NO318288B1 - Anordning og fremgangsmate for a dispensere en vaeske i en cisterne. - Google Patents

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører en anordning og fremgangsmåte for å dispensere en væske i en cisterne, tilpasset for plassering i et væskevolum med fluktuerende væskenivå, for eksempel i et reservoar eller en sisterne. Anordningen er videre tilpasset for å dispensere væske først når det fluktuerende væskenivået har avtatt til et forutbestemt nivå. Anordningen vedrører spesielt en dispenserings-anordning for tilførsel av tilsetningsstoffer, oftest i form av kjemikalier og/eller aromastoffer, til en væskecisterne. En vannsisterne på et vannklosett definerer et eksempel på et væskevolum der det kan være hensiktsmessig å tilsette tilsetningsstoffer, og den foreliggende oppfinnelse er derfor spesielt tilpasset dette. Oppfinnelsen omfatter også et system som ivaretar en god spyling av et vannklosett, og dette kan brukes til å redusere vannbruk.

Det er et godt kjent problem at det på toaletter med vannklosetter kan oppstå ubehaglig lukt og at forholdene i toalettskålen kan være uhygieniske og uestetiske. Den foreliggende oppfinnelsen er spesielt tilpasset for å avhjelpe dette.

Tilførsel av kjemikalier eller aromastoffer til cisternen på et vannklosett er godt kjent, eksempelvis som kjemikalieblokker som henger over kanten på cisternen eller på en klosettskål. Når en kjemikalieblokk ligger i cisternen løses denne langsomt opp og følger med vannet hver gang cisternen tømmes. Kjemikaliene blir på denne måten spylt gjennom toalettet og den siste andelen av vannet fra cisternen blir liggende ned i klosettets vannlås. Dette systemet er imidlertid lite gunstig fordi konsentrasjonen av kjemikalier i cisternen vil øke over tid og fordi unødvendig mye kjemikalier tømmes rett gjennom toalettet uten å virke. Kun en liten andel av de brukte kjemikaliene havner i klosettets vannlåsnivå der den gjør nytte.

For å unngå disse ulempene er det utviklet mer avanserte ordninger for dosering av kjemikalier eller aromastoffer. US-patent nr. 4 539 717 viser en innretning for kjemikalieoppløsning omfattende en sylinder som inneholder en kjemikalieblokk. Sylinderen er utstyrt med åpninger for utveksling av cisternens luft/væske.

US-patent nr. 2 098 294 viser en innretning for aromadosering med en sylinder omkring en kjemikalieblokk som bæres av en flottør. Sylinderen er utstyrt med åpninger for utveksling av cisternens luft/væske.

US-patent nr. 3 914 805 er en innretning for aromadosering som pumper ut aroma når cisternen fylles opp.

Norsk patent nr. 309.662 (samme søker) beskriver en anordning for dosert utslipp av kjemikalier til en cisterne. Anordningen omfatter en sylinder som inneholder en flottør som bærer en kjemikalieblokk, hvor sylinderen er utformet slik at kjemikalieblokken flyter opp i sylinderen i kontakt med vann som renner inn i sylinderen fra et hull i sylinderens vegg og overrisler kjemikalieblokken. Denne anordningen dispenserer ut kjemikaliene til cisternen rett før cisternen tømmes helt og kjemikaliene blir derfor liggende igjen i toalettets vannlås uten at kjemikalier unødvendig spyles til kloakk.

Imidlertid har det vist seg nødvendig å finne en forbedret måte å styre dispenseringen av tilsetningsstoffer. Tilsetningsstoffet vil normalt være kjemikalier i væskeform eller i fastform i form av pellets, pulver, tabletter eller blokker. Det har vist seg nødvendig å utvikle et system med færre bevegelige deler og tettinger, fordi bevegelige deler lett kan kile seg fast, er utsatt for slitasje og generelt sett er kompliserende og fordyrende elementer som er mer utsatt for feil. Dette er spesielt viktig i vann med høyt kalkinnhold.

Det er også et problem ved vannklosetter at trykket under utspyling av toalettskålen avtar når fallhøyden eller trykkhøyden i cisternen avtar. I enkelte tilfeller kan dette føre til at toalettskålen ikke skylles eller spyles skikkelig ren.

Dette og andre problemer løses i den foreliggende oppfinnelsen som angitt i de selvstendige krav.

Anordningen i henhold til oppfinnelsen kan utformes for å sørge for at det under siste del av utspylingen kommer en tilleggsspyling fra dispenseren med øket trykk i forhold til trykket under siste del av utspyling fra sisternen. Dette vil bidra til å spyle toalettskålen ren. Dette kan også benyttes for å redusere nødvendig spylemengde, og følgelig redusere klosettets vannforbruk.

