NL8203266A - COMPOSITION AND METHOD FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF ZINC NICKEL ALLOYS. - Google Patents

COMPOSITION AND METHOD FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF ZINC NICKEL ALLOYS. Download PDF

Info

Publication number
NL8203266A
NL8203266A NL8203266A NL8203266A NL8203266A NL 8203266 A NL8203266 A NL 8203266A NL 8203266 A NL8203266 A NL 8203266A NL 8203266 A NL8203266 A NL 8203266A NL 8203266 A NL8203266 A NL 8203266A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
zinc
nickel
present
amount
bath
Prior art date
Application number
NL8203266A
Other languages
Dutch (nl)
Other versions
NL184070C (en
NL184070B (en
Original Assignee
Ebara Udylite Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Udylite Kk filed Critical Ebara Udylite Kk
Publication of NL8203266A publication Critical patent/NL8203266A/en
Publication of NL184070B publication Critical patent/NL184070B/en
Application granted granted Critical
Publication of NL184070C publication Critical patent/NL184070C/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys

Description

» i » I VO 3662»I» I VO 3662

Samenstelling en werkwijze voor het elektrolytisch afzetten van zink-nikkellegeringen.Composition and method for the electrolytic deposition of zinc-nickel alloys.

De uitvinding heeft betrekking op de elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen en meer in het bij zonder op samen-stellingen en werkwijzen voor het langs elektrolytische weg maken van glanzende, uniforme afzettingen van zink-nikkellegeringen met een verbe-5 terde corrosievastheid.The present invention relates to the electrolytic deposition of zinc-nickel alloys and more particularly to compositions and methods for electrolytically making shiny, uniform deposits of zinc-nickel alloys with improved corrosion resistance.

Het is reeds lang ingezien, dat elektrolytische afzettingen van zink-nikkellegeringen een uitstekende corrosievastheid geven aan de substraten zoa.ls staal waarop ze worden aangebracht. In vele ge-vallen is de corrosievastheid van elektrolytische afzettingen van zink-10 nikkellegeringen superieur aan die, weIke verkregen wordt met een elektrolytische afzetting van nikkel- of zink. Derhalve is in aanzienlijke mate getracht om deze superieure corrosievastheid te benutten.It has long been recognized that electrolytic deposits of zinc nickel alloys impart excellent corrosion resistance to the substrates such as steel to which they are applied. In many instances, the corrosion resistance of zinc-nickel alloy electrolytic deposits is superior to that obtained with an electrolytic deposit of nickel or zinc. Therefore, considerable efforts have been made to utilize this superior corrosion resistance.

In het algemeen is gebleken dat het uiterst lastig is om een uniforme, glanzende elektrolytische afzetting van zink-nikkel-15 legeringen te verkrijgen. De met werkwijzen volgens de stand der techniek verkregen elektrolytische· afzettingen zijn typerend mat en hebben een grijze tot zwarte kleur. De toevoeging aan deze elektroplateringsbaden van een of meerdere glansgevende middelen waarvan de werkzaamheid in het plateren van nikkel of het plateren van zink bekend was, heeft niet 20 geleid tot een glanzende, uniforme elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen. Daarom zijn elektrolytische afzettingen van derge-lijke legeringen slechts op grote schaal gebruikt in continue plate- -. ringsprocessen, in het bijzonder voor staalstroken of draden en der-gelijke, waarin geen hoge mate van glans en uniformiteit in de elektro-25 lytische afzetting wordt vereist.In general, it has been found to be extremely difficult to obtain a uniform, glossy electrolytic deposit of zinc-nickel-15 alloys. The electrolytic deposits obtained by prior art processes are typically matte and have a gray to black color. The addition to these electroplating baths of one or more brighteners known to be effective in nickel plating or zinc plating has not resulted in a shiny, uniform electrolytic deposition of zinc nickel alloys. Therefore, electrolytic deposits of such alloys have only been widely used in continuous sheet metal. ringing processes, especially for steel strips or wires and the like, in which no high degree of gloss and uniformity in electrolytic deposition is required.

Typerende bekende werkwijzen voor het plateren van stroken met zink-nikkellegeringen worden beschreven in de Amerikaanse octrooischriften 4.282.073? 4.313.802? 3.558.442; 3.42Q.754; 2.419.231? het Britse octrooischrift 548.184 en de. Japanse octrooipublicatie 30 28533/1976. Behaive dat deze werkwijzen niet in staat zijn om te leiden tot een glanzende, uniforme elektrolytische afzetting van een legering, worden ze typerend bedreven bij een betrekkelijk zure pH, d.w.z. een pH in het gebied van ongeveer 1-4. Dergelijke zure elektroplateringsbaden zi-jn niet alleen veel corrosiever voor de apparatuur en de omgeving, 8TffTT6T' ------------------------------- * * i 2 ‘ maar zijn ook lastiger te hanteren. Dit is te wijten aan de natuurlijke neiging van de pH om in het elektroplateringsbad tijdens het elektrolyse-proces te sti.jgen. Dit maakt de continue toevoeging van zuur aan het elektroplateringsbad nodig. teneinde de pH te regelen en te houden bin-5 nen het gewenste bedrijfsgebied van de pH.Typical known methods of plating strips with zinc-nickel alloys are described in U.S. Pat. Nos. 4,282,073. 4,313,802? 3,558,442; 3.42Q.754; 2,419,231? British Patent 548,184 and. Japanese Patent Publication 30 28533/1976. Since these methods are incapable of leading to a shiny, uniform electrolytic deposition of an alloy, they are typically operated at a relatively acidic pH, i.e., a pH in the range of about 1-4. Such acidic electroplating baths are not only much more corrosive to the equipment and the environment, 8TffTT6T '------------------------------- * * i 2 'but are also more difficult to handle. This is due to the natural tendency of the pH to rise in the electroplating bath during the electrolysis process. This necessitates the continuous addition of acid to the electroplating bath. to control and maintain the pH within the desired operating range of the pH.

Bovendien wordt in de bekende werkwijzen voor het plate-ren van stroken met zink-nikkellegeringen typerend gebruik gemaakt van een sulfaat of gemengde sulfaat-chloridematrix of in het geval van de werkwijze volgens de genoemde Japanse octrooipublicatie, een cyanide- · 10 matrix. De in laatstgenoemde publicatie beschreven elektroplaterings-baden zijn niet alleen toxisch, maar scheppen significante ecologische problemen. en vereisen een kostbare apparatuur voor het behandelen van het afval. De elektroplateringsbaden die gebruik maken van een sulfaatr-• houdende matrix, vertonen lage stroomrendementen als gevolg van het slech-15 te geleidingsvermogen van de sulfaationen, waardoor meer energie voor de plateringsbewerking vereist is. Hoewel dit wellicht geen ernstig probleem is in de desbetreffende continue plateringswerkwijzen als gevolg van de betrekkeiijk eenvoudige vorm, d.w.z. strook of draad, van het ' geplateerde substraat, wordt het zeer significant wanneer gewenst is dat a * 20 een glanzende uniforme afzetting op een meer complex gevormd substraat wordt geproduceerd.In addition, the prior art methods of plating strips with zinc-nickel alloys typically use a sulfate or mixed sulfate chloride matrix or, in the case of the process of said Japanese patent publication, a cyanide matrix. The electroplating baths described in the latter publication are not only toxic, but create significant ecological problems. and require expensive equipment for treating the waste. The electroplating baths using a sulfate-containing matrix exhibit low current efficiencies due to the poor conductivity of the sulfate ions, requiring more energy for the plating operation. While this may not be a serious problem in the respective continuous plating processes due to the relatively simple shape, ie strip or wire, of the plated substrate, it becomes very significant when a * 20 is desired to have a glossy uniform deposit on a more complex formed substrate is produced.

Een poging om deze moeilijkheden te overwinnen wordt . . beschreven in het Amerikaanse octrooischrift 4.285.802. Zoals in deze publicatie vermeld, wordt een glanzende elektrolytische afzetting van een 25 zink-nikkellegering die tot ongeveer 5% nikkel bevat geproduceerd uit een chloridematrix-elektroplateringsbad tot ongeveer 10 tot 100 g per liter aan zink en ongeveer 0,01 tot 10 g per liter aan nikkel bevat. Als glansgevende additieven bevatten de elektroplateringsbaden van genoemde publicatie een niet-rionogeen polyoxyalkyleerd oppervlakteactief middel 30 en. een aromatisch aldehyde. Hoewel in genoemde publicatie een werkbaar pH-gebied van ongeveer 3,0 tot 6,9 wordt vermeld, is in de feitelijke praktijk gebleken dat in deze werkwijze geen volledig glanzende afzet-tingen van zink-nikkellegeringen worden verkregen wanneer de pH boven ongeveer 4,5 ligt. Bovendien geeft het maximum nikkelgehalte van de af-3S zetting van de legering van. 5% niet de gewenste mate van corrosiebescher-ming aan het substraat. De werkwijze volgens dit Amerikaanse octrooischrift 8203266 ♦ i 3 verschaft derhalve op zijn best slechts een gedeeltelijke oplossing van de problemen van de standaardtechniek.An attempt to overcome these difficulties becomes. . described in U.S. Patent 4,285,802. As noted in this publication, a zinc-nickel alloy shiny electrolytic deposit containing up to about 5% nickel is produced from a chloride matrix electroplating bath to about 10 to 100 g per liter of zinc and about 0.01 to 10 g per liter of nickel. As brighteners, the electroplating baths of said publication contain a non-rionic polyoxyalkylated surfactant and. an aromatic aldehyde. Although a workable pH range of about 3.0 to 6.9 is disclosed in said publication, actual practice has shown that in this process no completely shiny deposits of zinc-nickel alloys are obtained when the pH is above about 4, 5. In addition, the maximum nickel content of the af-3S setting of the alloy of. 5% not the desired degree of corrosion protection to the substrate. The method of this U.S. Pat. No. 8,203,266-3, therefore, provides at best only a partial solution to the problems of the standard art.

