NL9401872A - Device for the construction of electron beam generators. - Google Patents

Device for the construction of electron beam generators. Download PDF

Info

Publication number
NL9401872A
NL9401872A NL9401872A NL9401872A NL9401872A NL 9401872 A NL9401872 A NL 9401872A NL 9401872 A NL9401872 A NL 9401872A NL 9401872 A NL9401872 A NL 9401872A NL 9401872 A NL9401872 A NL 9401872A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
pins
passages
contact
electrodes
walls
Prior art date
Application number
NL9401872A
Other languages
Dutch (nl)
Other versions
NL194452B (en
NL194452C (en
Original Assignee
Nokia Technology Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nokia Technology Gmbh filed Critical Nokia Technology Gmbh
Publication of NL9401872A publication Critical patent/NL9401872A/en
Publication of NL194452B publication Critical patent/NL194452B/en
Application granted granted Critical
Publication of NL194452C publication Critical patent/NL194452C/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/18Assembling together the component parts of electrode systems
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/48Electron guns
    • H01J2229/50Plurality of guns or beams
    • H01J2229/502Three beam guns, e.g. for colour CRTs

Description

Inrichting voor de constructie van elektronenstraalopwekkersDevice for the construction of electron beam generators

De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor de constructievan elektronenstraalopwekkers, in het bijzonder van elektronenstraalop¬wekkers met kathodestraalbuizen met diverse stralen.The invention relates to a device for the construction of electron beam generators, in particular electron beam generators with cathode ray tubes of various beams.

Kathodestraalbuizen met diverse stralen, bijvoorbeeld kleurenbeeld-buizen, zijn uitgerust met elektronenstraalopwekkers, die bijvoorbeeldvia vier achter elkaar geplaatste en een relatieve afstand ten opzichtevan elkaar aanhoudende roosterelektroden beschikken en waarbij de ver¬schillende roosterelektroden, die de respectievelijke elektronenstraalbeïnvloeden, door een - voor alle elektronenstralen van het systeem -gemeenschappelijke roosterelektrode worden gevormd. Ieder van deze ge¬meenschappelijke roosterelektroden heeft per elektronenstraal een door-gangsopening, waarbij niet alleen de doorgangsopeningen in de verschil¬lende gemeenschappelijke roosterelektroden, maar - afhankelijk van hetdesign - ook de doorgangsopeningen in een gemeenschappelijk rooster eenverschillende openingsgrootte kunnen hebben. Algemeen kan worden gezegd,dat de openingsgrootte van de doorgangsopeningen in de verschillenderoosterelektroden van de kathode in de richting van het trefvlak van deelektronenstralen toeneemt. Reeds op deze plaats wordt erop gewezen, datde doorgangsopeningen niet noodzakelijkerwijs in vlakke roosterbodemsaangebrachte gaten hoeven te zijn, maar ook van zogenaamde doorgangenvoorziene gaten kunnen zijn, die vanwege elektronenoptische gronden wor¬den gevormd en die de respectieve opening in de roosterbodem door eenbuisvormige aanzetstuk in de diepte daarvan verlengen. Zulke van door¬gangen voorziene gaten in roosterelektroden zijn bijvoorbeeld bij kleu-renbeeldbuizen aan te treffen in het hoofdlensgebied, dat wil zeggen inhet bovenste gedeelte van rooster 3* alsmede in rooster 4.Cathode ray tubes of various beams, for example, color picture tubes, are equipped with electron beam generators, which, for example, have four electrodes arranged one behind the other and maintained at a relative distance from each other and wherein the different grid electrodes, which influence the respective electron beams, by a - for all electron beams of the system-common grid electrode. Each of these common grid electrodes has a passage opening for each electron beam, whereby not only the passage openings in the different common grid electrodes, but depending on the design, the passage openings in a common grid can also have a different opening size. In general, it can be said that the aperture size of the passage openings in the different lattice electrodes of the cathode increases towards the target plane of the electron beams. Already at this point it is pointed out that the passage openings need not necessarily be holes arranged in flat grid bottoms, but may also be holes provided with so-called passage holes, which are formed for electron-optical reasons and which form the respective opening in the grid bottom through a tubular extension in the extend its depth. Such holes in grating electrodes provided with holes can be found, for example, in color picture tubes in the main lens region, i.e. in the upper part of grating 3 * and in grating 4.

Opdat deze elektronenstraalopwekkersystemen bijvoorbeeld op hetbeeldscherm van een kleurenbeeldbuis een goede afbeeldprestatie leverenis het onder andere vereist, dat de gemeenschappelijke roosterelektrodenten opzichte van elkaar een vooraf bepaalde afstand aanhouden en dat dedoortree-openingen in een gemeenschappelijke roosterelektrode ten opzich¬te van de daarbij behorende doortree-openingen van een andere gemeen¬schappelijke roosterelektrode exact zijn uitgericht. Om deze eisen terealiseren is uit DE-A-3421884 een inrichting bekend, die per stralengangvan het elektronenstraalopwekkersysteem over een stift beschikt, alsmedevoor de instelling van de afstand tussen twee gemeenschappelijke rooster- elektroden een in tweeën gedeeld afstandsstuk bezit, dat dwars ten op¬zichte van de straalrichting tussen de beide gemeenschappelijke roostere-lektroden kan worden aangebracht. Voor het uitrichten van twee gemeen¬schappelijke roosterelektroden door middel van de bekende inrichtingwordt allereerst een gemeenschappelijke roosterelektrode met de door-tree-openingen daarvan op de stiften geschoven. Dan wordt het afstands¬stuk in de ingeschoven positie daarvan gebracht en de andere gemeenschap¬pelijke roosterelektrode wordt met de doortreegaten daarvan op de stiftgeschoven, zodat de beide gemeenschappelijke roosterelektroden onderbehoud van afstand door het afstandsstuk boven elkaar zijn aangebracht enmet betrekking tot hun doortree-openingen ten opzichte van elkaar zijnuitgericht.In order for these electron beam generating systems to have a good display performance, for example on the screen of a color display tube, it is required, inter alia, that the common grid electrodes maintain a predetermined distance from one another and that the passage openings in a common grid electrode with respect to the associated passage openings of another common grid electrode are aligned exactly. In order to realize these requirements, DE-A-3421884 discloses a device which has a pin per beam path of the electron beam generating system, as well as for the adjustment of the distance between two common grid electrodes, a spacer which is divided in two and which is viewed transversely. of the beam direction between the two common grating electrodes. In order to align two common grid electrodes by means of the known device, a common grid electrode with its step-through apertures is firstly pushed onto the pins. Then the spacer is brought into its retracted position and the other common grating electrode is slid onto its pin with its through holes so that the two common grating electrodes are spaced apart through the spacer and with respect to their passage openings aligned with each other.