Oppfinnelsen angår en dispenser som kan monteres i en cisterne for kontrollert avgivelse av tilsetningsstoffer, normalt i form av kjemikalier fra en kjemikalieblokk, eller fra en beholder med flytende kjemikalier til vannet i cisternen og/eller til luften i omgivelsene rundt cisternen. Kjemikaliene kan anordnes i dispenseren på en slik måte at dispenseren, avgir en kontrollert mengde kjemikalier hver gang cisternen benyttes, og slik at de kjemikaliene som avgis til vannet i cisternen i hovedsak forblir i systemet, for eksempel i klosettskålen, i stedet for å skylles direkte gjennom systemet uten å være til nytte. Dispenseren kan utformes slik at kjemikaliene ikke kommer i kontakt med vannet i cisternen, men kun fungerer som en aromagiver som kan avgi ønsket aroma til toalettrommets luft etter hver nedskylling fra klosett til kloakk. Videre kan dispenseren benyttes til å bidra til biologisk balanse ved utslipp fra en cisterne til omgivelsene, for eksempel ved utslipp til vassdrag eller åpent vann.

Tilsetningsstoffet vil i mange tilfeller består av tensider som vil avgi et filmsjikt nedover klosettskålen fordi overflatespenningen blir avionisert i dispenseren. Videre kan dispenseren benyttes til å bidra til biologisk balanse ved utslipp av gunstige stoffer til dette formålet fra cisterne til omgivelse, for eksempel ved utslipp til vassdrag eller åpent vann. Dispensere som opprettholder en vannsøyle før de aktiveres, vil holde tilbake det som ikke blir brukt når cisterneventilen til klosettet lukker seg på grunn av at inntak av vann fra nettet allerede kommer inn i cisternen fra første øyeblikk når man trekker ned toalettet, slik at det blir motstrøm og derved blir kjemikalier som ikke blir brukt fra dispenseren holdt tilbake i cisternen.

Dispenseringsanordningen omfatter et styringssystem som sørger for at en dosert kjemikaliemengde dispenseres ut av systemet ved et ønsket nivå i vanncisternen. Selv om anordningen kan brukes til å dispensere kjemikalier i en væskemengde hvis nivå varierer, er anordningen i henhold til oppfinnelsen spesielt tilpasset for bruk i cisterner på vannklosetter.

Dispenseringsanordningen som er tilpasset for plassering i et reservoar eller en sisterne med fluktuerende væskenivå, er videre tilpasset for å dispensere væske først når det fluktuerende væskenivået har avtatt til et forutbestemt nivå. Anordningen omfatter et langstrakt, hult hovedlegeme, utformet som en sylinder, en kanal, et rør eller et langstrakt profil, eksempelvis et ekstrudert aluminiumsprofil eller sylinder med en øvre ende og en nedre ende. Hovedlegemet definerer derved et hulrom. Hovedlegemets fasong kan være tilpasset cisternens innvendige fasong.

Betegnelsene "øvre" og "nedre", er ment å beskrive lokalisering, der nedre angir plassering under normal bruk av anordningen, der den øvre enden vil være nærmest et vannspeil i en cisterne, og nedre vil være nærmest en bunn av en cisterne.

Den øvre enden er avstengt og den nedre enden er åpen ut i reservoaret eller sisternen. En enveisventil, foreksempel i form av en kuleventil, er anbrakt ved hovedlegemets øvre ende og er tilpasset for å slippe trykk ut av hovedlegemets hulrom. En styringskanal eller en "vakuumkanal" som eksempelvis kan være utformet som et rør, har en øvre ende i fluidstrømningsmessig kontakt med hovedlegemets hulrom og en nedre ende tilpasset for å være i fluidstrømnings-messig kontakt med reservoaret eller sisternen. Den nedre enden utgjøres fortrinnsvis av en åpning eller en ende av røret for styring av når væsken skal dispenseres i forhold til væskenivået i cisternen. Åpningen er med andre ord plassert ved det væskenivå i cisternen, når en ønsker utstrømning fra dispenseren.

Under oppfylling av væske i cisternen, fylles dispenseren gjennom den nedre åpningen av hovedlegemet til samme nivå som væskenivået i cisternen. Luft eller aroma strømmer da ut gjennom ventilen i hovedlegemets øvre ende. Styringskanalen fylles samtidig til samme nivå.

Under tømming av cisternen dannes det et undertrykk i dispenserens øvre del, som holder på væsken i dispenseren. Når vannivået i cisternen har passert åpningen i styringskanalen, slippes det luft fra atmosfæren inn i styringskanalen, og inn til den øvre delen av dispenseren slik at undertrykket opphører og væsken i dispenseren dispenseres ut i cisternen eller til et annet ønsket sted. I denne prosessen kan væsken som dispenseres ta med seg tilsetningsstoffer.