;. Doel van de onderhavige uitvinding is derhalve om een verbeterd elektroplateringsbad en verbeterde werkwijze voor de elek-5 trolytische afzetting van glanzende uniforms afzettingen van zink-nikkellegeringen te verschaffen.;. The object of the present invention is therefore to provide an improved electroplating bath and an improved method for the electrolytic deposition of shiny uniform deposits of zinc-nickel alloys.

Een ander doel van de onderhavige uitvinding is om een verbeterd elektroplateringsbad en een verbeterde werkwijze te verschaffen waarmede een glanzende uniforme elektrolytische afzetting van zink-10 nikkellegeringen met een verbeterde corrosievastheid zal worden verkregen,Another object of the present invention is to provide an improved electroplating bath and an improved process which will provide a glossy uniform electrolytic deposition of zinc-nickel alloys with improved corrosion resistance,

Een ander doel van de onderhavige uitvinding is om een verbeterd bad en een verbeterde werkwijze te verschaffen, die bij een minder zure pH werken dan in de standaardtechniek mogelijk was onder 15 vorming van een glanzende. uniforme elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen met een uitstekende corrosievastheid.Another object of the present invention is to provide an improved bath and process which operate at a less acidic pH than was possible in the standard art to form a gloss. uniform electrolytic deposition of zinc-nickel alloys with excellent corrosion resistance.

Deze en andere doeleinden zullen aan de deskundige dui- delijk worden uit de onderstaande beschrijving van de uitvinding.These and other objects will become apparent to those skilled in the art from the description of the invention below.

In de tekening toont figuur 1 een grafiek met daarin de 20 resultaten van metingen van de filmdikteverdeling voor elektrolytische afzettingen die met de onderhavige uitvinding zijn verieregen, en die welke met de standaardtechniek zijn verkregen.In the drawing, Figure 1 shows a graph containing the results of measurements of the film thickness distribution for electrolytic deposits obtained with the present invention, and those obtained with the standard technique.

Volgens de onderhavige uitvinding wordt een waterig elektroplateringsbad verschaft met een pH van ongeveer 4,7 tot 8,0, 25 we Ik bad ten minste 10 g/1 zink, 15 g/1 nikkel,. ten minste 2Q g/1 ammoni-umionen bevat, een gewichtsverhouding nikkel/zink van ten minste 0,5 heeft en een glansgevende/korrelverfijnende hoeveelheid van een niet-ionogeen polyoxyalkyleerd oppervlakteactief middel bevat. Elektrolyse van dit elektroplateringsbad leidt tot een uniforme fijnkorrelige 30 elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen welke een ten minste halfglanzend uiterlijk heeft en ten minste 5 gew.% nikkel bevat. De al-dus verkregen elektrolytische afzetting van nikkellegeringen verschaft een uitstekende corrosievastheid aan het substraat zoals staal waarop hij· geplateerd is.According to the present invention, there is provided an aqueous electroplating bath with a pH of about 4.7 to 8.0, 25 wt I bath at least 10 g / l zinc, 15 g / l nickel. contains at least 200 g / l ammonium ions, has a nickel / zinc weight ratio of at least 0.5 and contains a gloss / grain refining amount of a nonionic polyoxyalkylated surfactant. Electrolysis of this electroplating bath results in a uniform fine-grained electrolytic deposition of zinc-nickel alloys which has at least a semi-gloss appearance and contains at least 5% nickel by weight. The electrolytic deposition of nickel alloys thus obtained provides excellent corrosion resistance to the substrate such as steel on which it is plated.

35 In een- voorkeursuitvoeringsvorm kan het elektroplate ringsbad volgens de onderhavige uitvinding ook een aromatisch aldehyde “820T5T6 .....In a preferred embodiment, the electroplating bath of the present invention may also contain an aromatic aldehyde "820T5T6 .....

4 i * of aromatisch keton als secundair glansgevend middel bevatten teneinde een voile spiegelglanzende afzetting te produceren. In plaats van of naast het secundaire glansgevende middel kan het bad een lager alkyl-carbonzuur of zout daarvan als hulpglansmiddel voor lage stroomdichtheids-5 gebieden bevatten.4 * or aromatic ketone as a secondary brightener to produce a full mirror-like deposit. Instead of or in addition to the secondary brightener, the bath may contain a lower alkyl carboxylic acid or salt thereof as an auxiliary brightener for low current density regions.

Meer specifiek zal het elektroplateringsbad volgens de uitvinding voor zink-nikkellegeringen tenminste 10 g per liter aan zink tot aan de maximale oplosbaarheid van zink in het bad bevatten,. waarbij een hoeveelheid zink van ongeveer 10 tot ongeveer 90 g per liter de 10 voorkeur heeft. Het nikkelgehalte van het elektroplateringsbad zal tenminste 15 g per’liter tot aan de maximale oplosbaarheid van nikkel in het bad bedragen, waarbij een hoeveelheid nikkel van ongeveer 15 tot ongeveer 60 g per liter de voorkeur heeft. De gewichtsverhouding nikkel/zink in het bad: zal tenminste ongeveer 0,5 en bij voorkeur ongeveer 0,5 tot 15 ongeveer 10 bedragen.More specifically, the electroplating bath of the invention for zinc-nickel alloys will contain at least 10 g per liter of zinc up to the maximum solubility of zinc in the bath. with an amount of zinc from about 10 to about 90 g per liter being preferred. The nickel content of the electroplating bath will be at least 15 g per liter up to the maximum solubility of nickel in the bath, with an amount of nickel from about 15 to about 60 g per liter being preferred. The nickel / zinc weight ratio in the bath: will be at least about 0.5 and preferably about 0.5 to about 10.

Het zink en het nikkel worden typerend in het bad ge-! introduceerd, ten minste wanneer het bad in het begin wordt samenge-steld, in de vorm van de respectievelijke chloriden. Hoewel alle in het bad oplosbare chloriden van zink en nikkel kunnen worden gebruikt, 20' wordt het zink typerend toegevoegd als zinkchloride (ZnCl^) en het nikkel als nikkelchloride-hexahydraat (ΝΐΟΐ^.δΗ^Ο). Tijdens het bedrijf van het elektroplateringsproces zal de gewenste hoeveelheid zink en nik- i kel vaak in het bad worden gehandhaafd door gebruik te maken van anoden van zink en nikkelmetaal of anoden van zink-nikkellegeringen, die in 25 het bad tijdens de elektrolyse oplossen. Wanneer echter de door het oplossen van de anode in het bad geleverde hoeveelheid zink en nikkel niet voldoende is am de gewenste zink-en nikkelgehaltes te handhaven, kunnen deze gehaltes worden gehandhaafd door de aanvullende toevoeging aan het bad van de respectievelijke zink- en nikkelchloriden.The zinc and nickel are typically used in the bath! at least when the bath is initially formulated, in the form of the respective chlorides. Although all bath-soluble chlorides of zinc and nickel can be used, 20 'the zinc is typically added as zinc chloride (ZnCl 3) and the nickel as nickel chloride hexahydrate (ΝΐΟΐ ^ .δΗ ^ Ο). During the operation of the electroplating process, the desired amount of zinc and nickel will often be maintained in the bath using zinc and nickel metal anodes or zinc nickel alloy anodes which dissolve in the bath during electrolysis. However, if the amount of zinc and nickel supplied by dissolving the anode in the bath is not sufficient to maintain the desired zinc and nickel contents, these levels can be maintained by the additional addition of the respective zinc and nickel chlorides to the bath.

30 De elektroplateringsbaden volgens de onderhavige uitvinding zullen tevens ten minste ongeveer 20 g per liter aan ammo— niumionen tot aan de maximale oplosbaarheid. van de ammoniumionen in het bad bevatten, waarbij hoeveelheden in het gebied van ongeveer 20 tot ongeveer 120 g per liter de voorkeur hebben. Zoals bij zink en nikkel, 35 worden de ammoniumionen aan het bad toegevoegd als het in het bad oplosbare chloride, bij voorkeur ammoniumchloride (NH^Cl). Hoewel gebleken is dat het nodig is om een ammoniumionengehalte in. het bad van ten min- 82 03Τ6Ί ~ ; 5 ste ongeveer 20 g per liter te handhaven, is getleken dat de maximale ' hoeveelheid ammoniumionen niet kritisch is, mits de hoeveelheid ammo- niumionen in het elektroplateringsbad voldoende is om de zink- en nikkel-ionen in oplossing te: houden- In het algemeen is gevonden dat wanneer de 5 minimale hoeveelheden zinkr nikkel- en ammoniumionen van 10, 15 respec-tievelijk 20 g per liter niet worden aangehouden.en/of wanneer de gewichts-verhouding van nikkel/zink niet ten minste ongeveer 0,5 bedraagt,. geen bevredigende afzettingen van zink-nikkellegeringen in termen van unifor-miteit en glans kunnen worden verkregen. Bovendien zullen geen aanvaard- . 10. bare afzettingen en plateringsbewerkingen worden gerealiseerd wanneer de zink-, nikkel- en ammoniumcomponenten vem het bad. in de vorm van de sulfaten in plaats van de chloriden worden gelntroduceerd.The electroplating baths of the present invention will also have at least about 20 g per liter of ammonium ions up to the maximum solubility. of the ammonium ions in the bath, with amounts in the range of from about 20 to about 120 g per liter being preferred. As with zinc and nickel, the ammonium ions are added to the bath as the bath-soluble chloride, preferably ammonium chloride (NH 2 Cl). Although it has been found necessary to have an ammonium ion content. the bath of at least 82 03Τ6Ί ~; To maintain about 20 g per liter, it has been found that the maximum amount of ammonium ions is not critical provided the amount of ammonium ions in the electroplating bath is sufficient to keep the zinc and nickel ions in solution. it has been found that when the minimum amounts of zinc nickel and ammonium ions of 10, 15 and 20 g per liter are not maintained, and / or when the nickel / zinc weight ratio is not at least about 0.5 ,. no satisfactory deposits of zinc-nickel alloys in terms of uniformity and gloss can be obtained. Moreover, no accepted-. 10. bare deposits and plating operations are realized when the zinc, nickel and ammonium components form the bath. are introduced in the form of the sulfates instead of the chlorides.