Het uitrichten van de doortree-openingen in de beide roosterelektro¬den vindt daarbij zodanig plaats, dat de stiften in de gebieden, waarindeze de doortree-openingen doordringen, een elliptische dwarsdoorsnede-vorm of een door twee koorden begrensde cirkeldoorsnedevorm hebben. Degrote ellipsdiameter, respectievelijk de diameter van de cirkeldoorsnedeis gelijk aan de kleinste, uit de tolerantie resulterende diameter van degaten, respectievelijk van de doorgangen van de respectieve gemeenschap¬pelijke roosterelektrode om het vastklemmen van de roosterelektroden bijhet opschuiven, respectievelijk het aftrekken van de roosterelektroden tevermijden. Om uitrichting van de doortree-openingen in het vlak dwars opde straalrichting te verkrijgen, zijn de beiden radiaal ten opzichte vande straalrichting aangebrachte raakvlakken van een stift (bij voorkeurvan de middelste stift) ten opzichhte van de inrichtingsvlakken van deoverige stiften met 90° gedraaid (EP-A-O.i58.388 en JP-A-52/15260). Onderraakvlakken worden de radiaal ten opzichte van de straalrichting verlo¬pende gebieden van de stiften verstaan, waarmee de respectieve stiftenbij opgeschoven roosterelektrode met de wanden van de doorgangen of degatranden in contact staan.The passage openings in the two grid electrodes are aligned in such a way that the pins in the areas through which the passage openings penetrate have an elliptical cross-sectional shape or a circle cross-section formed by two cords. The large ellipse diameter, or the diameter of the circle cross-section, is equal to the smallest diameter of the holes, resulting from the tolerance, or of the passages of the respective common grid electrode, in order to avoid clamping of the grid electrodes when sliding on or pulling off the grid electrodes. In order to obtain alignment of the passage openings in the plane transverse to the beam direction, the two tangent surfaces of a pin (preferably of the middle pin) arranged radially with respect to the beam direction are rotated by 90 ° relative to the device surfaces of the other pins (EP -AO.i58,388 and JP-A-52/15260). Contact surfaces are understood to be the radially extending areas of the tips radially with respect to the beam direction, with which the respective tips contact the walls of the passages or the edge edges when the grating electrode is pushed on.

Zijn de beide gemeenschappelijke roosterelektroden door middel vande hiervoor aangeduide inrichting uitgericht, dan kunnen door overeenkom¬stige vorming van de stiften verdere roosterelektroden op de stiftinrich-ting worden uitgericht. De duurzame fixering van de roosterelektroden ten1 opzichte van elkaar vindt plaats met behulp van glasstroken, die in ver¬warmde toestand op de zijkant van de roosterelektroden worden opgedrukt.Na het afkoelen van de glasstroken worden de afstandsstukken in een naarbuiten gebrachte stelling gebracht, zodat het gevormde elektronenstraal-opwekkersysteem van de stiften kan worden afgetrokken.If the two common grating electrodes are aligned by means of the device indicated above, further grating electrodes can be aligned on the pin device by corresponding formation of the pins. The grid electrodes are permanently fixed relative to each other by means of glass strips, which are pressed onto the side of the grid electrodes in a heated state. After the glass strips have cooled, the spacers are brought outwards so that the formed electron beam generating system can be subtracted from the pins.

Is de grote diameter van de ellips, die de gaten of doorgangen door¬dringt, bijvoorbeeld gelijk aan de kleinste uit de tolerantie van het gatrespectievelijk van de doorgang resulterende diameter, dan kunnen degemeenschappelijke roosterelektroden slechts relatief onnauwkeurig wordenuitgericht. Dit is daarop terug te voeren, dat bij de massavervaardigingde gestanste openingen of doorgangen nooit met 100# nauwkeurigheid rondkunnen zijn, respectievelijk de op de gaten aansluitende doorgangen nooitmet volledig parallel ten opzichte van de straalassen verlopende wandenkunnen worden gevormd. Daarom is het noodzakelijk, dat de gebieden van destiften, die de gaten of doorgangen doordringen en die met hun inrich-tingsvlakken bij ideale gat- of doorgangsvorming daarmee in contact die¬nen te staan, alle bij het stansen optredende en nog tolereerbare afwij¬kingen van de gewenste maat beschouwen, doordat zij ten opzichte van degewenste diameter van het gat of van de doorgang enigszins kleiner wordengevormd.If the large diameter of the ellipse penetrating the holes or passages is, for example, equal to the smallest diameter resulting from the tolerance of the hole, respectively, of the passage, then the common grid electrodes can be aligned only relatively inaccurately. This can be traced back to the fact that mass-punched openings or passages can never be round with 100 # accuracy, or the holes connecting to the holes can never be formed with walls running completely parallel to the blasting axes. Therefore, it is necessary that the areas of pins which penetrate the holes or passages and which contact their device surfaces with ideal hole or passage formation be in contact with it, all deviations occurring and still tolerable during punching of the desired size, in that they are formed somewhat smaller relative to the desired diameter of the hole or of the passage.