Kort beskrivelse av de vedlagte tegninger

Fig. 1 viser en utførelsesform av en dispenser for flytende kjemikalie i en første stilling. Fig. 2 viser dispenseren som angitt på fig. 1 plassert i en klosettcisterne i hvilestilling klargjort med et kjemikalie. Fig. 3 viser dispenseren som angitt på fig. 1 under en første fase med utslipp til klosettskål/kloakk. Fig. 4 viser dispenseren som angitt på fig. 1 under siste fase under utslipp via klosettskål til kloakk. Fig. 5 viser dispenseren som angitt på fig. 1 under utslipp av kjemikalier til klosettskål. Fig. 6 viser dispenseren som angitt på fig. 1 under klargjøring før neste utslipp. Fig. 7 viser en annen utførelsesform av oppfinnelsen tilpasset for anvendelse av en fast kjemikalieblokk. Fig. 8 viser dispenseren som angitt på fig. 7 plassert i en klosettcisterne i hvilestilling. Fig. 9 viser dispenseren som angitt på fig. 7 under første fase med utslipp via klosettskål til kloakk. Fig. 10 viser dispenseren som angitt på fig. 7 under siste fase med utslipp via klosettskål til kloakk. Fig. 11 viser dispenseren som angitt på fig. 7 under utslipp til klosettskål. Fig. 12 viser dispenseren som angitt på fig. 7 under utslipp til klosettskål som samtidig doserer for klargjøring til neste utslipp, ved at væske spyles mot kjemikalie blokken.. Fig. 13 viser dispenseren som angitt på fig. 7 under klargjøring før neste utslipp. Fig. 14 viser en vanncisterne med en adapter for reduksjon av vannbruk, sett ovenifra.

Fig. 15 viser vanncisternen som angitt på fig. 14 sett forfra.

Detaljert beskrivelse av utførelsesformer av den foreliggende oppfinnelsen

Like henvisningstall viser til like komponenter.

Fra fig. 1 fremgår det en dispenser for dispensering av en væske, og dosering av et tilsetningsstoff, fortrinnsvis en kjemikalie. Eksempler på kjemikalier som antas gunstige er tensider som vil avgi et filmsjikt nedover klosettskålen og redusere overflatespenningen i klosettskålen slik at det vanskeligere setter seg fast belegg og materie i klosettskålen. Videre kan kjemikaliene benyttes til å bidra til biologisk balanse ved utslipp fra cisterne til omgivelsene. Andre kjemikalier som kan benyttes kan inneholde god lukt eller andre elementer som kan begunstige inne klimaet. Dispenseren omfatter en sylinder eller et hoved legeme 1 for hoved-sakelig vertikal montering i en cisterne på et vannklosett. På figurene er det vist et sylindrisk hovedlegeme, men hovedlegemet kan inneha et hvilket som helst tverrsnitt, det være seg firkantet, ovalt, tilpasset en fasong på en cisterne eller et annet gunstig tverrsnitt. Hovedlegemet er kanal- eller rørformet, og har en dimensjon i lengderetningen tilpasset slik at legemet får plass i den cisternen det er tilpasset for plassering i. Hovedlegemets diameter eller tverrsnittsareal er tilpasset slik at ønsket mengde kjemikalie og sluttspylingsvæske er tilpasset ønsket slutt-spylevæskemengde. Hovedlegemet har en bunndel eller-lokk 1e som tetter hovedlegemets nedre del 1a. Bunnlokket 1e kan være utstyrt med midler for å feste hovedlegemet i cisternen (ikke vist). Hovedlegemets øvre ende eller lokk 5 tetter hovedlegemets øvre ende på en lufttett måte. Lokket er påmontert en enveisventil 7, for eksempel en kuleventil med en kule 8. Lokket 5 omfatter en slange 9 for påfylling av kjemikalie. Slangen 9 omfatter midler for å blokkere denne på en lufttett måte (ikke vist). Lokket kan eksempelvis være tettet mot hovedlegemet med en o-ring 6. Innvendig i hovedlegemet 1 er det fastmontert et innvendig legeme 2 vist som en sylinder, som i utgangspunktet har samme fasong som hovedlegemet, men er av en mindre dimensjon slik at dette passer inn i hovedlegemet og slik at det dannes en spalte eller kanal 3 mellom hovedlegemet og det innvendige legemet eller sylinderen 2. Sylinderen 2 er vist fastgjort til lokkets 5 underkant, men kan være fastmontert i anordningen på en hvilken som helst måte så fremt det dannes en spalte eller kanal mellom hovedlegemet og sylinderen 2 og at sylinderen 2 er lufttett anbrakt mot lokket 5. Sylinderen 2 tjener som en beholder for et kjemikalie og omfatter et dreneringshull ved sin øvre ende. Spalteåpningen 3 er tilpasset for gjennomgang av væske/luft og utgjøres i en utførelsesform av differansen i diameteren mellom et sylindrisk hovedlegeme og en sylindrisk kjemikaliebeholder 2. Kjemikaliebeholderen 2 strekker seg fra hovedlegemets øvre ende og ned til en høyde over bunnstykket 1e. Ved kjemikaliebeholderens 2 nedre ende er det i montert en doseringsanordning vist som en kuleventil med en tetningskule eller oppdriftskule 13 som er tilpasset for å tette mellom ventilsetene 14 og 18. Kulen er av et materiale som tetter godt mot ventilsetene og som er bestandig mot tilsetningsstoffet og væsken i dispenseren. Videre innehar kulen 13 en tettet som gjør at den har oppdrift i væskene i dispenseren. I ventilen er det dannet et væskekammer 16 mellom ventilsetene 14 og 18 som utgjør et visst væskevolum. Under kjemikaliebeholderen 2 er det en fordypning 17 som tjener som en luftpute eller oppdriftsdel. Utiøpsrøret 1d er plassert rett over bunnlokket 1e på sylinderen eller hovedlegemet 1. På hovedlegemets eller sylinderens øvre halvdel er det innsatt et rør 12 i fluidkommunika-sjon med spalten 3 mellom hovedlegemet 1 og kjemikaliebeholderen 2. Røret er på en tettende måte anbrakt i hovedlegemet for eksempel via en pakning 11.1 den viste utførelsesformen omfatter røret 12 en nedre hylse 19 med en åpen ende 1b som "teleskopisk" kan justeres i lengden for å variere den totale lengden av røret 12 for å kunne regulere når dispenseren skal aktiveres fra vanncisternens vannivå 59. Imidlertid trenger ikke denne høyden å kunne reguleres hvis anordningen i henhold til oppfinnelsen er tilpasset for anvendelse i en spesifikk cisterne eller for et spesifikt vannivå.