Teneinde voldoende geleidingsvermogen in de elektro-plateringsbaden volgens de uitvinding te verkrijgen, dient het totale 15 chloridegehalte van deze baden bij voorkeur ten minste ongeveer 90 g per liter en liefst ongeveer 150 tot ongeveer 300 g per liter te bedragen. Wanneer het gewenste totale chloridegehalte van het bad niet door de toevoeging van de zink-, nikkel- en ammoniumchlorides wordt bereikt, kunnen andere- in het bad oplosbare chlorideverbindingen worden toegevoegd 20 om het gewenste totale chloridegehalte te realiseren·, Typerend zullen dergelijke in het bad oplosbare chlorides kaliumchloride of natriumchlo-ride zijn, waarbij kaliumchloride in het bijzonder de voorkeur heeft.In order to obtain sufficient conductivity in the electroplating baths of the invention, the total chloride content of these baths should preferably be at least about 90 g per liter and most preferably about 150 to about 300 g per liter. When the desired total chloride content of the bath is not achieved by the addition of the zinc, nickel and ammonium chlorides, other bath-soluble chloride compounds can be added to achieve the desired total chloride content., Typically such will be in the bath soluble chlorides are potassium chloride or sodium chloride, with potassium chloride being particularly preferred.

Behalve de zink-, nikkel- en ammoniumcomponenten, zullen de nieuwe elektroplateringsbaden volgens dd onderhavige uitvinding ook 25 een niet-ionogeen polyoxyalkyleerd oppervlakteactief middel bevatten.In addition to the zinc, nickel and ammonium components, the new electroplating baths of the present invention will also contain a nonionic polyoxyalkylated surfactant.

Het niet-ionogene polyoxyalkyleerde oppervlakteactieve middel zal aanwe-zig zijn in een hoeveelheid die ten minste voldoende is om korrelver-fijning van de elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen te verschaffen en een afzetting te geven die ten minste halfglanzend van 30 uiterlijk is^ Dit materiaal zal typerend in het bad aanwezig zijn in een hoeveelheid van ten minste ongeveer 0,1 g per liter tot aan zijn maxi-male oplosbaarheid in het bad, warbij hoeveelheden in het gebied van ongeveer 0,1 tot 200 g per liter de voorkeur hebben.The nonionic polyoxyalkylated surfactant will be present in an amount at least sufficient to provide grain refinement of the electrolytic deposition of zinc-nickel alloys and to provide a deposit that is at least semi-gloss in appearance. will typically be present in the bath in an amount of at least about 0.1 g per liter up to its maximum solubility in the bath, with amounts in the range of about 0.1 to 200 g per liter being preferred.

De niet-ionogene polyoxyalkyleerde oppervlakteactieve 35 middelen die in de samenstelling van de onderhavige uitvinding bruikbaar zijn, zijn condensatie-copolymeren van een of meerdere alkyleenoxyden 82ΪΤ215 ~ ~ 6 en een. andere verbinding, waarin het alkyleenoxyde 1 tot 4 koolstofatomen . * bevat en het resulterende copolymeerprodukt ongeveer 10 tot ongeveer ; 70 mol alkyleenoxyde per mol van de andere verbinding bevat. Voorbeelden : . van dergelijke andere verbindingen die gealkoxyleerd kunnen worden, zijn 5 alcoholen, waaronder lineaire alcoholen, alifatische monohydrische alco- .The nonionic polyoxyalkylated surfactants useful in the composition of the present invention are condensation copolymers of one or more alkylene oxides 82-215-6 and one. other compound, wherein the alkylene oxide has 1 to 4 carbon atoms. * and the resulting copolymer product contains from about 10 to about; 70 moles of alkylene oxide per mole of the other compound. Examples:. of such other compounds which can be alkoxylated are 5 alcohols, including linear alcohols, aliphatic monohydric alcohols.

holen, alifatische polyhydrische alcoholen, en fenolalcoholen; vet2uren? vetamiden;. alkylfenolen; alkylnaftolen; alifatische aminen, waaronder : zowel mono- als polyaminen? en dergelijke,caves, aliphatic polyhydric alcohols, and phenol alcohols; vet2 hours? fatty amides ;. alkylphenols; alkylnaphthols; aliphatic amines, including: both mono- and polyamines? and such,

Voorbeelden van typerende geschikte 10 oppervlakteactieve middelen van dit type zijn: A, Niet-ionogene copolymeren van ethyleenoxyde en line— aire alcoholen met de formule van het formuleblad, waarin x een geheel getal van 9 tot 15 voorstelt en n een geheel getal van 10 tot 50 is, Oppervlakteactieve^ middelen met deze structuur behoren tot de Tergitol • 15 ST reeks die verkrijgbaar is bij Uinion Carbide. Voorbeelden van dergelij-· ke bruikbare oppervlakteactieve middelen zijn Tergitol Nonionic 15-S-3, : Tergitol Nonionic 15-S-5, Tergitol Nonionic 15-S-7, Tergitol Nonionic 15-; S-9 en Tergitol Nonionic 15-S-12..Examples of typical suitable surfactants of this type are: A, Nonionic copolymers of ethylene oxide and linear alcohols of the formula of the formula, wherein x represents an integer from 9 to 15 and n an integer from 10 to 50, Surfactants with this structure belong to the Tergitol • 15 ST series available from Uinion Carbide. Examples of such useful surfactants are Tergitol Nonionic 15-S-3, Tergitol Nonionic 15-S-5, Tergitol Nonionic 15-S-7, Tergitol Nonionic 15-; S-9 and Tergitol Nonionic 15-S-12 ..

B. Niet-ionogene copolymeren van ethyleenoxyde enB. Non-ionic copolymers of ethylene oxide and

20 fenolalcoholen met de structuurformule: H-(CH-) -Ar-O-(CH_CH_0) CH„CH.OH20 phenol alcohols of the structural formula: H- (CH-) -Ar-O- (CH_CH_0) CH 2 CH.OH

2 X 2 2 n 2 2 waarin Ar een benzeenring is, x een geheel getal van 6 tot 15 is en n een geheel getal van 10 tot 50 is. Oppervlakteactieve middelen met deze structuur behoren tot de Igepol CO oppervlakteactieve middelen die bij GAF Corporation verkrijgbaar zijn.2 X 2 2 n 2 2 wherein Ar is a benzene ring, x is an integer from 6 to 15 and n is an integer from 10 to 50. Surfactants with this structure are among the Igepol CO surfactants available from GAF Corporation.

25 C. Niet-ionogene copolymeren van ethyleenoxyde en cocos- vetzuren of alkanolamine-cocosvetzuren. Cocosvetzuren zijn afkomstig van de· hydrolyse van cocosolie en hebben in het algemeen de structuur-formuler C H0n+1 COOH waarin n een geheel getal van 5 tot 17 is.C. Non-ionic copolymers of ethylene oxide and coconut fatty acids or alkanolamine coconut fatty acids. Coconut fatty acids are derived from the hydrolysis of coconut oil and generally have the structure formula C H0n + 1 COOH in which n is an integer from 5 to 17.

D. Andere specifieke voorbeelden van niet-ionogene 30 polyoxyalkyleerde oppervlakteactieve middelen die in de onderhavige uit-vinding bruikbaar zijn, omvatten bijvoorbeeld gealkoxyleerde alkylfenolen, bijvoorbeeld nonylfenol? alkylnaftolen; alifatische monohydrische alcoholen; alifatische polyhydrische alcoholen, bijvoorbeeld polyoxypropyleen-glycol; ethyleendiamine; vetzuren, vetamiden, bijvoorbeeld amide van 35. cocosvetzuur; of esters, bijvoorbeeld sorbitanmonopalmitaat. Voorbeelden van gealkoxyleerde verbindingen in de bovenstaande klassen die in da handel verkrijgbaar zijn, omvatten "Xgepal" CA 630,. een merknaam voor een;D. Other specific examples of nonionic polyoxyalkylated surfactants useful in the present invention include, for example, alkoxylated alkyl phenols, for example, nonyl phenol? alkylnaphthols; aliphatic monohydric alcohols; aliphatic polyhydric alcohols, for example polyoxypropylene glycol; ethylenediamine; fatty acids, fatty amides, for example amide of 35. coconut fatty acid; or esters, for example sorbitan monopalmitate. Examples of alkoxylated compounds in the above classes available commercially include "Xgepal" CA 630. a brand name for one;