In dit verband wordt erop gewezen, dat in het bijzonder die door-tree-openingen, die door middel van smalle bruggen op afstand van denaburige doortree-openingen liggen ertoe neigen om niet rond te zijn.Bijzondere problemen treden op, wanneer de wanden van de doorgangen nietexact parallel aan de straalassen verlopen. In dit geval wordt, wanneerde voor zulke gevallen beschouwde tolerantie in de segmenten te klein isgekozen, het uitrusten van de stiften bemoeilijkt, omdat zulke rooster¬elektroden op de stiften vastklemmen. Het laatste kan daartoe leiden, datbij het toepassen van kracht gedurende het opschuiven van zulke rooster¬elektroden de openingsdoorsnede wordt veranderd, respectievelijk de stif¬ten aan een overmatige slijtage worden onderworpen.In this connection, it should be pointed out that in particular those door-tree openings, which are spaced from the neighboring entrance openings by means of narrow bridges, tend to not be round. Particular problems arise when the walls of the passages not exactly parallel to the blasting axes. In this case, if the tolerance considered for such cases in the segments is chosen too small, it will be difficult to equip the pins, because such grid electrodes clamp on the pins. The latter may lead to the opening cross-section being changed or the tips being subjected to excessive wear when applying force during the sliding of such grid electrodes.

Daarom ligt aan de uitvinding de doelstelling ten grondslag eeninrichting voor de constructie van elektronenstraalopwekkersystemen aante geven, die de uitrustingsproblemen oplost en het tegelijkertijd moge¬lijk maakt om roosterelektroden met grotere nauwkeurigheid ten opzichtevan elkaar uit te richten en te verbinden.Therefore, the object of the invention is to provide a device for the construction of electron beam generating systems which solves equipment problems and at the same time makes it possible to align and connect grating electrodes with greater precision to each other.

Deze doelstelling wordt daardoor bereikt, dat volgens conclusie 1voor het uitrichten van, van doorgangen voorziene roosterelektroden degebieden van de stiften, die in de straalrichting met de wanden van dedoorgangen in contact staan, een geringere lengte hebben dan de dieptevan de doorgangen. Hierdoor wordt bereikt, dat de stiften, waarvan deinrichtingsvlakken bij ideaal gevormde doorgangen in contact met de wan¬den van de doorgangen komen, niet boven de totale diepte van de door¬gangen met de wanden in contact staan. Voor niet ideaal gevormde door¬ gangen betekent dit, dat bij in de straalrichting verminderde lengte vande Taakgebieden dergelijke doorgangen veel minder tot kantelen neigen danhet geval is bij gebruikelijke, de totale diepte van de doorgang door¬dringende Taakgebieden. Het verdere gevolg is, dat bijvoorbeeld bij eendwars op de straalrichting liggende elliptische stiftdoorsnede de groteas van de ellips meer de gewenste diameter van de doorgang kan benaderenen aldus de uitrichtnauwkeurigheid van roosterelektroden op een stiftin-richting verder wordt verhoogd.This object is achieved in that according to claim 1 for aligning grating electrodes provided with passages, the areas of the pins which contact the walls of the passages in the beam direction have a shorter length than the depth of the passages. This ensures that the pins, whose design surfaces come into contact with the walls of the passages in ideally shaped passages, do not contact the walls above the total depth of the passages. For passages not ideally formed, this means that with reduced lengths of the Task Areas such passages tend to tilt much less than is the case with conventional Task Areas penetrating the total depth of the passage. The further consequence is that, for example, with an elliptical pin cross-section lying transversely to the beam direction, the large axis of the ellipse can approach the desired diameter of the passage more, thus further increasing the alignment accuracy of grating electrodes on a pin device.

Worden volgens conclusie 2 die gebieden van de stiften, die in destraalrichting tegen de wanden van de doorgangen aanliggen, zodanig ge¬vormd, dat zij een puntvormig contact in de straalrichting ten opzichtevan de wanden hebben, dan kunnen roosterelektroden ten opzichte van el¬kaar met zeer grote nauwkeurigheid worden uitgericht. Onder een puntvor¬mig contact tussen een stift en een wand worden alle stiftuitvoeringenverstaan, waarvan de respectieve Taakgebieden bij een doorsnede in destraalrichting een cirkel- of driehoekvormige gedaante hebben.If, according to claim 2, those regions of the studs which abut the walls of the passageways in the direction of the beam are formed such that they have a point-like contact in the beam direction with respect to the walls, grid electrodes with respect to each other very high accuracy. Pointed contact between a pin and a wall means all pin versions, the respective Task areas of which have a circular or triangular shape in a cross section in the beam direction.

Een nog verder verbeterde uitrichtkwaliteit van de inrichting is dangegeven, wanneer volgens conclusie 3 de stiften zo zijn gevormd, dat bijop de stiften opgeschoven en zich daar in hun eindpositie bevindenderoosterelektrode het contact tussen stift en wand in een gebied van dedoorgangen plaats heeft, dat direkt op de kromtestraal aansluit. Ditgebeurt daarom omdat bij niet-parallel ten opzichte van de straalrichtingverlopende wanden in die wandgebieden, die nabij de kromtestraal zijnaangebracht, de verplaatsing ten opzichte van de totale diepte van zo'ndoorgang het geringste is.A still further improved alignment quality of the device is provided when according to claim 3 the pins are formed such that the pins are slid on the top of the pins and there in their end position the contact between pin and wall takes place in an area of the passages which is directly on the radius of curvature. This is therefore the case because the displacement relative to the total depth of such a passage is the smallest in the case of non-parallel walls extending in the direction of the radius in those wall regions which are arranged close to the radius of curvature.