De etterfølgende figurene 2, 3,4, 5 og 6 viser utførelsesformen av oppfinnelsen for dispensering av flytende kjemikalie som vist på fig. 1 under forskjellige trinn av dispenseringsprosessen. Figurene viser dispenseren i montert en cisterne 48 på et vannklosett (ikke vist).

Fig.2 viser en første hvilestilling der cisternen er fylt med vann under på-vente av nedtrekk og utspyling av vannet til toalettskålen. Videre fremgår det at hovedlegemet eller sylinderen 1 i sin nedre del innehar et volum som i denne fasen er fylt med en væskesøyle med ferdigblandet kjemikalie/vann 58 i nedre del av sylinderen 1. Røret 12 med hylse og spalte 3 er fylt med vann like høyt som cisternens vannivå 59. Røret 12 er et styringsrør som styrer når ferdigblandet kjemikalie/vann 58 skal slippes ut av åpningen 1d for dispensering av kjemikalie/- vann 58 til klosettskålen. Klosettet omfatter en nedtrekksventil av cisternevann til kloakk/klosettskål bestående av et ventilsete 48b og et ventillegeme 48a. Mellom ventillegemet 48a og ventilsetet 48b dannes det en spalte 48c under nedtrekk av toalettet slik at vann fra cisternen kan strømme mellom ventillegemet 48a og ventilsetet 48b.

Fra fig. 3 fremgår første fase under nedspyling fra vanncisternen 48 der vannet fra cisternen vil passere klosettskålen direkte til kloakk uten tilsetning av kjemikalie ut utløp 48c fra reservoar 5e. Dette innebærer at kjemikalie 10 i kjemikaliebeholderen 2 ikke påvirkes. Når toalettventilen 48a, 48b åpnes vil vannet 59 slippe ut via klosettskålen til kloakk. Under denne prosessen vil vannivået 59 synke samtidig som det skapes undertrykk 57 i røret 12 som er åpent inn i dreneringshull 4. Vannsøylen 58 holdes tilbake i sylinderen eller hovedlegemet 1 av undertrykk 57 i hovedlegemets øvre del og i røret 12 som er åpent inn i dreneringshull 4. Vannsøylen 58 blir holdt tilbake i sylinderen 1 da også kulen suges tett mot ventilsetet 14 på grunn av undertrykket i legemets øvre del. Nivået til vannsøylen 58 som holdes tilbake strekker seg også opp spalte 3 mellom sylinder 1 og sylinder 2. Luftrommet eller luftputen 17 presser oppdriftskulen 13 mot ventilsetet 14 fra sylinderens 1 vannspeil.

Fig. 4 viser en ny fase der vannivået 59 i vanncisternen 48 er slik at vann-søylen 58 blir holdt tilbake i sylinderen 1 uten å strømme ut av utløp 1 d mens vannet passerer i spalten 48c. I denne tilstanden er undertrykket i røret 12 gjennom dreneringshull 4 og dispenserens 1 øvre del opprettholdt for at kjemikalie 10 i kjemikaliebeholderens 2 øvre hulrom skal ivaretas. Undertrykket 57 forplantes også til sylinderens spalteåpning 3 for at vannsøylen med en trykkhøyde, for ferdigblandet kjemikalie 58 opprettholdes. I denne fasen vil undertrykket 57 suge noe vann 7b opp i røret 12.1 denne fasen opprettholdes oppdriftskulen 13 i tetning mot tetning 14 ved at luftputen 17 ivaretar et trykk 13a mot ballen samtidig som kjemikaliebeholderen 2 suger inn vann på grunn av undertrykket i røret 12 som danner en "pipetteeffekt". Kulen 8 i kuleventilen 7 holder fortsatt stengt for inntak av luft i hovedlegemets 1 øvre del.