-0 2 0 3X51 : ~ J-0 2 0 3X51: ~ J

7 v geSthoxyleerde octylfenol die verkrijgbaar is bij de GAF Corporation;7 v ethoxylated octylphenol available from the GAF Corporation;

Brij 98, een merknaam voor een geSthoxyleerde oleylalcohol die ver-: krijgbaar is bij ICI American., Inc.? Pluronic F68, een merknaam voorBrij 98, a brand name for a Shoxylated oleyl alcohol available from ICI American., Inc.? Pluronic F68, a brand name for

; * een polyoxyethyleenpolyoxypropyleenglycol die verkrijgbaar is bij. BASF; * a polyoxyethylene polyoxypropylene glycol available from. BASF

5 Wyandotte Corp.; Surfynol 485., een merknaam voor geSthoxyleerd 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol die verkrijgbaar is bij Air Products and Chemicals, Inc.; Tetronic 504, een merknaam voor een geSthoxyleerd ge-propoxyleerd ethyleendiamine dat verkrijgbaar is bij BASF Wyandotte Corp.; Myrj 525, een merknaam voor een geSthoxyleerd stearinezuur dat ver- · .10 krijgbaar is bij ICI America, Inc.; Amidoa C-5, een merknaam voor een gepolySthoxyleerd cocoszuur-monoethanolamide dat verkrijgbaar is bij Stepan Chemical Co.; Tween 40, een merknaam voor een geSthoxyleerd sor— bitanpalmitaat dat verkrijgbaar is bij ICI America, Inc.; Liponox NCT en ; OCS, merknamen voor polyoxyethyleenalkylfenolethers en polyoxyethyleen-15 alkylethers die verkrijgbaar zijn bij Lion Corp.; Pluronic L64, een merk-i naam voor polyoxyethyleenpolyoxypropyleenglycol en Tetronic 704, een merknaam voor polyoxyethyleen-polyoxypropyleenethyleendiamine, die beide verkrijgbaar zijn bij Products Chimiques Ugine-Kuhlman:; en Ethomeen C/25, een merknaam voor geSthoxyleerde aminen en Ethomid 0/15, een merfe-: ; 20 naam voor geSthoxyleerde amiden, die beide verkrijgbaar zijn bij Akzo·Wyandotte Corp .; Surfynol 485., a brand name for Shoxylated 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol available from Air Products and Chemicals, Inc .; Tetronic 504, a brand name for a Shoxylated propoxylated ethylenediamine available from BASF Wyandotte Corp .; Myrj 525, a brand name for a Shoxylated stearic acid available from ICI America, Inc .; Amidoa C-5, a brand name for a polythoxylated coconut acid monoethanolamide available from Stepan Chemical Co .; Tween 40, a brand name for a Shoxylated Sorbitan Palmitate available from ICI America, Inc .; Liponox NCT and; OCS brand names for polyoxyethylene alkyl phenol ethers and polyoxyethylene-15 alkyl ethers available from Lion Corp .; Pluronic L64, a brand name for polyoxyethylene polyoxypropylene glycol and Tetronic 704, a brand name for polyoxyethylene polyoxypropylene ethylene diamine, both of which are available from Products Chimiques Ugine-Kuhlman :; and Ethijnse C / 25, a brand name for Shoxylated amines and Ethomid 0/15, a merfe:; 20 name for Shoxylated amides, both of which are available from Akzo

Chemie.Chemistry.

Elektrolyse van de bovenstaand beschreven elektropla- Λ teringsbaden zal leiden tot uniforme, fijnkorrelige elektrolytische af-zettingen van zink-nikkellegeringen die ten minste halfglanzend van 25 uiterlijk. zijn. Hoewel deze afzettingen in het algemeen niet volledig spiegelglanzend zijn, hebben ze een veel sterker microkristallijn, uniform uiterlijk dan afzettingen van zink-nikkellegeringen, die met de stand der techniek worden verkregen. Deze afzettingen geven uitsteken-de corrosievastheid aan het substraat, zoals staal, waarop ze worden 30 aangebracht en. zijn derhalve bruikbaar in die gevallen waar een spie-gelglanzende afzetting niet vereist is.Electrolysis of the above-described electroplating baths will result in uniform, fine-grained electrolytic deposits of zinc-nickel alloys that are at least semi-glossy in appearance. to be. While these deposits are generally not completely mirror-glossy, they have a much stronger microcrystalline, uniform appearance than zinc-nickel alloy deposits obtained with the prior art. These deposits provide excellent corrosion resistance to the substrate, such as steel, to which they are applied. are therefore useful in those cases where a mirror-gloss deposit is not required.

Wanneer het gewenst is om elektrolytische afzettingen van zink-nikkellegeringen met spiegelglans te produceren, kan dit worden gerealiseerd doorr in het elektroplateringsbad een aromatisch aldehyde 35 of aromatisch keton als secundair glansgevend middel op te nemen. Een dergelijk secundair glansgevend middel wordt aan het bad toegevoegd in ^82 0^766 " 8 een hoeveelheid die voldoende is oa spiegelglans aan de afzetting te verlenen tot aan de 'maximale oplosbaarheid van het glansgevende additief in het bad. Bij voorkeur worden deze secundaire glansgevende middelen . , > in het elektroplateringsbad opgenomen in hoeveelheden van ongeveer 5 0,01 tot ongeveer 2 g per liter.If it is desired to produce electrolytic deposits of zinc-nickel alloys with a mirror gloss, this can be accomplished by incorporating an aromatic aldehyde or aromatic ketone as a secondary brightener in the electroplating bath. Such a secondary brightener is added to the bath in an amount sufficient to impart, inter alia, mirror gloss to the deposit up to the maximum solubility of the brightener additive in the bath. Preferably, these secondary brighteners in the electroplating bath in amounts of from about 0.01 to about 2 g per liter.

Typerende voorbeelden van aromatische aldehyden of aromatische ketonen die als secundaire glansgevende middelen kunnen * worden gebruikt, zijn de arylaldehyden en ketonen, de in de ring ge- ; halogeneerde arylaldehyden en ketonen, en hydrocyclische aldehyden en 10 ketonen. Voorbeelden van specifieke verbindingen die gebruikt kunnen worden zijn ortho-chlorobenzaldehyde, para-chlorobenzaldehyde, benzyl-methylketon,, fenylethylketon, cinnamaldehyde, benzalaceton, thiofeen— aldehyde, furf ural-5-hydroxymethylfurfural, furfurylideenaceton, furfural-dehyde en 4:(2-furyl)-3-buten-2-on en dergelijke.Typical examples of aromatic aldehydes or aromatic ketones which can be used as secondary brighteners are the aryl aldehydes and ketones, which are ring-shaped; halogenated aryl aldehydes and ketones, and hydrocyclic aldehydes and ketones. Examples of specific compounds that can be used are ortho-chlorobenzaldehyde, para-chlorobenzaldehyde, benzyl methyl ketone, phenylethyl ketone, cinnamaldehyde, benzalacetone, thiophene aldehyde, furfural-5-hydroxymethylfurfural, furfurylideneacetone, furfural-2- furyl) -3-buten-2-one and the like.

( 15 De elektroplateringsbaden volgens de onderhavige uit- vinding, hetzij met hetzij zonder de bovenstaand beschreven secundaire i glansgevende middelen, kunnen. ook een glanshulpmiddel voor lage stroom-dichtheidsgebieden bevatten. Geschikte glanshulpmiddelen zijn de lagere . alkylcarbonzuren en hun in het bad. oplosbare zouten, waarin de alkyl-20 groep ongeveer 1 tot ongeveer 6 koolstofatomen bevat. Hoewel zowel het zuur zelf als de in he,t bad oplosbare zouten kunnen worden gebruikt, hebben in vele gevallen de natrium-, kalium-,of aamoniumzouten de voor- i keur. Een bijzonder geprefereerd glanshulpmiddel voor toepassing in de onderhavige uitvinding is natriumacetaat. Deze glanshulpmiddelen worden 25 typerend gebruikt in hoeveelheden in. het gebied van ongeveer 0,5 tot ongeveer 25 g/1, waarbij hoeveelheden in het gebied van ongeveer 1 tot ongeveer 10 g/1 bijzonder de voorkeur hebben.The electroplating baths of the present invention, either with or without the secondary brighteners described above, may also contain a low current density region brightener. Suitable brighteners are the lower alkyl carboxylic acids and their bath soluble salts. wherein the alkyl-20 group contains from about 1 to about 6 carbon atoms Although both the acid itself and the bath-soluble salts can be used, in many cases the sodium, potassium, or ammonium salts have the fore A particularly preferred brightening aid for use in the present invention is sodium acetate. These brightening aids are typically used in amounts ranging from about 0.5 to about 25 g / l, with amounts ranging from about 1 to about 10 g / 1 are particularly preferred.

De pH van.de elektroplateringsbaden volgens de onderhavige uitvinding bedraagt van ongeveer 4,7 tot ongeveer 8, waarbij 30 een pH van ongeveer 5 tot ongeveer 7" bij zonder de voorkeur heeft. Wan-neer de pH van de oplossing beneden ongeveer 4,7 ligt, is de korrel-verfijning van de afzetting slecht en wordt geen uniform, glanzend uiter-lijk verkregen. Bij een pH boven ongeveer 8 kan de elektrolytische afzetting wa2ig worden en bestaat de neiging tot de ontwikkeling van ammo-35 niakgas uit het plateringsbad. -Handhaving van de pH van het elektroplateringsbad binnen het gewenste gebied kan worden gerealiseerd door de T2T3 2 6 6 ‘The pH of the electroplating baths of the present invention is from about 4.7 to about 8, with a pH of about 5 to about 7 "being particularly preferred. When the pH of the solution is below about 4.7 The grain refinement of the deposition is poor and a uniform, glossy appearance is not obtained At a pH above about 8, the electrolytic deposition may become hazy and there is a tendency to develop ammonia gas from the plating bath. -Maintaining the pH of the electroplating bath within the desired range can be achieved by the T2T3 2 6 6 '

Jt ; 9 toedoeging van ammoniumhydroxyde, teneinde de pH te verhogen, of zout-zuur teneinde de pH te verlagen.Jt; 9 addition of ammonium hydroxide to raise the pH or hydrochloric acid to lower the pH.