Hebben de stiften de in conclusie 4 gegeven stiftdoorsnede dwars opde straalrichting, dan kan uitrichting van de roosterelektroden metslechts twee stiften op zeer nauwkeurige wijze worden bewerkstelligd,wanneer deze beide stiften de externe doorgangsgaten voor het uitrichtendoordringen. De hoge uitrichtnauwkeurigheid berust daarop, dat voor hetuitrichten niet hoeft te worden teruggevallen op de middelste door-tree-openingen, omdat deze, vooral wanneer deze door smalle bruggen opafstand liggen van de buitenste straalgaten, ertoe neigen om niet rond tezijn. De toepassing van stiften met driehoekige doorsnede dwars ten op¬zichte van de straalrichting is niet tot roosterelektroden beperkt, waar¬van de doortree-openingen van doorgangen zijn voorzien. Veeleer kunnenmet dergelijk gevormde stiften ook zuivere, in de vlakke roosterbodemsaangebrachte doortree-openingen met dezelfde hoge nauwkeurigheid wordenuitgericht.If the pins have the pin cross section given in claim 4 transverse to the beam direction, alignment of the grating electrodes with only two pins can be achieved in a very precise manner, when these two pins are the external through holes for the alignment penetration. The high alignment accuracy is based on the fact that alignment does not require the center door-tree openings to fall back, as they tend not to be round, especially when spaced from the outer jet holes by narrow bridges. The use of triangular cross-section pins transverse to the beam direction is not limited to grid electrodes whose passage openings are provided with passages. Rather, through such shaped pins, clean passages provided in the flat grid bottoms can be aligned with the same high precision.

De figuren tonen: fig. 1 a) een doorsnede door een inrichting voor de con¬ structie van elektronenstraalopwekkers enb) een bovenaanzicht op een inrichting voor deconstructie van elektronenstraalopwekkers;fig. 2 a) een verdere weergave volgens fig. la b) een verdere weergave volgens fig. lb enfig. 3 a) een verdere weergave volgens fig. la en b) een verdere weergave volgens fig. lb.The figures show: Fig. 1 a) a section through a device for the construction of electron beam generators and b) a top view of a device for the construction of electron beam generators; 2 a) a further representation according to fig. La b) a further representation according to fig. Lb and fig. 3 a) a further representation according to Fig. 1a and b) a further representation according to Fig. 1b.

In fig. la) is een doorsnede door een inrichting 10 voor de con¬structie van elektronenstraalopwekkers langs de lijn x-x volgens fig. lb)getoond. Deze inrichting 10 wordt in essentie gevormd door een basisplaat11, door loodrecht ten opzichte van het vlak van de basisplaat 11 uitste¬kende stiften 12 en een tweedelig afstandsstuk 13. Hoe het afstandsstuk13, dat radiaal ten opzichte van de as van de stiften 12 kan worden ge¬schoven, met de basisplaat 11 is verbonden, is vanwege de overzichtelijk¬heid niet getoond. Voor een beter begrip van de uitvinding zijn volgensfig. la) twee gemeenschappelijke roosterelektroden 14.1, 14.2 op de stif¬ten 12 geschoven. Ieder van deze beide hoedvormig gevormde roosterelek¬troden 14.1, 14.2 heeft in de roosterbodem 15 drie doortree-openingen 16met cirkelronde dwarsdoorsnede, zoals fig. lb) als doorsneeweergave langsde lijn A-A volgens fig. la) beter verduidelijkt. Ieder van deze in fig.la) zichtbare doortree-openingen 16 is van een buisvormig gevormde door¬gang 17 voorzien, die op de kromtestraal 18 in de roosterbodem 15 aan¬sluit. Beide roosterelektroden 14.1, 14.2 worden op afstand gehouden ophun naar elkaar toegekeerde roosterbodems 15 door een in de ingeschoventoestand getoond afstandsstuk 13.Fig. 1a) shows a cross section through a device 10 for the construction of electron beam generators along the line x-x of Fig. 1b). This device 10 is essentially formed by a base plate 11, by pins 12 projecting perpendicular to the plane of the base plate 11 and a two-piece spacer 13. How the spacer 13, which can be radial to the axis of the pins 12 pushed to the base plate 11 is not shown for the sake of clarity. For a better understanding of the invention, FIG. 1a) two common grid electrodes 14.1, 14.2 are slid onto the pins 12. Each of these two hat-shaped grating electrodes 14.1, 14.2 has in the grate bottom 15 three passage openings 16 with circular cross-section, as shown in Fig. 1b, as a cross-sectional view along line A-A in Fig. 1a). Each of these passage openings 16 visible in Fig. 1a is provided with a tubular shaped passage 17, which connects to the radius of curvature 18 in the grid bottom 15. Both grid electrodes 14.1, 14.2 are spaced from their facing grid bottoms 15 by a spacer 13 shown in the retracted condition.

In het in fig. la) en lb) getoonde uitvoeringsvoorbeeld komt hetaantal stiften 12 overeen met het aantal doortree-openingen 16 in debeide roosterelektroden 14.1, 14.2.In the exemplary embodiment shown in Figs. 1a and 1b), the number of pins 12 corresponds to the number of passage openings 16 in both grid electrodes 14.1, 14.2.