I fasen vist på fig. 5, fremgår det dosering av flytende kjemikalie til væske-søylen 58 fra kjemikaliebeholderen 2.1 denne fasen slipper vanncisternen 48 fortsatt ut væske mellom cisternens ventillegeme 48a og cisternens ventilsete 48b i spalten 48c. Væsken inneholder nå ferdigblandet kjemikalie som strømmer ut av utløpet 1d. Væsken fra kjemikaliedispenseren blir opprettholdt i klosettskålen i dennes vannlås uten å passere vannlåsen til kloakk. Undertrykket i dispenserens øvre del er frigjort fordi luft 9a kan strømme inn i styringsrøret 12 inn til spalten 3 til væskesøylen 58 i den nedre delen av hovedlegemet 1. Trykket i kjemikaliebeholderen 3 utlignes også via dreneringshull 4. Noe væske fra cisternen vil suges opp gjennom styringsrøret 12 og vil gå inn i spalte 3 og ned i hovedlegemets nedre rom med væskesøylen 58. Vannet vil ikke trenge inn i kjemikaliet der dreneringshullet 4 er montert over innløpet for røret 12. Samtidig vil kjemikalie 10 i kjemikaliebeholderen 3 avgi noe kjemikalie til hovedlegemets nedre del ved at oppdriftskulen 13 mister sin oppdrift fordi trykket i luftputen 17 opphører og fordi undertrykket i kjemikaliebeholderen opphører. Følgelig faller oppdriftskulen 13 ned fra ventilsetet 14 til ventilsetet 17 og avgir en liten mengde kjemikalie 13b fra kjemikaliebeholderen 2 til væskesøyle 58 i sylinderen eller hovedlegemet 1.