In sommige gevallen, wanneer het bad bij het hoge eind van- het pH-gebied,. bijvoorbeeld bij een. pH van ongeveer: 7 tot ongeveer 5 8, wordt bedreven, kan het ook gewenst zijn om een geschikt complexeer- middel in het bad op te nemen teneinde precipitatie van het zink- en/of nikkelmetaal te verhinderen. Elk geschikt complexeermiddel voor zink'· en/of nikkel kan worden gebruikt, in een hoeveelheid die voldoende is om de precipitatie van zink en/of nikkel uit het bad te verhinderen. Ty-10 perende voorbeelden van bruikbare complexeermiddelen zijn ethy leendiamine-? tetraazijnzuur, diethyleentetramine-pentaazijnzuur en. Quadrol (Ν,Ν,Ν',Ν'-tetrakis(2-hydroxypropyl)ethyleendiamine).In some cases, when the bath is at the high end of the pH range. for example at a. pH from about: 7 to about 58, it may also be desirable to include a suitable complexing agent in the bath to prevent precipitation of the zinc and / or nickel metal. Any suitable zinc and / or nickel complexing agent may be used in an amount sufficient to prevent the precipitation of zinc and / or nickel from the bath. Typical examples of useful complexing agents are ethylenediamine-? tetraacetic acid, diethylene tetramine pentaacetic acid and. Quadrol (Ν, Ν, Ν ', Ν'-tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine).

De elektroplateringsbaden volgens de- onderhavige uit- vinding voor zink-nikkellegeringen zijn in het bijzonder geschikt voor 15 gebruik in de rekplateringsprocessen, hoewel ze in sommige gevallen ook gebruikt kunnen worden in vatplateringsprocessen. De platering wordt ty- ; perend uitgevoerd bij kathodestroomdichtheden van ongeveer 4 tot ongeveer; • * * 80 ASF (43 - 861 A/ m1), waarbij een kathodestroomdichtheid van ongeveer < 10 tot ongeveer 60 ASF (108 - 646 A/m?-) bijzonder de voorkeur heeft. Tij- i 20 dens de elektrolyse wordt het elektroplateringsbad bij voorkeur op een temperatuur in het gebied van ongeveer 25 tot 50.aC gehouden, waarbij een temperatuur in het gebied van ongeveer 30 tot 40°C de voorkeur heeft. De in het elektroplateringsproces toegepaste anodes zijn bij voorkeur anodes van metallisch zink en metallisch nikkel, hoewel anodes van zink-25 nikkellegeringen kunnen worden gebruikt. Het relatieve oppervlak van de zink- en nikkelanodes kan worden gevarieerd teneinde de gewenste ver-vanging van zink- en nikkelmetaal in het elektroplateringsbad te bewerken.The electroplating baths of the present invention for zinc-nickel alloys are particularly suitable for use in the plating processes, although in some cases they can also be used in barrel plating processes. The plating is typed; pressing performed at cathode current densities from about 4 to about; • * * 80 ASF (43 - 861 A / m1), with a cathode current density of about <10 to about 60 ASF (108 - 646 A / m? -) being particularly preferred. During electrolysis, the electroplating bath is preferably maintained at a temperature in the range of about 25 to 50 ° C, with a temperature in the range of about 30 to 40 ° C being preferred. The anodes used in the electroplating process are preferably anodes of metallic zinc and metallic nickel, although anodes of zinc-nickel alloys can be used. The relative area of the zinc and nickel anodes can be varied to process the desired replacement of zinc and nickel metal in the electroplating bath.

i : In vele gevallen is gebleken dat een zink- tot nikkelanodeverhouding van ongeveer 9 tot 1 doelmatig de gewenste concentraties van zink en nikkel 30 in het elektroplateringsbad handhaaft.i: In many instances, a zinc to nickel anode ratio of about 9 to 1 has been found to effectively maintain the desired concentrations of zinc and nickel in the electroplating bath.

De uitvinding wordt aan de hand van de voorbeelden nader toegelicht.. In de voorbeelden werd de elektroplatering uitgevoerd in een 267 ml Hull-cel gedurende 5 minuten bij een stroom van 2 AmpSre en een badtemperatuur van 35°Cr onder toepassing van een zinkanode en een 35- glanzender staalplaat als kathode.The invention is further illustrated by the examples. In the examples, the electroplating was performed in a 267 ml Hull cell for 5 minutes at a current of 2 AmpSre and a bath temperature of 35 ° Cr using a zinc anode and a 35- shinier steel sheet as cathode.

8 20Τ2Τ6Π6 ——— 108 20Τ2Τ6Π6 ——— 10

voorbeeld Iexample I

Men stelde. een waterig elektroplateringsbad samen dat 100 g/1 ZnCl^, 120 g/L NiC^^^O, 240 g/1 NH4C1 en 3 g/1 geethoxy-leerd 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol(Surfynol 485) bevatte. De pH 5 van het bad was 5,5 en de gewichtsverhouding nikkel/zink bedroeg 0,6»It was suggested. an aqueous electroplating bath together containing 100 g / 1 ZnCl 2, 120 g / L NiC 2, O, 240 g / 1 NH 4 Cl and 3 g / 1 ethoxylated 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4 7-diol (Surfynol 485). The pH of the bath was 5.5 and the nickel / zinc weight ratio was 0.6

De door plateren met dit bad verkregen elektrolytische afzetting van een zink-nikkellegering overeenkomstig de bovenstaand vermelde procedure was halfglanzend en had een uniform uiterlijk.The electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy obtained by plating with this bath according to the above procedure was semi-gloss and uniform in appearance.

Voorbeeld IIExample II

10 Ter vergelijking werd een elektroplateringsbad samenge- ; steld, dat 100 g/1 ZnC^, 120 g/1 NiCl^·6h20 en 240 g/1 NH^Cl bevatte.For comparison, an electroplating bath was combined; that contained 100 g / l ZnCl 2, 120 g / l NiCl 6 6H 2 O and 240 g / 1 NH 2 Cl.

De gewichtsverhouding nikkel/zink in dit bad bedroeg 0,.6 en de pH was 5,5. De door elektrolyse van dit bad overeenkomstig de bovenstaand beschreven procedure verkregen elektrolytische afzetting van een zink-15 nikkellegering had een asgrijs uiterlijk in de gebieden van hoge en middelmatige stroomdichtheid en een zwart uiterlijk in de lage stroom-dichtheidsgebieden, zonder. sporen van glans.The nickel / zinc weight ratio in this bath was 0.6 and the pH was 5.5. The electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy obtained by electrolysis of this bath in accordance with the procedure described above had an ash gray appearance in the high and medium current density ranges and a black appearance in the low current density ranges, without. traces of shine.

Voorbeeld IIIExample III

Men stelde een elektroplateringbad samen dat 120 g/1 20 ZnClj, 160 g/1 NiC^^H^O, 250 g/1 NH^Cl, 5 g/1 geSthoxyleerd 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol (Surfynol 485) en 0,05 g/1 benzalaceton bevatte. Het elektroplateringbad had een gewichtsverhouding nikkel/zink van 0>7 en een pH van 6,8. De door elektrolyse van dit bad overeenkomstig de bovenstaand beschreven procedure verkregen elektrolytische af-25 zetting van een zink-nikkellegering had een uniform uiterlijk, en was spiegelglanzend in de gebieden van middelmatige en lage stroomdicht— heid met alleen lichte strepen in het hoge stroomdichtheidsgebied.An electroplating bath was prepared containing 120 g / l 20 ZnCl 3, 160 g / 1 NiC 2 H 2 O, 250 g / 1 NH 2 Cl, 5 g / 1 ethoxylated 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn -4,7-diol (Surfynol 485) and 0.05 g / l benzalacetone. The electroplating bath had a nickel / zinc weight ratio of 0> 7 and a pH of 6.8. The electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy obtained by electrolysis of this bath in accordance with the procedure described above had a uniform appearance, and was glossy in the ranges of medium and low current density with only light streaks in the high current density range.

Voorbeeld IVExample IV

Men stelde een elektroplateringbad samen dat 20 g/1 30 ZnCI^, 150 g/1 ΝΐΟΙ^.δ^Ο, 15 g/1 NH^Cl, 80 g/1 KC1, 2 g/1 polyoxyethyleen-alkylfenolether (Liponox NCT) en 0,04 g/1 benzalaceton bevatte. De gewichtsverhouding· nikkel/zink in het bad was 3,8 en de pH van het bad bedroeg 5,0» De door elektrolyse van· deze oplossing volgens de boven— staand beschreven procedure verkregen elektrolytische afzetting van een . 35 zink-nikkellegering had een uniform, uiterlijk, was spiegelglanzend in de gebieden van middelmatige en lage stroomdichtheid met alleen lichte 820 3T66 i 11 strepen in het hoge stroomdichtheidsgebied.An electroplating bath was prepared containing 20 g / l 30 ZnCl, 150 g / 1 ΝΐΟΙ ^ .δ ^ Ο, 15 g / 1 NH ^ Cl, 80 g / 1 KCl, 2 g / 1 polyoxyethylene alkyl phenol ether (Liponox NCT) and 0.04 g / l of benzalacetone. The nickel / zinc weight ratio in the bath was 3.8 and the pH of the bath was 5.0. The electrolytic deposition of a solution obtained by electrolysis of this solution according to the procedure described above. The zinc-nickel alloy had a uniform appearance, was mirror glossy in the medium and low current density regions with only light 820 3T66 i 11 streaks in the high current density region.