Dient door middel van de uit de delen 11 tot 13 gevormde inrichting10 een roosterelektrode 14.1 te worden uitgericht ten opzichte van eenverdere roosterelektrode 14.2, dan wordt allereerst de eerste rooster¬elektrode 14.1 met de doortree-openingen 16 op de stiften geschoven en inde eindpositie daarvan op de stiften 12 gebracht. Het laatste is in hetonderhavige uitvoeringsvoorbeeld daardoor gerealiseerd, dat de eersteroosterelektrode 14.1 met de potrand 19 daarvan op de basisplaat 11 ligt.Het uitrichten van deze roosterelektrode 14.1 vindt plaats door middelvan de stiften 12, die - zoals fig. lb) toont - in de straalrichting SIf a grid electrode 14.1 is to be aligned with a further grid electrode 14.2 by means of the device 10 formed from parts 11 to 13, the first grid electrode 14.1 is firstly slid onto the pins with the passage openings 16 and in the end position thereof. the pins 12 brought. The latter is realized in the present exemplary embodiment by the fact that the first grating electrode 14.1 with its pot edge 19 lies on the base plate 11. The alignment of this grating electrode 14.1 takes place by means of the pins 12, which - as shown in Fig. 1b) - in the beam direction. S

(fig. la) ten opzichte van de lichte diameter van de doortree-openingen16 grotendeels smaller zijn gevormd. Alleen in een gebied van de door¬tree-openingen 16, dat in aansluiting op de kromtestraal 18 in de buis¬vormige doorgangen 17 overgaat, hebben de stiften 12 zo'n dwarsdoorsnede,die ofwel in de x-richting ofwel in de y-richting een met de diameter vande doortree-opening 16 overeenkomende uitbreiding heeft. Volgens de weer-.gave in fig. lb) blijkt dat daaruit, dat bij in de genoemde gebieden -dwars op de straalrichting - elliptisch gevormde stiftdoorsneden de groteasdiameter van de stiften 12 voor de beide buitenste doortree-openingen16 in de y-richting verloopt en de grote asdiameter van de stift 12, diezich door de middelste doortree-opening 16 uitstrekt, in de x-richtingverloopt. Zoals duidelijk in fig. 1 valt te zien, liggen de grote ellips¬diameters, die tegelijkertijd de raakvlakken vormen, tegen de gatranden20 van de doortree-openingen 16 aan.(Fig. 1a) are substantially narrower in relation to the light diameter of the passage openings 16. Only in an area of the passage openings 16, which transitions into the tubular passages 17 in connection with the radius of curvature 18, the pins 12 have such a cross section, which is either in the x direction or in the y direction. has an extension corresponding to the diameter of the passage opening 16. According to the representation in Fig. 1b), it appears from this that in the above-mentioned areas - transverse to the beam direction - elliptically formed pin cross sections, the major axis diameter of the pins 12 for the two outer passage openings 16 extends in the y direction and the large axis diameter of the pin 12, which extends through the central passage opening 16, extends in the x direction. As can be clearly seen in Figure 1, the large ellipse diameters, which simultaneously form the interfaces, abut the hole edges 20 of the passage openings 16.

Dat de elliptische stiftdoorsneden, die in fig. lb) zijn getoond,niet boven de totale diepte van de doorgangen 17 tegen de wanden daarvanaanliggen, is in fig. la) vanwege teken-technische gronden slechts voorde middelste stift 12 getoond. In het bijzonder kan in deze weergaveworden gezien, dat de elliptische doorsnede van de middelste stift 12langs de straalrichting S slechts puntvormig tegen de wanden van de door¬gangen 17 ligt. Dit puntvormige contact van de elliptische stiftdoorsnedein de straalrichting S biedt de garantie daarvoor, dat de van de door¬gangen 17 voorziene doortree-openingen 16 onafhankelijk van de parallel¬liteit van de wanden van de doorgangen 17 ten opzichte van de straalrich¬ting S probleemloos op de stiften 12 kunnen worden opgeschoven en daarbijtegelijkertijd met hoge nauwkeurigheid ten opzichte van de stiftassenkunnen worden uitgericht. Dit laatste geldt des te meer naarmate hetpuntvormige contact tussen de respectieve stift en de wand van de door¬gang 17 dichter bij de kromtestraal 18 ligt.The fact that the elliptical pin cross-sections shown in Fig. 1b) do not abut the total depth of the passages 17 against the walls thereof is shown in Fig. 1a) only for the middle pin 12 for technical reasons. In particular, it can be seen in this representation that the elliptical cross section of the center pin 12 along the beam direction S lies only pointedly against the walls of the passages 17. This point-shaped contact of the elliptical pin cross-section in the beam direction S guarantees that the passage openings 16 provided with the passages 17 are problem-free, irrespective of the parallelism of the walls of the passages 17 with respect to the beam direction S. the pins 12 can be slid on and at the same time can be aligned with high accuracy relative to the pin shafts. The latter applies all the more as the point-shaped contact between the respective pin and the wall of the passage 17 is closer to the radius of curvature 18.

1 is de eerste roosterelektrode 1*1.1 op de stiften 12 geschoven en uitgericht, dan wordt het tweedelige afstandsstuk 13 naar binnen gescho¬ven. Dan wordt de verdere roosterelektrode 14.2 op de stiften 12 opgesto¬ken. Bereikt deze roosterelektrode 14.2 de eindpositie daarvan op destiftinrichting, dan wordt deze elektrode 14.2 door de reeds in samenhangί met de roosterelektrode 14.1 beschreven stiftvorm ten opzichte van deroosterelektrode 14.1 uitgericht.1, the first grating electrode 1 * 1.1 is slid onto the pins 12 and aligned, then the two-piece spacer 13 is slid in. Then the further grid electrode 14.2 is plugged onto the pins 12. When this grating electrode 14.2 reaches its end position on the pin device, this electrode 14.2 is aligned with respect to the grating electrode 14.1 by the pin shape already described in connection with the grating electrode 14.1.

In een verder - niet weergegeven - uitvoeringsvoorbeeld kunnen,nadat de tweede roosterelektrode 14.2 op de stiftinrichting is opgescho¬ven en uitgericht. verdere roosterelektroden worden ODgeschoven en uitere- richt.In a further embodiment (not shown), after the second grid electrode 14.2 has been pushed onto the pin arrangement and aligned. further grid electrodes are shifted OD and aligned.

Zijn alle roosterelektroden (hier alleen de roosterelektroden 14.1en 14.2) op de stiftinrichting uitgericht, dan worden zij door middel vande bekende glasverbindingstechniek verbonden en kunnen zij dan van deinrichting 10 naar boven worden afgetrokken, nadat de afstandsstukken 13zijn verwijderd.If all the grid electrodes (here only the grid electrodes 14.1 and 14.2) are aligned on the pin arrangement, they are connected by means of known glass joining technology and can then be pulled off from the arrangement 10 after the spacers 13 have been removed.