Mange av dagens vannklosetter omfatter et system der man kan velge mellom full eller redusert spylevannsmengde. Redusert spylevannsmengde innebærer tidlig stenging av spylevannet fra cisternen til klosettskålen. For å tilpasse den foreliggende oppfinnelsen til slike toaletter kan dispenseren automatisk stilles i forhold til dette ved at den nedre enden 12a stilles i et høyere nivå enn nivå 99b representert av kjemikaliebeholderens 3 nedre ende for å opprett-holde vannspeilet mot luftpute 17.1 dette tilfellet vil oppdriftskulen 13 få et impuls-trykk i en retning vekk fra setet 14 fra kjemikaliebeholderen 2 når luften kommer inn i styringsrøret 12, men vil straks søke tilbake til setet 14 fordi luftputen 17 fortsatt er intakt. Dette vil dispenseren automatisk føle ved hel eller redusert nedspyling uavhengig av om den opprettholder luftputen eller ikke. I denne prosessen vil kulen 8 i enveisventil 7 stenge for luft inn i kjemikaliebeholderen 3. Fig. 6 viser dispenseren under oppfylling av vann r cisternen for klargjøring til neste utskylling. Cisternen er stengt ved at ventillegemet 48a ligger an mot ventilsetet 48b. Når vannivået 59 stiger i cisternen vil vannivået også stige i styringsrøret 12 og i spalten 3 mellom kjemikaliebeholderen 2 og hovedlegemet 1. Når vannivået når luftputen 17, nivå 99b på fig. 5, slippes det ut litt kjemikalie 10 fra kjemikaliebeholderen 2 ned til vannsøylen 58 som dannes av hovedlegemets nedre del og som danner reservoaret for vann/kjemikalie, ved at oppdriftskulen 13 løftes opp av setet 17 til setet 14.1 denne stillingen stenger oppdriftskulen 13 for kjemikaliet. Størrelsen på oppdriftskulen 13, åpningene som utgjøres av ventilsetene og hulrommet i ventilen er med på å avgjøre mengden kjemikalier som dispenseres. Under nivåstigningen vil ventilen 7 åpne seg og luft eller aroma 114 fra det innvendige 112 av kjemikaliebeholderen 2 vil slippes ut til omgivelsene. Styringsrøret 12 vil bidra til denne utstrømningen via dreneringshull 4. Når cisternens vannivå 59 er nådd et visst punkt stanses innstrømningen av vann og toalettet er klart for ny spyling som vist på fig. 2. Fig. 7 viser en annen utførelsesform av oppfinnelsen der et fast kjemikalie i form av en kjemikalieblokk erstatter, det flytende kjemikaliet. Kjemikalieblokken kan være plassert i en sylinder 20 omfattende en patron 21 som kan monteres gjennom en åpning 26 i sylinderlokket og kan hvile på en krage 25. Patronen 21 har et lokk 24 som lades med kjemikalieblokk 22 og som kan magasinere seg automatisk nedover 29 etter hvert som den brukes. Imidlertid utelukker ikke oppfinnelsen at en annen utførelse av kjemikaliet i faststoff, foreksempel i form av pulver eller pellets, kan brukes. Kjemikalieblokken 22 er utformet med et profil som danner et areal 27 for avgivelse av kjemikalie når en vannstråle treffer dette arealet og som gjør at kjemikalieblokken avgir en dosering kjemikalie til vannet i beholderen. I den viste utførelsesformen hviler kjemikalieblokken 22 på patronens 23 bunn. Dispenseren definerer et innvendig volum 28 for avgivelse av ferdig kjemikalie/vann. Figurene 8, 9,10,11,12 og 13 viser forskjellige sekvenser under dispensering med dispenseren som vist på fig. 7. Sekvensene tilsvarer sekvensene beskrevet i forbindelse med utførelsesformen som anvender flytende kjemikalier. Fig. 8 viser dispenseren med kjemikalieblokk i en posisjon klargjort i klosettcisterne 48 der cisternens ventil med ventillegeme 48a er stengt mot ventilsetet 48b. I denne tilstanden er kjemikalie/vann 47 ferdigblandet innvendig i dispenseren 1 i samme høydenivå som vanncisternen og styrings- eller vakuum-røret 12. En enveisventil, eksempelvis en kuleventil 7 i lokket er stengt med kule 8. Patronens 21 kjemikalieblokk 22 er fortrinnsvis tettende anbrakt i forhold til omgivelsene slik at den ikke tørker ut, da dette vil hindre at blokken avgir kjemikalie for hver nedspyling via blokkens areal 27. Fig. 9 viser samme prosess for utslipp som fig. 3, men dispenseren vist på fig. 9 inneholder en kjemikalieblokk. Vanncisternens 48 ventil er åpen for passasje av vann gjennom spalte 48c og vannet renner til kloakk gjennom ventilen. Dette innebærer at vannivået 59 vil synke og skape undertrykk 57 i styringsrøret 12 slik at vannsøylen 58 med ferdigblandet kjemikalie i dispenseren ivaretas. Kjemikalieblokken 22 i patronen 21 er uberørt i denne fasen. Ventil 7 er stengt for inntak av luft i dispenseren under dette trinnet. Fig. 10 viser samme trinn for undertrykk som vist på fig. 4, men dispenseren er utstyrt med kjemikalieblokk 22 i patron 21 i stedet for flytende kjemikalier. Det vises siste fase der vannivået 58 i cisternen 48 er på et nivå rett før det passerer vakuumrørets 12 nedre åpning. Vannsøylen 58 blir holdt tilbake i sylinderen 1 mens vannet fra cisternen passerer via spalten 48c ut til kloakk via klosettskål, mellom cisternens ventilsete 48b og ventillegemet 48a. Under denne prosessen opprettholdes undertrykket 57 i røret 12, men røret 12 vil løfte noe vann 89 på grunn av undertrykket som danner en "pipetteeffekt" og suger opp vann fra vanncisternen. I denne tilstanden er ventilen 7 fortsatt tett. Fig. 11 viser dispenseren i en fase tilsvarende den vist på fig. 5, der kjemikalieblokk 22 i patron 21 med kjemikalieareal 27 senere vil bli spylt av en vannpropp 103 sugd opp fra cisternevannet på grunn av undertrykket i dispenserens øvre del dannet under senkning av cisternens vannivå. Under spylingen av kjemikalieblokkens areal 27 med vannpropp 103 avgis kjemikaliet fra kjemikalieblokken til dispenseren 1 sammen med vann som spyles til klosettskålen gjennom cisterneventilens spalte 48c. Denne utskyllingen går kun til klosettskålen uten å passere dens vannlås, fordi kjemikalieutspylingen kun foregår i slutten av utspylingen. Aktivisering av utspyling blir igangsatt ved at vannivået 59 kom lavere enn innløp 12a på styringsrøret 12, og derved blir det sluppet luft inn i styringsrøret 12 slik at undertrykket i dispenseren opphører og vannsøylen 58 blir spylt ut. I denne tilstanden er ventilen 7 lukket. Fig. 12 viser et trinn som tilsvarer utførelsesformen for væskedispensering vist på figur 5. Figuren viser at vannproppen 103 treffer kjemikalieblokken for å avgi kjemikalie i dispenseren samtidig som ferdigblandet kjemikalie/vann avgis til klosettskålen. Vanncisternen 48 slipper ut vann ved at cisternens ventil fortsatt er åpen. Vannivået 59 er på dette stadiet slik at det kommer luft inn i røret 12 og slik at sylinderens undertrykk 62 opphører. Følgelig blir vannproppen 103 suget inn og støter mot patronen 21 med kjemikalieblokken for å treffe kjemikalieblokkens areal 27 for videre å bringe med seg oppløst kjemikalie til sylinderens innvendige volum for klargjøring til neste utslipp i klosettskålen. Under denne fasen er ventilen 7 stengt for inntak av luft inn i sylinderen 120. Fig. 13 viser oppfylling av dispenseren etter bruk tilsvarende fig. 7. Under oppfylling av sylinderen slippes luften og eventuelt aromastoffer fra væske-sylinderen 58 og kjemikalieblokken 22 ut av ventilen 7.1 denne fasen er cisternens ventil 48a, 48b lukket og vann fylles i cisternen. Vannivået 59 vil stige opp i cisternen og i dispenseren til det når cisternens maksimumsnivå. Når vannivået i dispenseren og cisternen har stabilisert seg vil ventilen 8 stenges slik at kjemikalieblokken ikke tørker ut. Etter dette trinnet vil dispenseren være klargjort for neste utspyling som vist på fig. 8. Fig. 14 viser en annen anvendelse av vakuumstyringssystemet brukt i en vanncisterne for sparing av vann og eventuelt for utslipp av kjemikalier. Fig. 14 viser vanncisternen 48 for et toalett sett ovenifra med klosettets ordinære vann-reservoar 143.1 vannreservoaret er det plassert et adapter 142 i henhold til oppfinnelsen som omfatter en kanal med et mindre volum som er åpent i bunn og topp. Bunnen er utstyrt med en pakning, fortrinnsvis en børstepakning, angitt som 159 på fig. 15, for oppbremsing av vann. Kanalen 142 omslutter vanncisternens 48 bunnventil 48a, 48b. Kanalen 142 omslutter dessuten dispenseren 1 (her vist uten kjemikaliebeholder) i en utførelsesform der toppventilen 7 utgjøres av et konisk