Voorbeeld VExample V

Men stelde een elektroplateringsbad samen dat 80 g/1 ZaCl^r 80 g/1 ΝχΟ^.βΗ^Ο, 180 g/1 NH^Cl, 1 g/1 polyoxyethyleen-polyoxy-5 propyleenglycol (Pluronic L64) en 0,02 g/1 cinnamaldehyde bevatte. De gewichtsverhouding nikkel/zink in het bad bedroeg Ongeveer 0,5 en de pH van het bad was 5,5. De uit dit bad door elektrolyse volgens de boven-staand beschreven procedure verkregen elektrolytische afzetting van een zink-nikkellegering had een uniform uiterlijk en was geheel bijna 10 spiegelglanzend, met alleen een licht waas.An electroplating bath was prepared containing 80 g / l ZaCl ^ r 80 g / l ΝχΟ ^ .βΗ ^ Ο, 180 g / l NH ^ Cl, 1 g / l polyoxyethylene-polyoxy-5-propylene glycol (Pluronic L64) and 0.02 g / l contained cinnamaldehyde. The nickel / zinc weight ratio in the bath was about 0.5 and the pH of the bath was 5.5. The electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy obtained from this bath by electrolysis according to the procedure described above had a uniform appearance and was almost completely mirror-glossy, with only a slight haze.

Voorbeeld VI ’Example VI

Men stelde een elektroplateringbad samen dat 20 g/1 ZnCl2, 240 g/1 NiCl2.6H20, 60 g/1 NH4C1, 1 g/1 polyoxyethyleenalkyl-amine (Ethomeen C/25) en 0,02 g/1 ortho:chlorobenzaldehyde bevatte. De 15 gewichtsverhouding nikkel/zink in het bad bedroeg ongeveer 6,2· en de pH van het bad was 5,3. De door elektrolyse van dit bad volgens de boven-staand beschreven procedure verkregen elektrolytische afzetting van een zink-nikkellegering had een uniform uiterlijk, en was bijna spiegelglanzend met slechts een licht waas.An electroplating bath was prepared containing 20 g / 1 ZnCl 2, 240 g / 1 NiCl 2 .6H 2 O, 60 g / 1 NH 4 Cl, 1 g / 1 polyoxyethylene alkyl amine (Ethendom C / 25) and 0.02 g / 1 ortho: chlorobenzaldehyde . The nickel / zinc weight ratio in the bath was about 6.2 and the pH of the bath was 5.3. The electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy obtained by electrolysis of this bath according to the procedure described above had a uniform appearance, and was almost mirror-glossy with only a slight haze.

20 Voorbeeld VIIExample VII

Men stelde een elektroplateringbad samen dat 120 g/1 ZnCl2, 120 g/1 NiCl2.6H20, 240 g/1 NH4C1, 10 g/1 ge§thoxyleerd 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol (Surfynol 485) en 0,3' g/1 benzalaceton bevatte . Het elektroplateringsbad had een nikkel/zink-gewichtsverhouding van 25 ongeveer 0,5 en een pH van 5,6. De door de elektrolyse van dit bad volgens de bovenstaand beschreven procedure verkregen elektrolyseafzet-ting van, een zink-nikkellegering had een uniform uiterlijk en was spiegelglanzend over het gehele oppervlak. Deze elektrolytische afzetting werd geanalyseerd op nikkelgehalte en er werd vastgesteld dat het nik-30 kelijehalte van de· afzetting in de gebieden die 2 cm, 5 cm en 8 cm ver-wijderd waren van de hoge stroomzijde van de Hull-celplaat respectie-velijk 7,6 gew.%, 7,9 gew.% en 10,7 gew.% bedroeg.An electroplating bath was prepared containing 120 g / 1 ZnCl 2, 120 g / 1 NiCl 2 .6H 2 O, 240 g / 1 NH 4 Cl, 10 g / 1 ethoxylated 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4.7 diol (Surfynol 485) and 0.3 g / l benzalacetone. The electroplating bath had a nickel / zinc weight ratio of about 0.5 and a pH of 5.6. The electrolysis deposit of a zinc-nickel alloy obtained by the electrolysis of this bath according to the procedure described above had a uniform appearance and was mirror-glossy over the entire surface. This electrolytic deposit was analyzed for nickel content and it was found that the nickel content of the deposit in the areas 2 cm, 5 cm and 8 cm were removed from the high current side of the Hull cell plate, respectively. 6 wt%, 7.9 wt% and 10.7 wt%.

Voorbeeld VIIIExample VIII

Men stelde een- elektroplateringbad samen dat 20 g/1 35 ZhCl4, 240 g/1. NiCl2.6E20, 150 g/1 NE^Cl, 2,0 g/1 polyoxyethyleenalkyl-amide (Ethomid 0/15) en 0,1 g/1 fenylethylketon bevatte. Het bad had een ” 8 20 3 2 6 6 “ “ ' 12 gewichtsverhouding nikkel/zink -van ongeveer 6,2 en een pH van 6,8. De door de elektrolyse van deze oplossing volgens de bovenstaand beschre-ven procedure verkregen elektrolytische afzetting van een zink-nikkel- • * i legering was uniform, was geheel spiegelglanzend, met slechts lichte stre-5 pen in het hoge stroomdichtheidsgebied.An electroplating bath was prepared containing 20 g / l of ZhCl 4, 240 g / l. NiCl2.6E20, 150 g / l NE / Cl, 2.0 g / l polyoxyethylene alkyl amide (Ethomid 0/15) and 0.1 g / l phenylethyl ketone. The bath had a nickel / zinc weight ratio of about 6.2 and a pH of 6.8. The electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy obtained by the electrolysis of this solution according to the procedure described above was uniform, completely mirror-glossy, with only light streaks in the high current density range.

Voorbeeld IXExample IX

Men stelde drie elektroplateringsbaden samen, die 120 g/ 1 ZnCl^, 140 g/1 NiCl^.e^O, 240 g/1 NH4C1, 1,0 g/1 benzalaceton en 5.0 g/1 van een niet-ionogeen polyoxyalkyleerd oppervlakteactief. middel i r 10 bevatten.. In het eerste bad was het oppervlakteactieve middel polyoxy-ethyleenalkylether (Liponox OCS); in het tweede bad was het oppervlakteactieve middel polyoxyethyleensorbitanpalmitaat (Tween 40); en in het derde bad was- het oppervlakteactieve middel ethoxyleerd propoxyleerd : ethyleendiamine (Tetronic 704). In elk bad was de gewichtsverhouding 15 nikkel/zink 0,72 en de pH van het bad 5,5. De door de elektrolyse van de-· ze drie baden volgens de bovenstaand beschreven procedure verkregen elektrolyseafzettingen van zink-nikkellegeringen waren elk uniform en - j t spiegelglanzend over het gehele oppervlak. i [Three electroplating baths were prepared, which contained 120 g / l ZnCl 4, 140 g / 1 NiCl 3, e, 240 g / 1 NH 4 Cl, 1.0 g / 1 benzalacetone, and 5.0 g / l of a nonionic polyoxyalkylated surfactant . agent 10. In the first bath, the surfactant was polyoxyethylene alkyl ether (Liponox OCS); in the second bath, the surfactant was polyoxyethylene sorbitan palmitate (Tween 40); and in the third bath, the surfactant was ethoxylated propoxylated: ethylenediamine (Tetronic 704). In each bath, the nickel / zinc weight ratio was 0.72 and the pH of the bath 5.5. The electrolysis deposits of zinc-nickel alloys obtained by the electrolysis of these three baths according to the procedure described above were each uniform and mirror-like over the entire surface. i [

. Voorbeeld X. Example X.

20 Men stelde een elektroplateringbad samen dat 100 g/1An electroplating bath was prepared containing 100 g / l

ZnCl2, 130 g/1 NiCl^.S^O, 200 g/1 NH4C1, 2,0 g/1 natriumacetaat, 5.0 g/1 ethoxyleerd 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol (Surfynol 485) en 0,1 g/1 benzalaceton bevatte. De gewichtsverhouding nikkel/zink in het bad bedroeg 0,67 en de pH van het bad was 5,6. De door de elektro- 25 lyse van dit bad volgens de bovenstaand beschreven procedure verkregen elektrolytische afzetting van een zink-nikkellegering was uniform en volledig spiegelglanzend over het gehele oppervlak.ZnCl 2, 130 g / 1 NiCl 2 .S ^ O, 200 g / 1 NH 4 Cl, 2.0 g / 1 sodium acetate, 5.0 g / 1 ethoxylated 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7- diol (Surfynol 485) and 0.1 g / l benzalacetone. The nickel / zinc weight ratio in the bath was 0.67 and the pH of the bath was 5.6. The electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy obtained by electrolysis of this bath according to the procedure described above was uniform and completely mirror-glossy over the entire surface.