In fig. 2a) en 2b) is een verder uitvoeringsvoorbeeld van een in¬richting voor de constructie van elektronenstraalopwekkers getoond. Ookdeze weergave toont in fig. 2a) een doorsnede langs de lijn x-x volgensfig. 2b). Fig. 2b) toont een bovenaanzicht op het snijvlak A-A volgensfig. 2a). Ook zijn in fig. 2a) twee van doorgangen 17 voorziene rooster¬elektroden 14.1, 14.2 op een, uit een basisplaat 11, een stiftinrichting12 en een afstandsstuk 13 gevormde inrichting 10 uitgericht aangebracht.Figures 2a) and 2b) show a further embodiment of a device for the construction of electron beam generators. This representation also shows in section 2a) a section along the line x-x according to figure. 2b). Fig. 2b) shows a top view of the cutting plane A-A according to fig. 2a). In Fig. 2a) two grating electrodes 14.1, 14.2 provided with passages 17 are also arranged in alignment on a device 10 formed from a base plate 11, a pin device 12 and a spacer 13.

In onderscheid tot de vorm volgens fig. la) en fig. lb) zijn volgensde uitvoeringsvorm volgens fig. 2 alleen de beide buitenste doorgangsope-ningen 16 telkens door een stift 12 doordrongen. Zoals reeds in samenhangmet de fig. la) en lb) is toegelicht, zijn ook de stiften 12, die deexterne doortree-openingen 16 doordringen, ten opzichte van de lichtediameter van de doortree-openingen 16 grotendeels slanker gevormd (fig.2a).In contrast to the shape of Fig. 1a) and Fig. 1b), according to the embodiment of Fig. 2, only the two outer passage openings 16 are each penetrated by a pin 12. As has already been explained in connection with Figs. 1a and 1b), the pins 12, which penetrate the external passage openings 16, are also more slender compared to the light diameter of the passage openings 16 (Fig. 2a).

Opdat bij deze inrichting 10 door de beide stiften 12 uitrichtingvan de beide roosterelektroden 14.1, 14.2 in een vlak dwars op de straal-richting S wordt bereikt, hebben de stiften 12 in dit uitvoeringsvoor¬beeld een ongeveer driehoekige doorsnedevorm dwars op de straalrichting S(fig. 2b). Daarbij staan telkens twee hoeken van de driehoekvormige door¬snede van ieder van de beide stiften 12 met de gatranden 20 in contact,op het punt waar de door het middelpunt van de respectieve doortree-ope-ning 16 verlopende as Y de gatranden 20 snijdt. Het uitrichten van deroosterelektroden 14.1, 14.2 in de x-richting vindt plaats via de derdehoek van de driehoekige doorsnede van iedere stift 12, doordat deze hoekmet een snijpunt van een door het middelpunt van het respectieve door-treegat 16 verlopende en ten opzichte van de as Y een hoek van 90* in¬sluitende as x in contact staat. Zoals fig. 2b) verder toont, zijn dederde hoeken van de in dit gebied driehoekvormige stiftdoorsnede van hetmiddelste gat 16 afgekeerd, dat wil zeggen de derde hoeken wijzen inverschillende richtingen langs de as x.In order for this device 10 to achieve alignment of the two grid electrodes 14.1, 14.2 in a plane transverse to the beam direction S by the two pins 12, the pins 12 in this exemplary embodiment have an approximately triangular cross-sectional shape transverse to the beam direction S (fig. 2b). In this case, two corners of the triangular cross section of each of the two pins 12 are in contact with the hole edges 20 at the point where the axis Y extending through the center of the respective opening opening 16 intersects the hole edges 20. The alignment of the grid electrodes 14.1, 14.2 in the x direction takes place via the third corner of the triangular cross-section of each pin 12, in that it is at an intersection of a point extending through the center of the respective through hole 16 and with respect to the axis Y is in contact with an angle of 90 * enclosing axis x. As Fig. 2b) further shows, the third angles of the triangular cross-section in this region are turned away from the center hole 16, i.e. the third angles point in different directions along the axis x.

De gebieden van de stiften 12, die volgens de weergave in fig. 2b)met de gatranden 20 in contact staan, staan echter ook in dit uitvoe¬ringsvoorbeeld niet boven de totale diepte van de doorgang 17 met de wand daarvan in contact. Veeleer is ook hier de respectieve stiftdoorsnede zogevormd, dat in de straalrichting S alleen een puntvormig contact tussenieder van de driehoeken van de driehoekvormige stiftdoorsnede en de wan¬den van de doorgangen 17 tot stand komt (fig. 2a). Op het puntvormigecontact van de stiftdoorsnede in de straalrichting S werd reeds verderhierboven ingegaan en dat hoeft daarom hier geen verdere toelichting.However, the regions of the pins 12, which, according to the representation in Fig. 2b), are in contact with the hole edges 20, do not contact the wall thereof even above the total depth of the passage 17 in this embodiment. Rather, here too the respective pin cross-section is formed so that in the beam direction S only a point-shaped contact is established between each of the triangles of the triangular pin cross-section and the walls of the passages 17 (Fig. 2a). The point-shaped contact of the pin cross-section in the beam direction S has already been discussed further above and therefore no further explanation is required here.

