonania, w rowku 20, który jest usytuowany na odwróconej od kontrolowanego materialu 8 stronie swiatlowodu 19, umieszczony jest dodatkowo material 21 o bardzo duzym wspólczynniku odbicia rozproszonego.

Na swiatlowodzie 19, na stronie zwróconej do kontrolowanego materialu 8, poza zewnetrzna krawedzia 23 kontrolowanego materialu tasmowego, 8, umieszczony jest wzorzec gestosci 22, tak, ze pada na niego wiazka 4 promieniowania odczytujacego przy analizowaniu kolejno kazdej linii. Wzorzec gestosci 22 sklada sie z materialu podobnego do materialu kontrolowanego 8 i ma równomierna przezroczystosc.

Jezeli wiazka 4 promieniowania odczytujacego padnie na wzorzec gestosci 22 w odbiorniku swiatla 12 zostaje wytworzony odpowiedni sygnal elektryczny. Za pomoca stalego sygnalu elektrycznego, wytwarzanego przez generator wartosci zadanej 24, sygnal elektryczny odbiornika swiatla 12 po odczytaniu wzorca gestosci 22 zostaje w urzadzeniu regulacyjnym 25 porównany ze stalymi sygnalami elektrycznymi wartosci zadanej. Przy odchyleniu pomiedzy tymi dwoma sygnalami, urzadzenie regulacyjne 25 zmienia wzmocnienie sygnalu odbiorni¬ ka swiatla 12, w celu wyeliminowania tego odchylenia. Dzieki temu unika sie zaleznych od czasu wahan natezenia wiazki 4 promieniowania odczytujacego i ukladu odbiorczego, zlozonego z elementu prowadzacego , swiatlowodu 19 odbiornika swiatla 12.

Przez zmiane ukladu zwierciadla 7 (nieznaczne przechylanie zwierciadla nalezacego do ukladu, np. o 1°) uzyskuje sie to, ze kat padania 26a wiazki 4 promieniowania odczytujacego na plaszczyzne odczytu kontrolowanego materialu 8 nie wynosi juz 0°. W zwiazku z tym, kierunek maksimum odbijanego przez kontrolowany material promieniowania 14 jest w ten sposób odchylony o kat —2°. Poniewaz kat padania 26a jest jednak równoczesnie katem odbioru 27, maksimum promieniowania odbitego 14 lezy 4° obok kata odbioru 27, a zatem na jego drodze nie ma szczeliny odbiorczej 28 i w zwiazku z tym, przy kontroli materialu 8, którego powierzchnia nie ma zadnych wad nie moze ono dojsc poprzez zwierciadlo 29 do odbiornika swiatla 11.

Jezeli powierzchnia kontrolowanego materialu 8 ma w okreslonym miejscu wade 30, przy odczytywaniu materialu 8 przez wiazke 4 promieniowania odczytujacego kat padania 26b wiazki 4 promieniowania odczytujacego, w plaszczyznie odczytu kontrolowanego materialu 8 wynosi dokladnie 0°. Wystarcza zatem najmniejsze elementy powierzchni, które odchylaja ja o 2° wzgledem plaszczyzny powierzchni materialu i wiazka 4 promieniowania odczytujacego pada na plaszczyzne odczytu, a zatem w szczeline odbiorcza 28 i dalej przez zwierciadlo 29 na odbiornik swiatla 11. Dochodzacy blysk promieniowania wytwarza impuls pradowy, który zostaje wykorzystany do wskazania wad powierzchni kontrolowanego materialu fotograficznego 8.

¦ *• V »i 't V V 11 FIG. 3106 050 4,14 ?4t> 50 6 FlG.5o 1 5.29 6 414 7 ? 30 8 FIG.5a FIG.5 4 14 26o 6 \ i FIG.4a \ 5,29 64 14 27 7 2ó l \ \ i I, U<1 f FIG.4

Claims (4)

Zastrzezenia patentowe

1. Sposób nieniszczacej kontroli materialu fotograficznego, przeprowadzanej w sposób ciagly za pomoca padajacej na badany material wiazki promieniowania odczytujacego o stalym natezeniu, która porusza sie106 050 7 wzgledem tego materialu przy czym wiazke promieniowania odczytujacego po jej przejsciu przez ten material, analizuje sie pod wzgledem modulacji spowodowanej przez badany material, zn a m ie n n y tym, ze jako wiazke promieniowania odczytujacego stosuje sie wiazke promieniowania swietlnego o dlugosci fali odpowiada¬ jacej lukom w czulosci badanego materialu i maksimum przepuszczania promieniowania przez fotograficznie nieczynne warstwy pomocnicze badanego materialu, przy czym wiazke promieniowania prowadzi sie tak, ze analizuje sie kolejno-liniowo tasme materialu fotograficznego, a nastepnie po przejsciu przez material fotograficz¬ ny i przez element prowadzacy, wiazke promieniowania rozproszonego doprowadza sie przez znany swiatlowód do przetworników optyczno-elektronicznych, w celu ciaglego mierzenia przy równoczesnym porównywaniu uzyskanych sygnalów pomiarowych zwartoscia zadana, po odczytaniu kazdej linii materialu fotograficznego, a wiazka promieniowania odbitego od materialu fotograficznego przy pozbawionej wad jego powierzchni, pada na odbiornik swiatla.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze wahania natezenia promieniowania odczytujacego i czulosci odbiorników swiatla w czasie, kompensuje sie przez stale porównywanie z wartoscia zadana podczas odczytywania materialu fotograficznego, za pomoca umieszczonego obok tego materialu wzorca gestosci przy uzyciu odpowiedniego ukladu regulacji.

3. Sposób wedlug zastrz. 1, albo 2, z n a m i e n n y t y m„ ze promieniowanie odczytujace kieruje sie na material fotograficzny w obszarze, który nie zezwala na zadne zmiany polozenia powierzchni niepodpartego materialu fotograficznego.

4. Urzadzenie do nieniszczacej kontroli materialu fotograficznego, posiadajace zródlo promieniowania odczytujacego wytwarzajace odbijana i przechodzaca przez badany material wiazke promieniowania odczytujace¬ go, o stalym natezeniu, element prowadzacy badany material, zbierajacy promieniowanie przechodzace przez material swiatlowód który jest zaopatrzony w rowek wypelniony odbijajacym materialem o wysokim wspólczynniku odbicia rozproszonego oraz posiadajace odbiorniki swiatla, znamienne tym, ze swiatlowód (19) umieszczony jest w obrotowym, polerowanym, przezroczystym, wydrazonym cylindrze stanowiacym element (15) prowadzacy fotograficzny material (8) w scisle wzgledem prowadzacego elementu (15) okreslonym miejscu fotograficznego materialu (8), gdzie znajduje sie punkt (10) padania wiazki (4) promieniowania odczytujacego na badany material (8) fotograficzny, przy czym przy prowadzonym fotograficznym materiale (8) znajduja sie znane wzorce gestosci (22), a ponadto odbiornik (11) swiatla odbitego jest umieszczony na drodze wiazki (14) promieniowania odbitego od badanego materialu (8), odchylonej o kat odbioru (27) promieniowania od wiazki (4) promieniowania odczytujacego.106 050 FIG.l FIG. 2 \9 (ZZZ 25 15 12 25 24 / ' 3C 3-—