toppsete 145 hvor det hviler en kule 148. Denne ventilen erstatter ventil 7 med kule 8 vist i de tidligere utførelsesformene. Et rør 12 med en styringsslange er plassert ned i en vakuumhylse 147.

Fig. 15 er et sideriss av fig. 14 der det vises forskjellige vannivåer under uttømming av cisternens vann til toalettskålen. En utløser for nedtrekk 15d plassert gjennom cisternens lokk 15e løfter ventillegemet 48a fra ventilsetet 48b for utslipp av cisternevann til klosettskål/kloakk. Under denne nedspylingen vil vannivået 156 i adapteren/kanalen 151 bli senket raskere enn vannivået 154 som omslutter kanalen på grunn av pakningen, fortrinnsvis børstepakningen, 159 som bremser vannet fra den ordinære cisternen 48. Uttømmingen i kanalen 151 vil skape en høyere vannsøyle 15A i sylinderen 1 fordi ventilkulen 148 vil suge seg mot ventilsetet 145 fordi styringsslangen 12 suger luft ned til nivå 155 der luften blir sluppet tilbake i dispenseren når vannivået i cisternen blir lavere enn hylsens 147 nederste nivå 155. Når luft slippes inn i hylsen 147 vil undertrykket i dispenseren opphøre og akselerere den siste fasen av vann til klosettskålen for å bedre spyling 158 av denne via aktiv horisontal stråling helt frem i toalettskålen ved avslutning av spylingen, under siste utslippsfase til toalettskålen. Normalt synker trykket på spylingen ettersom vannivået i cisternen synker. Når vannet i cisternen har nådd sitt laveste nivå støter ventillegemet 48a mot ventilsetet 48b og cisternen stenges for videre spyling. Etter dette fylles cisternens nivå. Vannet som ble tilbake i cisternen mellom adaptere og cisternens yttervegger utgjør en spart mengde vann. Etter oppfylling vil nivået 153 i dispenseren, i adaptere og i cisternen være det samme.

Claims (9)

1. Anordning for å dispensere en væske, tilpasset for plassering i en cisterne (48) med fluktuerende væskenivå (59), der anordningen videre er tilpasset for å dispensere væske først når det fluktuerende væskenivået (59) har avtatt til et forutbestemt nivå, omfattende: et hult hovedlegeme (1) med en øvre ende og en nedre ende (1a), der den øvre enden er lufttettende avstengt og der den nedre enden (1a) er åpen ut i cisternen (48), og der hovedlegemet (1) er tilpasset for å oppta en væske-søyle (58) fra cisternen (48), samt en enveisventil (7) anbrakt ved på hovedlegemets (1) øvre ende, tilpasset for å slippe trykk ut av hovedlegemets (1) hulrom;karakterisert veden styringskanal (12) med en øvre ende i fluidstrømningsmessig forbindelse med hovedlegemets (1) hulrom og en nedre ende (1b) i fluid-strømningsmessig forbindelse med cisternen (48), for å danne et undertrykk i hovedlegemet (1) som holder tilbake væskesøylen (58) inntil undertrykket utlignes idet væskenivået (59) i cisternen passerer under nedre ende (1b) av styringskanalen (12).

2. Anordning i henhold til krav 1, der styringskanalen (12) omfatter et rør og en nedre hylse (19) som plasseres utenpå røret i en fluidtett teleskop-forbindelse, slik at styringskanalens (12) lengde kan justeres.

3. Anordning i henhold til krav 1, videre omfattende et opptakslegeme (2, 21) tilpasset for tilsetningsstoff (10, 22) for væskesøylen (58).

4. Anordning i henhold til krav 3, der opptakslegemet (2) for tilsetningsstoff er tilpasset for dispensering av væskeformig tilsetningsstoff (10) og omfatter: en væsketank (2) for opptak av det væskeformige tilsetningsstoffet (10) plassert inne i hovedlegemets (1) hulrom; en dispenseringsventil (15) plassert ved væsketankens (2) nedre ende for dispensering av tilsetningsstoffet; og en kanal (3) som danner fluidmessig kommunikasjon mellom væsketankens (2) øvre ende og anordningens væskesøyle (58).

5. Anordning i henhold til krav 4, der dispenseringsventilen (15) omfatter: en oppdriftskule (13) med en tetthet som gir kulen (13) oppdrift i væskene i anordningen når denne er i bruk; et kammer (16) anbrakt ved tankens (2) nedre ende, med en første åpning som er åpen mot væsketanken (2) og en andre åpning som er åpen mot væskesøylen (58), der kammeret (16) omslutter oppdriftskulen (13); et første ventilsete (14) som omgir den første åpningen og som er tilpasset for tettende inngrep med oppdriftskulen (13); og et andre ventilsete (18) som omgir den andre åpningen og som er tilpasset for tettende inngrep med oppdriftskulen (13).

6. Anordning i henhold til krav 4, der væsketanken (2) er utformet som et langstrakt hult legeme som er tilpasset slik at den passer inn i hovedlegemet (1) og er anbrakt i dette slik at det er dannet en spalte (3) mellom hovedlegemet (1) og væsketanken (2), og der væsketanken (2) er tettende innfestet i hovedlegemets (1) øvre ende, der den øvre enden av væsketanken (2), enveisventilen (7) og spalten (3) er i fluidmessig kommunikasjon, der den fluidmessige kommunikasjonen mellom væsketanken (2) og spalten (3) utgjøres av et dreneringshull (4), der dreneringshullet (4) er plassert over styringskanalens (12) øvre innløp for at eventuell væske fra styringskanalen (12) ikke skal trenge inn i væsketanken (2), og der væsketanken (2) omfatter en tettbar åpning (9) for tilførsel av tilsetningsvæske (10) til væsketanken (2).

7. Anordning i henhold til krav 3, der opptakslegemet (21) for tilsetningsstoff er tilpasset for dispensering av fast tilsetningsstoff (22), der opptakslegemet (21) for tilsetningsstoff (22) omfatter en åpning som blottlegger et areal (27) av tilsetningsstoffet (22), og der styringskanalens (12) øvre ende i fluid-strømningsmessig forbindelse med hovedlegemets (1) hulrom, er innrettet slik at væske som passerer inn gjennom styringskanalen (12), passerer over arealet (27) av tilsetningsstoffet (22), og bringer med seg en dosert del av tilsetningsstoffet (22) til væskesøylen (58).

8. Anordning i henhold til krav 1, omfattende: et adapter (142) tilpasset for plassering i cisternen (48) utformet som en kanal, åpen i bunn og topp med en nedre kant og en øvre kant, der kanalen er tilpasset for å omslutte en bunnventil (48a, 48b) på et toalett, samt anordningens hovedlegeme (1); og en pakning (159) anbrakt langs kanalens nedre kant for tetting rriot cisternen (48) for oppbremsing av væsken fra denne for sparing av vann.

9. Fremgangsmåte for å dispensere en væske i en cisterne for sluttspyling av en klosettskål på et vannklosett med en cisterne (48) og en bunnventil (48a, 48b), med en anordning som angitt i krav 1, karakterisert vedfølgende trinn: anbringelse av anordningen i cisternen (48) slik at den nedre endens (1a) åpning (1d) ut i væskevolumet er plassert nær bunnventilen (48a, 48b); oppfylling av cisternen (48) med vann slik at anordningen fylles til samme nivå som cisternens (48) vannivå (59), helt til det nås et maksimumsnivå (153) der vannklosettet er klart for spyling; åpning av bunnventilen (48a, 48b), slik at vann strømmer ut av cisternen (48) og reduserer vannivået i cisternen (48) til et første nivå over den nedre enden av styringskanalens (12) nivå (12a, 155), mens vannivået i anordningen ivaretas hovedsaklig på samme nivå ved at undertrykk i anordningens øvre ende holder på vannet; og redusering av vannivået i cisternen (48) til et andre nivå forbi den nedre enden av styringskanalens (12) nivå (12a, 155) slik at luft slippes inn i styringskanalen (12) og utligner undertrykket i anordningens øvre ende, slik at anordningens vannsøyle (58) spyles ut av åpningen (1d) og bunnventilen (48a, 48b).