Worden volgens de uitvoeringsvorm volgens fig. 2a) en fig. 2b)slechts twee stiften 12 voor het uitrichten toegepast, dan heeft dit tenopzichte van de uitvoeringsvorm volgens de fig. la) en lb) naast hetvoordeel van de kostenreductie voor het vervaardigen van de stift ook hetvoordeel, dat - bijvoorbeeld bij een driestralige roosterelektrode - voorhet uitrichten niet op alle, maar slechts op die doortree-openingen 16hoeft te worden teruggegrepen, die reeds bij de vervaardiging met hogenauwkeurigheid kunnen worden vervaardigd. Het laatste biedt de garantiedaarvoor, dat bij het uitrichten van de verschillende roosterelektroden14.1, lk.2 onder toepassing van slechts twee stiften 12 de uitrichtnauw-keurigheid van roosterelektroden verder kan worden vergroot.If, according to the embodiment according to Fig. 2a) and Fig. 2b), only two pins 12 are used for alignment, this has to do with the advantage of the cost reduction for manufacturing the pin, in comparison with the embodiment according to Figs. 1a) and 1b). also the advantage that - for example in the case of a three-ray grid electrode - it is not necessary to resort to all of the passage openings 16 for alignment, which can already be manufactured with high precision during manufacture. The latter guarantees that when aligning the various grid electrodes 14.1, lk.2 using only two pins 12, the alignment accuracy of grid electrodes can be further increased.

In dit verband dient erop te worden gewezen, dat de dwars op destraalrichting S gegeven, driehoekige doorsnedevorm van de stiften (12) I niet tot roosterelektroden is beperkt, die van doorgangen 17 zijn voor¬zien. Veeleer kan de driehoekige stiftdoorsnede ook voor het uitrichtenvan zuivere gaten in de roosterbodem 15 worden toegepast.In this connection, it should be noted that the triangular cross-sectional shape of the pins (12) I given transversely to the jet direction S is not limited to grid electrodes which have passages 17. Rather, the triangular pin cross-section can also be used for aligning clean holes in the grid bottom 15.

De weergaven volgens de fig. 3a) en 3b) onderscheiden zich van deweergaven van de fig. 2a) en 2b) slechts daardoor dat de derde hoek vani de driehoekige stiftdoorsnede in de richting van het middelste doortree-gat 16 wijst (fig. 3b).The representations of FIGS. 3a) and 3b) differ from the representations of FIGS. 2a) and 2b) only in that the third corner of the triangular pin section points toward the center through hole 16 (FIG. 3b) .

Claims (4)

1. Inrichting voor de constructie van elektronenstraalopwekkersvan kathodestraalbuizen met diverse stralen, die voor het opnemen van deroosterelektroden van de elektronenstraalopwekker gecentreerde stiftenhebben, die radiaal ten opzichte van de straalrichting met de randen vande in de roosterelektroden aanwezige gaten of doorgangen ten minste ge¬deeltelijk in contact staan, met het kenmerk, dat voor het uitrichtenvan, van doorgangen (17) voorziene roosterelektroden (14.1, 1*1.2) degebieden van de stiften (12), die in de straalrichting (S) met de wandenvan de doorgangen (17) in contact staan, een geringere lengte hebben dande diepte van de doorgangen (17).1. Device for the construction of electron beam generators of cathode-ray tubes with various beams, which have center pins for receiving the grid electrodes of the electron beam generator, which contact at least partially in radial direction with the edges of the holes or passages present in the grid electrodes characterized in that for aligning grating electrodes (14.1, 1 * 1.2) provided with passages (17), the regions of the pins (12) which contact the walls of the passages (17) in the beam direction (S) have a shorter length than the depth of the passages (17). 2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de stif¬ten (12) in de straalrichting (S) puntvormig contact met de wanden van dedoorgangen (17) hebben.Device according to claim 1, characterized in that the tips (12) have point-shaped contact with the walls of the passages (17) in the beam direction (S). 3· Inrichting volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat degebieden van de stiften (12) die in de straalrichting (S) met de wandenvan de doorgangen (17) in contact staan, bij de eindpositie van de res¬pectieve roosterelektrode (14.1; 14.2) op de stiften (12) met die posi¬ties van de wanden van de doorgangen (17) in contact staan, die direkt opde straal (18) aansluiten.Device according to claim 1 or 2, characterized in that the areas of the pins (12) which contact the walls of the passages (17) in the beam direction (S) at the end position of the respective grid electrode ( 14.1; 14.2) on the pins (12) are in contact with those positions of the walls of the passages (17), which connect directly to the beam (18). 4. Inrichting volgens één van de conclusies 1 tot en met 3» methet kenmerk. dat voor het opnemen en uitrichten van roosterelektroden(14.1; 1*1.2) twee stiften (12) aanwezig zijn, die bij opgeschoven roos¬terelektroden (14.1; 14.2) de telkens buitenste doortree-openingen (16)van de roosterelektroden (14.1; 14.2) doordringen, dat de doorsnede van de respectieve stift (12) dwars op de straal¬richting (S) in essentie driehoekvormig is gevormd, dat de doorsneden van de stiften (12) zo zijn uitgericht, dat bij 1 opgeschoven roosterelektroden (14.1; 14.2) telkens twee hoeken van de driehoekvormige doorsnede met die gebieden van de gatomvang (20) in con¬tact staan, waar een door het middelpunt van de respectieve opening (16)aanwezige as (Y) de gatranden (20) daarvan snijdt, dat de derde hoek van de driehoekvormige doorsnede met één van de» beide gebieden van de gatrand (20) in contact staat, waarin een door het middelpunt van de respectieve opening (16) aanwezige en ten opzichte van de as (Y) een hoek van 90e insluitende as (x) de rand (20) van de respec¬tieve opening (16) snijdt en dat de derde hoeken van beide stiften (12) in tegenovergestelde richtingen langs de as (x) wijzen.4. Device as claimed in any of the claims 1 to 3 »with the characteristic. that for accommodating and aligning grating electrodes (14.1; 1 * 1.2) there are two pins (12) which, when the grating electrodes (14.1; 14.2) are pushed on, are the outermost openings (16) of the grating electrodes (14.1; 14.2) ) penetrate, that the cross-section of the respective pin (12) is essentially triangular in shape transverse to the jet direction (S), so that the cross-sections of the pins (12) are aligned in such a way that with 1 slatted electrodes (14.1; 14.2) ) two corners of the triangular cross-section are in contact with those regions of the hole catch (20), where an axis (Y) present through the center of the respective opening (16) intersects the hole edges (20) thereof, so that the third corner of the triangular cross section is in contact with one of the two regions of the hole edge (20), in which an angle of 90th which is present through the center of the respective opening (16) and enclosing an angle to the axis (Y) axis (x) the edge (20) of the resp intersective opening (16) and that the third corners of both pins (12) point in opposite directions along the axis (x).
NL9401872A 1993-11-24 1994-11-09 Device for the structural joining of electron beam generators of cathode ray tubes. NL194452C (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4339950A DE4339950C2 (en) 1993-11-24 1993-11-24 Device for assembling electron guns
DE4339950 1993-11-24