Voorbeeld XI jExample XI j

Gebruikmakend van de elektroplateringsbaden van de 30 voorbeelden 1 en 3 tot 10, werden staalplaten geplateerd met een afzetting van een zink-nikkellegering tot een dikte van 3 ^um bij een badtemperatuur van 35°C en een kathodestroomdichtheid van ongeveer 30 ASF (323 A/m2). De aldus geplateerde- panelen werden daarna aan de standaard zoutsproeitest (ASTM' B-117) onderworpen en het werd vastge-35 steld dat in elk geval ongeveer 160 uur blootstelling vereist was voor-dat zich een rode roest op het oppervlak van de zink-nikkellegering be— “820 3 26 6 ' ““ 13.Using the electroplating baths of Examples 1 and 3 to 10, steel plates were plated with a zinc-nickel alloy deposit to a thickness of 3 µm at a bath temperature of 35 ° C and a cathode current density of about 30 ASF (323 A / m2). The panels thus plated were then subjected to the standard salt spray test (ASTM 'B-117) and it was found that at least about 160 hours of exposure was required before a red rust on the surface of the zinc. nickel alloy - “820 3 26 6” ““ 13.

' J f • gon te ontwikkelen. Gelijke staalpanelen werden tot dezelfde dikte ge- .., plateerd met een commerciSle glanzende elektrolytische nikkelafzetting • en met een commerciSle glanzende elektrolytische zinkafzetting. De met nikkel geplateerde panelen en de met zink geplateerde panelen werden 5 daama aan de standaard zoutsproeitest onderworpen en er werd vastge-steld dat blootstelling gedurende slechts 8 uur respectievelijk gedurende; 40 uur vereist was voor de ontwikkeling van rode roest op de nikkelaf-zetting en op de zinkafzetting.'J f • gon to develop. Equal steel panels were plated to the same thickness, plated with a commercial glossy electrolytic nickel deposit and with a commercial glossy electrolytic zinc deposit. The nickel plated panels and the zinc plated panels were then subjected to the standard salt spray test and it was found that exposure for only 8 hours and during; 40 hours were required for the development of red rust on the nickel deposit and on the zinc deposit.

De dikte van de elektrolytische afzettingen van zink-10 nikkellegeringen, verkregen volgens de voorbeelden I, II en VII werden . op verschillende afstanden vanaf de hoge stroomzijde van de Hull-cel-plaat gemeten* Deze diktes werden daarna uitgezet tegen de afstand vanaf de hoge stroomzijde van de Hull-celplaat, zoals in figuur 1 wordt getoond,. De resultaten laten zien dat. de toevoeging van de glansgevende 15 additieven volgens de onderhavige uitvinding geen enkele significante -nadelige invloed op de dikte van de verkregen elektrolytische afzetting hebben, over een breed gebied van stroomdichtheden, in vergelijking tot ; de afzettingen die verkregen zijn uit een soortgelijk elektroplaterings-bad dat deze toevoegingen niet bevatte- 20 ; 8203265 “ !The thickness of the electrolytic deposits of zinc-10 nickel alloys obtained according to Examples I, II and VII were. measured at different distances from the high flow side of the Hull cell plate * These thicknesses were then plotted against the distance from the high flow side of the Hull cell plate, as shown in Figure 1. The results show that. the addition of the brightening additives of the present invention does not have any significant adverse effect on the thickness of the electrolytic deposit obtained, over a wide range of current densities, compared to; the deposits obtained from a similar electroplating bath not containing these additives; 8203265 ”!

Claims (9)

1. Waterige samensteiling voor de elektrolytische afzet-ting van zink-nikkellegeringen, omvattende ten minste 10 g/1 zink, ten : minste 15 g/1 nikkel, ten minste 20 g/1 ammoniumionen, en een niet-ionogeen polyoxyalkyleerd. oppervlakteactief middel in een hoeveelheid . 5 die voldoende is om korrelverfijning van de elektrolytische afzet- ting van een zink-nikkeliegering te bewerken en om deze ten minste ; halfglanzend te maken, welk bad een gewichtsverhouding nikkel/zink van ten minste 0,5 en een pH van ongeveer 4/7 tot ongeveer 8,0 heeft.An aqueous composition for the electrolytic deposition of zinc-nickel alloys, comprising at least 10 g / l zinc, at least 15 g / l nickel, at least 20 g / l ammonium ions, and a nonionic polyoxyalkylated. surfactant in an amount. 5 sufficient to process grain refinement of the electrolytic deposit of a zinc-nickel alloy and at least to process it; semi-gloss, which bath has a nickel / zinc weight ratio of at least 0.5 and a pH of about 4/7 to about 8.0. 2. Samensteiling volgens conclusie 1, waarin het zink 10 aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 10 tot ongeveer 90 g/1, het : nikkel aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 15 tot ongeveer 60 g/lr de ammoniumionen aanwezig zijn in een hoeveelheid van ongeveer 20 tot ongeveer 120 g/lr het niet-ionogene- polyoxyalkyleerde oppervlakte-actieve middel aanwezig. is in een hoeveelheid van ongeveer 0,1 tot 15 ongeveer 200 g/1, de gewichtsverhouding nikkel/zink ongeveer 0,5 tot on- geveer 10 bedraagt en de pH ongeveer 5,0 tot ongeveer 7,0 is.The composition of claim 1, wherein the zinc 10 is present in an amount from about 10 to about 90 g / l, the nickel is present in an amount from about 15 to about 60 g / lr, the ammonium ions are present in an amount from about 20 to about 120 g / lr the nonionic polyoxyalkylated surfactant is present. is in an amount from about 0.1 to about 200 g / l, the nickel / zinc weight ratio is about 0.5 to about 10, and the pH is about 5.0 to about 7.0. 3. Samensteiling volgens conclusie 1, waarin tevens een • secundair glansgevend middel aanwezig is, gekozen uit aromatische aide— hyden en aromatische ketonen, welk secundair glansgevend middel aanwe-20 zig is in. een hoeveelheid die voldoende is om spiegelglans aan de ^ elektrolytische zink-nikkelafzetting te geven.Composition according to claim 1, also comprising a secondary brightening agent, selected from aromatic amides and aromatic ketones, which secondary brightening agent is present in. an amount sufficient to impart mirror gloss to the zinc-nickel electrolytic deposit. 4. Samensteiling volgens conclusie 2, waarin tevens een secundair glansgevend middel aanwezig is gekozen uit aromatische alde- hyden en aromatische ketonen, welk secundair glansgevend middel aanwezig . , 25 is in een hoeveelheid van ongeveer 0,01 tot ongeveer 2 g/1. >The composition of claim 2, wherein a secondary brightener is also selected selected from aromatic aldehydes and aromatic ketones, which secondary brightener is present. .25 is in an amount from about 0.01 to about 2 g / l. > 5. Samensteiling volgens conclusie 1, waarin tevens een lage stroomdichtheid glanshulpmiddel aanwezig is, gekozen uit lagere alkylcarbonzuren en zouten daarvan, welk glanshulpmiddel aanwezig is in een hoeveelheid van- ongeveer 0,5 tot ongeveer 25 g/1.The composition of claim 1, wherein also a low current density gloss aid is selected, selected from lower alkyl carboxylic acids and salts thereof, said gloss aid is present in an amount of from about 0.5 to about 25 g / l. 6. Samensteiling volgens conclusie 2, waarin tevens een lage stroomdichtheid. glanshulpmiddel aanwezig is, gekozen uifc lagere alkylcarbonzuren en zouten daarvan, welk glanshulpmiddel aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 1,0 tot ongeveer 10 g/1. ----"8Τ(ΓΤ2Τ5—:----- ί • 7. Samenstelling volgens conclusie 3, waarin tevens een : . lage stroomdichtheid glanshulpmiddel aanwezig is, gekozen uit lagere al- ‘ kylcarbonzuren en zouten daarvan, welk glanshulpmiddel aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 0,5 tot ongeveer 25 g/1.Assembly according to claim 2, wherein also a low current density. brightener is present, selected from lower alkyl carboxylic acids and salts thereof, which brightener is present in an amount from about 1.0 to about 10 g / l. ---- "8Τ (ΓΤ2Τ5 -: ----- ί) A composition according to claim 3, which also contains a: low current density brightener selected from lower alkyl carboxylic acids and salts thereof, which brightener is present in an amount from about 0.5 to about 25 g / l. 58. Samenstelling volgens conclusie 4, waarin tevens een lage'stroomdichtheid glanshulpmiddel aanwezig,is, gekozen uit lagere alkylcarbonzuren en zouten daarvan, welk glanshulpmiddel aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 1,0 tot ongeveer 10 g/1. jA composition according to claim 4, wherein also a low current density gloss aid is present selected from lower alkyl carboxylic acids and salts thereof, said gloss aid being present in an amount from about 1.0 to about 10 g / l. j 9.- Samenstelling volgens conclusie 2, met het kenmerk, j 10 dat het niet-ionogene polyoxyalkyleerde oppervlakteactieve middel geetho- xyleerd 2,4,7V9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol is. : 10. Samenstelling volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat : het niet-ionogene polyoxyalkyleerde oppervlakteactieve middel geithoxy— j * | leerd 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-477-diol is en het secundaire glans—. 15 gevend: middel feenzalaceton is. i9. A composition according to claim 2, characterized in that the nonionic polyoxyalkylated surfactant is ethoxylated 2,4,7V9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol. A composition according to claim 4, characterized in that: the nonionic polyoxyalkylated surfactant is geithoxy— * | taught is 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-477-diol and the secondary gloss. 15 giving: agent is phenylalacetone. i 11. Samenstelling volgens conclusie 6, met het kenmerk, : dat het niet-ionogene polyoxyalkyleerde oppervlakteactieve middel ge- · ethoxy leerd 2,.4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol is en het lage stroom— dichtheid glanshulpmiddel natriumacetaat is. ' = * - '1 20 12. Samenstelling volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat ; het niet-ionogene polyoxyalkyleerde oppervlakteactieve middel 2,4,7,9- j tetramethyl-5-decyn-4,7-diol is, het secundaire glansgevende middel benzalaceton is en het lage stroomdichtheid glanshulpmiddel natriumacetaat is. -- 25 13. -Werkwijze voor het produceren van glanzende, uniforme elektrolytische afzettingen van zink-nikkellegeringen,. omvattende het doorleiden van een elektrisciie stroom door een waterige samenstelling volgens een of meer van de conclusies 1 - 12, tussen een anode en een kathode, en het doorgaan met het doorleiden van elektrische stroom ge-30 durende een voldoende periods om de afzetting van de gewenste elektrolytische afzetting van een zink-nikkellegering op het kathodesubstraat te bewerken. ίίΤΤΙΙΓ- ~11. A composition according to claim 6, characterized in that the non-ionic polyoxyalkylated surfactant is ethoxylated 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol and the low flow - the density of the shine aid is sodium acetate. 12. A composition according to claim 8, characterized in that; the nonionic polyoxyalkylated surfactant is 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol, the secondary brightener is benzalacetone, and the low current density brightener is sodium acetate. 13. Process for producing glossy, uniform electrolytic deposits of zinc-nickel alloys. comprising passing an electric current through an aqueous composition according to one or more of claims 1 to 12, between an anode and a cathode, and continuing to pass electric current for sufficient periods of time to deposit the desired electrolytic deposition of a zinc-nickel alloy on the cathode substrate. ίίΤΤΙΙΓ- ~
NLAANVRAGE8203266,A 1981-08-21 1982-08-19 AQUEOUS BATH FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF ZINC NICKEL ALLOYS; AND PREPARATIONS WITH SUCH A DEPOSIT. NL184070C (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13034181 1981-08-21
JP56130341A JPS6012434B2 (en) 1981-08-21 1981-08-21 Zinc-nickel alloy electroplating solution