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL9401872A true NL9401872A (en) 1995-06-16
NL194452B NL194452B (en) 2001-12-03
NL194452C NL194452C (en) 2002-04-04

Family

ID=6503266

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9401872A NL194452C (en) 1993-11-24 1994-11-09 Device for the structural joining of electron beam generators of cathode ray tubes.

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE4339950C2 (en)
IT (1) IT1267491B1 (en)
NL (1) NL194452C (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4424596A1 (en) 1994-07-13 1996-01-18 Nokia Deutschland Gmbh Marking for electron gun system
DE4424877B4 (en) * 1994-07-14 2005-03-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma Device for twist-free assembly of electron beam systems

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5215260A (en) * 1975-07-26 1977-02-04 Toshiba Corp Method of assembling electron gun for color picture tube and assembly jigs used
EP0158388A1 (en) * 1984-03-23 1985-10-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Device for and method of assembling an integrated electron gun system
EP0167780A2 (en) * 1984-06-08 1986-01-15 Alcatel SEL Aktiengesellschaft Device for assembling electron guns
US4605880A (en) * 1984-08-22 1986-08-12 Rca Corporation Multibeam electron gun having a cathode-grid subassembly and method of assembling same
US4607187A (en) * 1984-08-22 1986-08-19 Rca Corporation Structure for and method of aligning beam-defining apertures by means of alignment apertures
DE4424877A1 (en) * 1994-07-14 1996-01-18 Nokia Deutschland Gmbh Electron beam emitter system assembly apparatus

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8102527A (en) * 1981-05-22 1982-12-16 Philips Nv COLOR IMAGE TUBE.

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5215260A (en) * 1975-07-26 1977-02-04 Toshiba Corp Method of assembling electron gun for color picture tube and assembly jigs used
EP0158388A1 (en) * 1984-03-23 1985-10-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Device for and method of assembling an integrated electron gun system
EP0167780A2 (en) * 1984-06-08 1986-01-15 Alcatel SEL Aktiengesellschaft Device for assembling electron guns
US4605880A (en) * 1984-08-22 1986-08-12 Rca Corporation Multibeam electron gun having a cathode-grid subassembly and method of assembling same
US4607187A (en) * 1984-08-22 1986-08-19 Rca Corporation Structure for and method of aligning beam-defining apertures by means of alignment apertures
DE4424877A1 (en) * 1994-07-14 1996-01-18 Nokia Deutschland Gmbh Electron beam emitter system assembly apparatus

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 001, no. 077 (E - 031) 22 July 1977 (1977-07-22) *

Also Published As

Publication number Publication date
IT1267491B1 (en) 1997-02-05
DE4339950A1 (en) 1995-06-01
NL194452B (en) 2001-12-03
ITTO940886A0 (en) 1994-11-09
NL194452C (en) 2002-04-04
DE4339950C2 (en) 1996-12-12
ITTO940886A1 (en) 1996-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6151168A (en) Optical array for symmetrization of laser diode beams
EP1081819A2 (en) Optical system for use with a diode laser system and diode laser system comprising such an optical system
DE3614700A1 (en) CATHODE RAY TUBE
DE10197205T5 (en) Optical coupling system
EP0788673A1 (en) Arrangement for guiding and shaping beams from a rectilinear laser diode array
DE2850411A1 (en) CATHODE RAY TUBE
DE3225631A1 (en) COLOR IMAGE TUBES WITH AN INLINE ELECTRON BEAM SYSTEM WITH IMPROVED EXTENDED FOCUSING LENS
CH697142A5 (en) Fiber lens array and lens array for such a fiber-lens arrangement.
NL9401872A (en) Device for the construction of electron beam generators.
EP2309309B1 (en) Device for shaping laser radiation
DE10317958B4 (en) Device for generating and projecting light marks
KR20040032928A (en) Arrangement and device for optical beam homogenization
EP3694388B1 (en) Optical system for a stereo-video endoscope
EP3084497B1 (en) Device for shaping laser radiation
DE102016001543A1 (en) Retro-reflectors
EP3931986A1 (en) Optical transceiver unit and device for signal transmission
EP2972548B1 (en) Lightening device for laser diode bars
EP3385608B1 (en) Illumination device for vehicles
DE3711242A1 (en) COLOR CATHODE JET PIPES
DE102018122487A1 (en) A light-conducting optical system, in particular for a lighting device of a vehicle
DE3542548C2 (en)
NL8400927A (en) DEVICE AND METHOD FOR MOUNTING AN INTEGRATED ELECTRON CANNON SYSTEM.
DE19820154A1 (en) Arrangement for transforming optical beams
DE102008008206A1 (en) Micromechanical actuator has swivel plate and mounting plate, in which swivel plate is held in tilted manner around axis, where surface electrode is arranged on electrode carrier surface
EP1011178A1 (en) Laser power amplifier and method of making and using the same

Legal Events

Date Code Title Description
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: MATSUSHITA ELECTRONICS CORPORATION

SNR Assignments of patents or rights arising from examined patent applications

Owner name: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20080601