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL8203266A true NL8203266A (en) 1983-03-16
NL184070B NL184070B (en) 1988-11-01
NL184070C NL184070C (en) 1989-04-03

Family

ID=15032062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE8203266,A NL184070C (en) 1981-08-21 1982-08-19 AQUEOUS BATH FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF ZINC NICKEL ALLOYS; AND PREPARATIONS WITH SUCH A DEPOSIT.

Country Status (13)

Country Link
JP (1) JPS6012434B2 (en)
KR (1) KR880001584B1 (en)
AU (1) AU534369B2 (en)
BR (1) BR8204892A (en)
CA (1) CA1210732A (en)
DE (1) DE3231054A1 (en)
ES (1) ES8308366A1 (en)
FR (1) FR2511707A1 (en)
GB (1) GB2104920B (en)
IN (1) IN157700B (en)
IT (1) IT1156492B (en)
MX (1) MX158623A (en)
NL (1) NL184070C (en)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0144711B1 (en) * 1983-11-01 1987-08-12 Nippon Steel Corporation Process for electroplating a metallic material with an iron-zinc alloy
JPS60228693A (en) * 1984-04-25 1985-11-13 Kawasaki Steel Corp Manufacture of steel plate plated with zn-ni alloy
JPS61110794A (en) * 1984-11-06 1986-05-29 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Surface treatment of copper foil
JPS622776U (en) * 1985-06-21 1987-01-09
JPS6236178U (en) * 1985-08-21 1987-03-03
US4666791A (en) * 1985-12-06 1987-05-19 Bethlehem Steel Corporation Of Delaware Ni-Zn electroplated product resistant to paint delamination
US4772362A (en) * 1985-12-09 1988-09-20 Omi International Corporation Zinc alloy electrolyte and process
JPS62113272U (en) * 1985-12-31 1987-07-18
JPS6353285A (en) * 1986-08-22 1988-03-07 Nippon Hyomen Kagaku Kk Zinc-nickel alloy plating solution
KR100417930B1 (en) * 1996-12-26 2004-03-31 주식회사 포스코 Zn-Ni ALLOY ELECTROPLATING SOLUTION
KR100417931B1 (en) * 1996-12-26 2004-03-30 주식회사 포스코 Zn-Ni ALLOY ELECTROPLATING SOLUTION
KR100368221B1 (en) * 1998-09-01 2003-04-21 주식회사 포스코 Electrolyte of zn-ni alloy electrodeposit in soluable anode and chroides bath and the method of manufacturing zn-ni alloy electric plating steel by using it
KR20020010046A (en) * 2000-07-28 2002-02-02 이구택 Pollution Prevention agent of Zn-Ni Coation Plate
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
CN103451693B (en) * 2013-07-29 2015-08-26 山东建筑大学 A kind of alkaline zinc-nickel alloy pulse plating method of nickel stable content
CN105002532A (en) * 2015-08-21 2015-10-28 哈尔滨工业大学 Low-bubble weak-acid chloride zinc-nickel alloy electroplate liquid

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE470874A (en) * 1940-12-21
US3420754A (en) * 1965-03-12 1969-01-07 Pittsburgh Steel Co Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel
DE1521029C3 (en) * 1966-05-28 1984-01-19 Dr.-Ing. Max Schlötter GmbH & Co KG, 7340 Geislingen Acid galvanic bright zinc bath
US3558442A (en) * 1969-01-31 1971-01-26 Wheeling Pittsburgh Steel Corp Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel
JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
US4070256A (en) * 1975-06-16 1978-01-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Acid zinc electroplating bath and process
SU571528A1 (en) * 1975-09-17 1977-09-05 Pavlov Anatolij V Electrolyte for depositing zinc-based alloys
SU827608A1 (en) * 1978-05-12 1981-05-07 Предприятие П/Я В-8173 Electrolyte for precipitating zinc-nickel alloy platings
US4313802A (en) * 1979-02-15 1982-02-02 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Method of plating steel strip with nickel-zinc alloy
JPS5839236B2 (en) * 1979-03-30 1983-08-29 住友金属工業株式会社 Alloy electroplating method
US4282073A (en) * 1979-08-22 1981-08-04 Thomas Steel Strip Corporation Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates
US4268364A (en) * 1980-03-18 1981-05-19 Inco Research & Development Center Inc. Nickel-zinc alloy deposition from a sulfamate bath

Also Published As

Publication number Publication date
GB2104920B (en) 1985-02-27
CA1210732A (en) 1986-09-02
IN157700B (en) 1986-05-24
AU8705682A (en) 1983-02-24
DE3231054C2 (en) 1989-04-27
AU534369B2 (en) 1984-01-26
FR2511707B1 (en) 1985-05-03
KR840001231A (en) 1984-03-28
ES515149A0 (en) 1983-08-16
JPS5834189A (en) 1983-02-28
NL184070C (en) 1989-04-03
IT8268027A0 (en) 1982-08-20
IT1156492B (en) 1987-02-04
GB2104920A (en) 1983-03-16
NL184070B (en) 1988-11-01
BR8204892A (en) 1983-08-02
ES8308366A1 (en) 1983-08-16
DE3231054A1 (en) 1983-03-03
JPS6012434B2 (en) 1985-04-01
FR2511707A1 (en) 1983-02-25
MX158623A (en) 1989-02-20
KR880001584B1 (en) 1988-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8203266A (en) COMPOSITION AND METHOD FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF ZINC NICKEL ALLOYS.
US4331518A (en) Bismuth composition, method of electroplating a tin-bismuth alloy and electroplating bath therefor
JP5642928B2 (en) Bronze electroplating
US4388160A (en) Zinc-nickel alloy electroplating process
JP3274232B2 (en) Tin-bismuth alloy plating bath and plating method using the same
US4075066A (en) Electroplating zinc, ammonia-free acid zinc plating bath therefor and additive composition therefor
JP2000026991A (en) Tin and tin alloy plating bath
US4070256A (en) Acid zinc electroplating bath and process
US4285802A (en) Zinc-nickel alloy electroplating bath
JPH0693491A (en) Additive composition for electrodeposition of zinc and zinc alloy, plating bath and method for zinc oxide and zinc alloy
JPH0257695A (en) Bath of acidic zinc.nickel-plating and method for electrodeposition of zinc,nickel alloy having luster and ductility
JPS60169588A (en) Acidic zinc plating bath, acidic zinc alloy plating bath and process
EP0725165A1 (en) Brightening additive for tungsten alloy electroplate
CA1134775A (en) Acid zinc electroplating process and composition
JP5272275B2 (en) Acid galvanizing bath
GB2101634A (en) Process and composition for the electrodeposition of tin
US4199417A (en) Electrodeposition of black deposit and electrolytes therefor
US4270990A (en) Acidic electroplating baths with novel surfactants
NO784204L (en) PROCEDURE FOR PREPARING SHINY ELECTROLYTICAL ZINC PRECIPITATIONS AND WATER, ACID PLATING BATH FOR CARRYING OUT THE PROCEDURE
JPH0158273B2 (en)
JP4389083B2 (en) Lead-free tin-bismuth alloy electroplating bath
KR960001036B1 (en) Method for making zine-chromium alloy plated steel sheet
JP2667323B2 (en) Antioxidant, auxiliary for plating bath and plating bath using the same
US4138294A (en) Acid zinc electroplating process and composition
KR100506394B1 (en) Zn-Ni alloy electrolyte for good surface roughness, whiteness and suppression of edge burning

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee