NL8202688A - Polyamide acids having carboxy gps. reacted with mono:amino:silane - giving polyimide(s) with improved heat stability - Google Patents

Polyamide acids having carboxy gps. reacted with mono:amino:silane - giving polyimide(s) with improved heat stability Download PDF

Info

Publication number
NL8202688A
NL8202688A NL8202688A NL8202688A NL8202688A NL 8202688 A NL8202688 A NL 8202688A NL 8202688 A NL8202688 A NL 8202688A NL 8202688 A NL8202688 A NL 8202688A NL 8202688 A NL8202688 A NL 8202688A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
polyamic acid
mono
reacted
group
formula
Prior art date
Application number
NL8202688A
Other languages
Dutch (nl)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL8202688A priority Critical patent/NL8202688A/en
Publication of NL8202688A publication Critical patent/NL8202688A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G69/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
    • C08G69/48Polymers modified by chemical after-treatment
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions

Abstract

A polyamide acid in which 2-60% esp. 10-40% of the COOH gps. present are reacted with a mono-aminosilane (I) is claimed. (I) is pref. a cpd. (I) in which Alk is 1-4C alkyl, R1 is 1-3C alkoxy, 1-3C alkyl or benzyl, and R2 is -(CH2)m- in which m= 1-4, or p-C6H4-. Pref. polyamide acid has the formula (II) in which R3 is chosen from (III), (IV), (V), (VI) in which R5 is -(CH2)m-in which m= 1-4, -CO-, -O-, -SO-, -SO2- or -CONH- and R6 is H or -CONH2, R4 is (VII), (VIII) in which R7 is -(CH2)m- where m= 1-4, -CO-, -O-, -SO- and -SO2- and n is at least 15. (II) is reacted with (I) in organic solvent soln. to give the modified polyamide acid. When subjected to imidisation at elevated temps., the modified polyamide acids give polyimides with improved heat resistance and adhesion. The compsns. can be applied by spraying, casting or dipping to give coating or passivating layers in electronic components such as semiconductors, chips, ICs, printed circuits, electrical conductors, etc.

Description

EHN 10.389 1 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven "Polyamidezuur derivaat, werkwijze voor de vervaardiging ervan en poly-ind.de verkregen door imidisatie van het polyamidezuur derivaat".EHN 10,389 1 N.V. Philips' Incandescent lamp factories in Eindhoven "Polyamic acid derivative, process for its manufacture and polyindide obtained by imidization of the polyamic acid derivative".

De uitvinding heeft betrekking qp een derivaat van polyamidezuur dat na imidisatie een polyamide derivaat met verbeterde eigenschappen oplevert en in het bijzonder een verbeterde hittebestendigheid heeft. Het derivaat van het polyamide zuur kan met voordeel worden 5 toegepast op bij voorbeeld allerlei electronische componenten zoals halfgeleiderelementen, chips, IC's, schakelingen, electrische geleiders. De betreffende component wordt voorzien van een oplossing van het derivaat van polyamidezuur, bij voorbeeld door middel van een sproei-, giet-of dompelproces. Na imidisatie als gevolg van een warmtebehandeling wordt 10 het derivaat van polyamidezuur omgezet in een polyimide derivaat dat een hittebestendige, goed hechtende afdeklaag of passiveerlaag vormt op de electrische component.The invention relates to a derivative of polyamic acid which, after imidization, yields a polyamide derivative with improved properties and in particular has an improved heat resistance. The derivative of the polyamic acid can advantageously be applied to, for example, all kinds of electronic components such as semiconductor elements, chips, ICs, circuits, electrical conductors. The relevant component is provided with a solution of the derivative of polyamic acid, for example by means of a spraying, pouring or dipping process. After imidization as a result of a heat treatment, the polyamic acid derivative is converted into a polyimide derivative which forms a heat-resistant, well-adhering coating or passivation layer on the electrical component.

Het derivaat van polyamidezuur volgens de uitvinding is een polyamidezuur waarvan 2-60% van de in het polyamidezuur aanwezige car-.The polyamic acid derivative according to the invention is a polyamic acid, of which 2-60% of the carboxylic acid present in the polyamic acid.

15 boxylgroepen is omgezet met een mono-aminosilaan.15 boxyl groups have been reacted with a mono-aminosilane.

Bij voorkeur is 10-40% van de carboxylgroepen omgezet met een mono-aminosilaan.Preferably 10-40% of the carboxyl groups are reacted with a mono-aminosilane.

In een verdere voorkeursvorm van het polyamidezuur derivaat volgens de uitvinding zijn de in het polyamidezuur aanwezige carboxyl-20 groepen omgezet met een mono-aminosilaan dat beantwoordt aan de formule OAlk -Si-R2“NH2 (1) OAlk • 25 waarinIn a further preferred form of the polyamic acid derivative according to the invention, the carboxyl-20 groups present in the polyamic acid are reacted with a mono-aminosilane corresponding to the formula OAlk -Si-R2 “NH2 (1) OAlk • 25 in which

Alk een alkylgroep met 1-4 koolstofatomen is, R-j een alkoxygroep met 1-3 koolstof atomen, een alkylgroep net 1-3 koolstofatomen of een benzylgroep is, en R2 een bivalent organisch radicaal is dat beantwoordt aan de formule 30 -(CH2)m“/ waarin m = 1-4, of aan de formule -4r\-.Alk is an alkyl group of 1-4 carbon atoms, Rj is an alkoxy group of 1-3 carbon atoms, an alkyl group of just 1-3 carbon atoms or a benzyl group, and R2 is a bivalent organic radical corresponding to the formula 30 - (CH2) m "/ Where m = 1-4, or to the formula -4r \ -.

Een zeer geschikt mono-aminosilaan is ^ -aminqpropyltriethoxy- silaan.A very suitable mono-aminosilane is 1-aminopropyltriethoxysilane.

Het derivaat volgens de uitvinding wordt bereid door een op- 8202688 PHN 10.389 2 ‘ 1i \ lossing van polyamidezuur in een organisch oplosmiddel te behandelen met het mono-aminosilaan.The derivative of the invention is prepared by treating a solution of polyamic acid in an organic solvent with the monoamino silane.

De reactie vindt onder roeren bij normale temperatuur plaats. Een geschikt organisch oplosmiddel is bijvoorbeeld dimethylaceetamide of 5 N-methyl-2-pyrrolidon.The reaction takes place under stirring at normal temperature. A suitable organic solvent is, for example, dimethylacetamide or 5 N-methyl-2-pyrrolidone.

Het uitgangsprodukt, het polyamidezuur, is een bekende in de handel verkrijgbare stof. Het polyamidezuur zoals toegepast in de werkwijze volgens de uitvinding kan worden weergegeven met de formule --HN-OCv .COOHThe starting product, the polyamic acid, is a known commercially available substance. The polyamic acid as used in the method according to the invention can be represented by the formula --HN-OCv .COOH

10 (2) HOOC^ ^CO-NH-R---L n waarin een bivalent organisch radicaal is dat gekozen is uit de groep bestaande uit: Ό· 0-0· 0-s-Q- R6 en ^~Λ-νϊΏΧ . o-»-o waarin R^ een bivalent organisch radicaal is dat gekozen is uit de groep bestaande uit: — (CH~)—- , waarin m = 1-4, <4'm — CO—o—,—SO—,—S02— en—CONH—, 25 en Rg een waterstofatoom of een—CONH2 groep is, R^ een tetravalent organisch radicaal is gekozen uit de groep bestaande uit: -d-p-Q—£>- ’-Q- 30 waarin R^ een bivalent organisch radicaal is gekozen uit de groep bestaande uit: — (CS^np·, waarin m = 1-4, — CO—,— O—,—SO—, en —SO^— en n is tenminste gelijk aan 15.10 (2) HOOC ^ ^ CO-NH-R --- L n wherein is a bivalent organic radical selected from the group consisting of: 0 · 0-0 · 0-s-Q-R6 and ^ ~ Λ-νϊΏΧ. o - »- o where R ^ is a bivalent organic radical selected from the group consisting of: - (CH ~) —-, where m = 1-4, <4'm - CO — o -, - SO— —SO2 — and — CONH—, and Rg is a hydrogen atom or a —CONH2 group, R ^ is a tetravalent organic radical selected from the group consisting of: -dpQ-£> -'-Q- wherein R ^ is a bivalent organic radical is selected from the group consisting of: - (CS ^ np ·, where m = 1-4, - CO -, - O -, - SO—, and —SO ^ - and n is at least 15.

35 Het polyamidezuur volgens formule (2) is van een gebruikelijk type. Hiertoe kan verwezen worden naar het Amerikaanse octrcoischrift 3,943,065. Het polyamidezuur wordt bereid door een organisch dianhydride van de formule 8202688 1 ΐτ .·* ΡΗΝ 10.389 3 /^χ Χ°χ < >4\ >° <3> ΝχΚ te laten reageren met een equivalente hoeveelheid van een organisch dia-5 mine van de formule —R3—NH2 (4) waarin en de boven aangegeven betekenis hebben.The polyamic acid of formula (2) is of a conventional type. For this, reference can be made to United States Patent 3,943,065. The polyamic acid is prepared by reacting an organic dianhydride of the formula 8202688 1 ΐτ. · * ΡΗΝ 10.389 3 / ^ χ Χ ° χ <> 4 \> ° <3> ΝχΚ with an equivalent amount of an organic dia-5 mine of the formula —R3 —NH2 (4) in which and have the meanings indicated above.

Bij voorkeur vrordt in de methode volgens de uitvinding uitgegaan van een polyamidezuur dat verkregen is door pyromellietzuurdianhydride 10 of 3,3’,4,41-benzof enontetracarbonzuurdianhydride te laten reageren met een equivalente hoeveelheid van 4,4'-diaminodifenylether of 4,4'-diaminodifenylether-3-carbonamide.The method according to the invention preferably starts from a polyamic acid which is obtained by reacting pyromellitic dianhydride 10 or 3.3 ', 4.41-benzofenontetracarboxylic dianhydride with an equivalent amount of 4,4'-diaminodiphenyl ether or 4.4' diaminodiphenyl ether-3-carboxamide.

Er wordt op gewezen dat uit de Japanse octrooiaanvrage ’ 50-17816 een gemodificeerd polyamidezuur bekend is dat verkegen wordt 15 door een overmaat van het organisch dianhydride toe te passen in vergelijk met het organisch diamine. Het verkregen gewijzigde polyamidezuur heeft in vergelijk met het normale polyamidezuur dat zoals hierboven is aangegeven verkregen wordt door reactie van equivalente hoeveelheden van het dianhydride en het diamine, een kortere gemiddelde mole-20 cuullengte en een overmaat aan dianhydride eindgroepen. De eindstandige dianhydridegroepen worden volgens de Japanse octrooiaanvrage omgezet met een aminosilaan dat beantwoordt aan de formule NH2-(CH2) 2 — NH — (CH2) 3— Si — (OR.,) 2 k 25 waarin R., een alkylgroep met 1-3 koolstof atomen is en R2 een alkylgroep, alkoxygroep of fenoxygroep is.It is pointed out that from Japanese patent application 50-17816 a modified polyamic acid is known which is obtained by using an excess of the organic dianhydride compared to the organic diamine. The resulting modified polyamic acid has, compared to the normal polyamic acid obtained as indicated above, by reaction of equivalent amounts of the dianhydride and the diamine, a shorter average molecular length and an excess of dianhydride end groups. The terminal dianhydride groups are reacted according to the Japanese patent application with an aminosilane corresponding to the formula NH2- (CH2) 2 - NH - (CH2) 3 - Si - (OR.) 2 k 25 wherein R 1, an alkyl group of 1- Is 3 carbon atoms and R 2 is an alkyl group, alkoxy group or phenoxy group.

Uit proefnemingen is vastgesteld dat de reactie met het voornoemde aminosilaan een onoplosbaar product oplevert dat niet geschikt is voor verdere imidisatie.Experiments have shown that the reaction with the aforementioned aminosilane yields an insoluble product which is not suitable for further imidization.

30 In een gunstige uitvoeringsvorm van de methode volgens de uit vinding wordt het polyamidezuur volgens de formule (2) behandeld met een mono-aminosilaan volgens de formule (1) waarbij 2-60% van de — COOH— groepen zoals weergegeven in formule (2) wordt omgezet in de groep van de formule 35 OAlk — CO —NH—R2—Si—R1 (5) QAlk waarin Alk, R., en R2 de eerder vermelde betekenis hebben.In a favorable embodiment of the method according to the invention, the polyamic acid of the formula (2) is treated with a mono-aminosilane of the formula (1), with 2-60% of the - COOH - groups as shown in formula (2) ) is converted to the group of the formula OAlk - CO —NH — R2 —Si — R1 (5) QAlk wherein Alk, R., and R2 have the previously mentioned meaning.

3202688 PHN 10.389 43202688 PHN 10.389 4

De uitvinding heeft tevens betrekking op een derivaat van polyimide dat verkregen is door imidisatie van het in het voorgaande beschreven derivaat van polyamidezuur.The invention also relates to a polyimide derivative obtained by imidization of the polyamic acid derivative described above.

De imidisatie geschiedt door het derivaat van het polyamide-5 zuur nadat het op een substraat zoals een siliciumplak is aangebracht geleidelijk te verhitten tot een temperatuur van omstreeks 250 tot 350°C. Het verkregen derivaat van polyimide heeft een verbeterde thermo-stabiliteit en vertoont een goede hechting op het substraat.The imidization is effected by gradually heating the derivative of the polyamide-5 acid after it has been applied to a substrate such as a silicon wafer to a temperature of about 250 to 350 ° C. The resulting polyimide derivative has improved thermal stability and shows good adhesion to the substrate.

Als gevolg van de warmtebehandeling treedt volgens de uitvin-10 ding niet slechts de gebruikelijke imidisatie op waarbij de —COCH groepen van het polyamidezuur (formule 2) reageren met de in het polyamidezuur aanwezige aminogroepen die afkomstig zijn van het organisch diamine (formule 4) maar tevens reactie van de —COOH groepen van het polyamidezuur met de aminogroepen afkomstig van het mono-aminosilaan 15 (formule 5).As a result of the heat treatment, according to the invention not only the usual imidization occurs in which the —COCH groups of the polyamic acid (formula 2) react with the amino groups present in the polyamic acid which originate from the organic diamine (formula 4) but also reaction of the -COOH groups of the polyamic acid with the amino groups from the mono-aminosilane 15 (formula 5).

Bij voorkeur wordt het na imidisatie verkregen polyimide derivaat gedurende enige uren gedompeld in water en vervolgens nogmaals verhit op een temperatuur van bij voorbeeld 150°C. Als gevolg van deze nabehandeling vindt waarschijnlijk een hydrolyse plaats van de aan het 20 Si-atoam gebonden alkoxygroepen en vervolgens een condensatie tot —Si — O — Si — structuren.Preferably, the polyimide derivative obtained after imidization is immersed in water for several hours and then heated again at a temperature of, for example, 150 ° C. As a result of this post-treatment, a hydrolysis of the alkoxy groups bound to the Si-atoam is likely to take place and subsequently a condensation to form "Si-O-Si" structures.

De uitvinding wordt met behulp van de volgende uitvoeringsvoor-beelden en aan de hand van de tekening nader toegelicht, waarbij figuren 1 en 2 beide een grafiek voorstellen waarin de resultaten van een hitte-25 behandeling van verschillende polyimidesvolgens de uitvinding zijn weergegeven. Hierbij is op de horizontale as de verhittingstijd in uren weergegeven en op de vertikale as het gewicht in procenten van het aanvankelijke gewicht van het polyimide.The invention is further elucidated by means of the following exemplary embodiments and with reference to the drawing, in which Figures 1 and 2 both represent a graph showing the results of a heat treatment of different polyimides according to the invention. The heating time in hours is shown on the horizontal axis and the weight in percent of the initial weight of the polyimide on the vertical axis.

Uitvoeringsvoorbeeld 1 30 In een droge 500-ml kolf, voorzien van roerder, Calciumchloride buisje en een sluissysteem geschikt voor de toevoeging van vaste stof onder een inerte atmosfeer wordt 10.0 g (49,94 m.mol) 4,4,-diaminodifenylether en 160 g droog, vers gedestilleerd dimethylaceetamide (DMAC) toegevoegd, terwijl de kolfinhoud gedurende de gehele bereiding onder stikstof 35 gehouden wordt. Aan de krachtig geroerde, in ijs gekoelde, oplossing wordt 10,89 g (49,94 m.mol) pyrcmellietzuuranhydride door het sluissysteem toegevoegd. Nadat de reactie voltooid is, wordt de aldus bereide oplossing van polyamidezuur , overgebracht naar een cylindrisch meetvat 8202688 PHN 10.389 5 v van een rotatieviscosimeter. Aan de oplossing wordt 5,52 g (24,98 m.mol) aminopropyltriethyoxysilaan toegevoegd, hetgeen overeenkomt net 25 irol.% betrokken op het carboxylgehalte van het polyamide zuur. De bij het meetvat behorende spindel wordt in het meetvat geplaatst en het 5 vloeistofnengsel af geschoven met een schuif snelheid van 10 sec. . In een tijdsbestek van ongeveer drie uren loopt de viscositeit op van ongeveer 12 poises tot ongeveer 300 poises en blijft hierna constant.Embodiment Example 1 In a dry 500-ml flask equipped with stirrer, Calcium chloride tube and a sluice system suitable for the addition of solid under an inert atmosphere, 10.0 g (49.94 m.mol) of 4,4-diaminodiphenyl ether and 160 g of dry freshly distilled dimethylacetamide (DMAC) is added, keeping the flask contents under nitrogen throughout the preparation. To the vigorously stirred ice-cooled solution, 10.89 g (49.94 mole) of pyrellic acid anhydride is added through the sluice system. After the reaction is complete, the polyamic acid solution thus prepared is transferred to a cylindrical measuring vessel 8202688 PHN 10.389 5 v of a rotary viscometer. 5.52 g (24.98 mole) of aminopropyltriethyoxysilane is added to the solution, which corresponds to 25% by weight based on the carboxyl content of the polyamic acid. The spindle associated with the measuring vessel is placed in the measuring vessel and the liquid mixture is slid off at a sliding speed of 10 sec. . In a span of about three hours, the viscosity ranges from about 12 poises to about 300 poises and remains constant thereafter.

De oplossing wordt in een laagdikte van omstreeks 200 ^um aangebracht op een aluminiumfolie ai vervolgens in een stikstof atmosfeer 10 gedurende 1 uur verhit pp 150°C en daarna nog een uur op 300°C. De folie met het verkregen polyimide derivaat wordt enkele uren in water gedompeld en daarna gedurende 1 uur op 150°C verhit.The solution is applied to an aluminum foil in a layer thickness of about 200 µm, then heated in a nitrogen atmosphere at 150 ° C for 1 hour and then at 300 ° C for another hour. The foil with the obtained polyimide derivative is dipped in water for several hours and then heated at 150 ° C for 1 hour.

Aan het aldus verkregen produkt wordt isotherm bij 500°C in luchtzuurstof een thermogravimetriemeting uitgevoerd. De resultaten 15 zijn weergegeven in de curve 1 (onderbroken lijn) van de grafiek 1.A thermogravimetry measurement is carried out isothermally at 500 ° C in atmospheric oxygen on the product thus obtained. The results 15 are shown in the curve 1 (broken line) of the graph 1.

In de grafiek is horizontaal het aantal uren van verhitting op 500°C weergegeven en verticaal het gewicht van het polyimide uitgedrukt in procenten van het aanvankelijke gewicht. De resultaten van eer; thermo-grafimetrische meting aan het bovengenoemde polyamidezuur dat niet be-20 handeld is met het aminosilaan zijn weergegeven in curve 2 (ononderbroken lijn).The graph horizontally shows the number of hours of heating at 500 ° C and vertically the weight of the polyimide expressed as a percentage of the initial weight. The results of honor; thermo-graphimetric measurements on the above polyamic acid that has not been treated with the amino silane are shown in curve 2 (solid line).

Uitvoerinqsvoorbeeld 2Output example 2

In een kolf zoals beschreven in uitvoeringsvoorbeeld 1 worden 10 g. (49,94 m.mol) 4,4,-diaminodifenylether, 1,35 g. (5,55 m.mol) 25 4,4'-diaminodifenylether-3-carbonamide samengevoegd met 170 g.In a flask as described in embodiment 1, 10 g. (49.94 moles) 4.4-diaminodiphenyl ether, 1.35 g. (5.55 moles) 25 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carboxamide combined with 170 g.

N-methyl-2-pyrrolidon. Gedurende de gehele bereiding wordt de kolf onder een N2-atmosfeer gehouden. Aan de, in ijs gekoelde, oplossing worden onder roeren 6,05 g. (27,75 m.mol) pyromellietzuuranhydride en 8,94 g.N-methyl-2-pyrrolidone. The flask is kept under an N2 atmosphere throughout the preparation. 6.05 g are added to the ice-cooled solution with stirring. (27.75 moles) pyromellitic anhydride and 8.94 g.

(27,75 m.mol) benzofenontetracarbonzuuranhydride toegevoegd. Nadat de 30 reactie voltooid is, wordt de koeling weggenomen en aan de verkregen op- ' lossing van polyamidezuur 2,46 g. (11,09 m.mol) -aminopropyltriethoxy-silaan onder roeren toegevoegd.(27.75 moles) benzophenone tetracarboxylic anhydride. After the reaction is complete, the cooling is removed and 2.46 g is added to the resulting polyamic acid solution. (11.09 mMol) aminopropyltriethoxy silane added with stirring.

De oplossing van het aldus bereid derivaat van polyamidezuur wordt op een aluminiumfolie gebracht en gedurende 1 uur op 350°C verhit.The solution of the polyamic acid derivative thus prepared is placed on an aluminum foil and heated at 350 ° C for 1 hour.

35 Het gevormde derivaat van polyimide werd aan een thermogravimetrische meting onderworpen zoals is aangegeven in uitvoeringsvoorbeeld 1. De resultaten zijn weergegeven in de curve 1 van de grafiek 2. Eenzelfde proef is uitgevoerd met een polyimide derivaat volgens de uitvinding dat 8202688 * *-· ·; PHN 10.389 6 verkregen is volgens bovenstaand voorschrift waarbij in plaats van 2,46 g. van het aminosilaan, 1,23 g. van het aminosilaan wordt toegevoegd. De resultaten zijn weergegeven in curve 2 van grafiek 2.The polyimide derivative formed was subjected to a thermogravimetric measurement as indicated in Example 1. The results are shown in curve 1 of the graph 2. The same test was carried out with a polyimide derivative according to the invention which 8202688 * * - · · ; PHN 10.389 6 was obtained according to the above procedure, whereby instead of 2.46 g. of the amino silane, 1.23 g. of the amino silane is added. The results are shown in curve 2 of graph 2.

Ook is een vergelijkingsproef verricht met een polyimide dat verkregen 5 is volgens bovenstaand voorbeeld doch waarbij geen aminosilaan is toegepast. De resultaten zijn weergegeven in curve 3 van grafiek 2.A comparative test has also been carried out with a polyimide obtained according to the above example, but without the use of aminosilane. The results are shown in curve 3 of graph 2.

10 15 20 25 30 35 820268810 15 20 25 30 35 8 202 688

Claims (6)

1. Polyamidezuur derivaat waarvan 2-60% van de in het polyamidezuur aanwezige carboxylgroepen is omgezet met een mono-aminosilaan.1. Polyamic acid derivative of which 2-60% of the carboxyl groups present in the polyamic acid have been reacted with a mono-aminosilane. 2. Polyamidezuur derivaat volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat 10-40% van de in het polyamidezuur aanwezige carboxylgroepen is 5 omgezet met een mono-aminosilaan.2. A polyamic acid derivative according to claim 1, characterized in that 10-40% of the carboxyl groups present in the polyamic acid are reacted with a mono-amino silane. 3. Polyamidezuur derivaat volgens conclusies 1 of 2, met het kenmerk, dat de carboxylgroepen zijn omgezet met een roomo-aminosilaan dat beantwoordt aan de formule OAlk iPolyamic acid derivative according to claims 1 or 2, characterized in that the carboxyl groups are reacted with a roomo-aminosilane corresponding to the formula OAlk i 10 Rj— Si— R2 — NH2 (1) OAlk waarbij Alk een alkylgroep met 1-4 koolstof atomen is, R-j een alkoxygroep met 1-3 koolstof atomen, een alkylgroep met 1-3 15 koolstof atomen of een benzylgroep is, en R2 een bivalent organisch radicaal is dat beantwoordt aan de formule — (CH2)^— , waarin m = 1-4, of aan de formule_^ ^ ^Rj - Si - R2 - NH2 (1) OAlk where Alk is an alkyl group of 1-4 carbon atoms, Rj is an alkoxy group of 1-3 carbon atoms, an alkyl group of 1-3 carbon atoms or a benzyl group, and R2 is a bivalent organic radical corresponding to the formula - (CH2) ^ -, where m = 1-4, or to the formula_ ^ ^ ^ 4. Werkwijze voor de- vervaardiging van het polyamidezuur derivaat 20 zoals is aangegeven in conclusie 1, 2 of 3, met het kenmerk, dat een oplossing van polyamidezuur in een organisch oplosmiddel wordt behandeld met het mono-aminosilaan.4. Process for the manufacture of the polyamic acid derivative 20 as defined in claim 1, 2 or 3, characterized in that a solution of polyamic acid in an organic solvent is treated with the mono-amino silane. 5. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat een polyamidezuur dat beantwoordt aan de formule 25 - -HN-OCL COOH ^/R4\ (2) HOO^'CCHNH-Rr-L 'iJn waarin R^ een bivalent organisch radicaal is dat gekozen is uit de groep bestaande uit: * O· 0-0· \ en / \--NHC0i 8202688 PHN 10.389 8 4 waarin een bivalent organisch radicaal is dat gekozen is uit de groep bestaande uit: —(CH0) , waarin m = 1-4, 2 m —CO— , — 0 — ,—SO —, —SO2— en —CCNH— , 5 en Rg een waterstofatoom of een —CCNH2 groep is, R^ een tetravalent organisch radicaal is gekozen uit de groep bestaande uit: 10 ' ' waarin Ry een bivalent organisch radicaal is gekozen uit de groep bestaande uit: —{CHO ·— , waarin m = 1-4, 2 m —CO— , — 0 — , —SO— , en — S02— 15 en n is tenminste gelijk aan 15, wordt behandeld met een mono-aminosilaan van de formule OAlk R. — Si — R~ — NH« 1 | 2 2 OAlk 20 waarin Alk, R^ en R2 de in conclusie 3 vermelde betekenis hebben.5. Process according to claim 4, characterized in that a polyamic acid corresponding to the formula 25 - -HN-OCL COOH ^ / R4 \ (2) HO ^ 'CCHNH-Rr-L' in which R ^ is a bivalent organic radical is selected from the group consisting of: * O · 0-0 · \ and / \ - NHC0i 8202688 PHN 10.389 8 4 where is a bivalent organic radical selected from the group consisting of: - (CH0), where m = 1-4, 2 m —CO—, - 0 -, —SO —, —SO2—, and —CCNH—, and Rg is a hydrogen atom or a —CCNH2 group, R ^ is a tetravalent organic radical selected from the group consisting of: 10 '' where Ry is a bivalent organic radical selected from the group consisting of: - {CHO - -, where m = 1-4, 2 m —CO—, - 0 -, —SO—, and - SO2 - 15 and n is at least equal to 15, is treated with a mono-aminosilane of the formula OAlk R. - Si - R ~ - NH «1 | 2Alk 20 wherein Alk, R 1 and R 2 have the meaning as defined in claim 3. 6. Polyimide derivaat verkregen door imidisatie van het polyamide-zuur derivaat zoals is aangegeven in conclusie 1, 2 of 3. 25 30 35 32026886. Polyimide derivative obtained by imidization of the polyamic acid derivative as claimed in claim 1, 2 or 3. 25 30 35 3202688
NL8202688A 1982-07-05 1982-07-05 Polyamide acids having carboxy gps. reacted with mono:amino:silane - giving polyimide(s) with improved heat stability NL8202688A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8202688A NL8202688A (en) 1982-07-05 1982-07-05 Polyamide acids having carboxy gps. reacted with mono:amino:silane - giving polyimide(s) with improved heat stability

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8202688 1982-07-05
NL8202688A NL8202688A (en) 1982-07-05 1982-07-05 Polyamide acids having carboxy gps. reacted with mono:amino:silane - giving polyimide(s) with improved heat stability

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8202688A true NL8202688A (en) 1984-02-01

Family

ID=19839972

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8202688A NL8202688A (en) 1982-07-05 1982-07-05 Polyamide acids having carboxy gps. reacted with mono:amino:silane - giving polyimide(s) with improved heat stability

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL8202688A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4624888A (en) * 1985-09-30 1986-11-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Acetylene (ethynyl) terminated polyimide siloxane and process for preparation thereof
US4741988A (en) * 1985-05-08 1988-05-03 U.S. Philips Corp. Patterned polyimide film, a photosensitive polyamide acid derivative and an electrophoretic image-display cell

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4741988A (en) * 1985-05-08 1988-05-03 U.S. Philips Corp. Patterned polyimide film, a photosensitive polyamide acid derivative and an electrophoretic image-display cell
US4624888A (en) * 1985-09-30 1986-11-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Acetylene (ethynyl) terminated polyimide siloxane and process for preparation thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3534151B2 (en) Polyimide precursor composition and polyimide film
EP0216007B1 (en) Process for producing organic silicon-terminated polyimide precursor and polyimide
US4654415A (en) Method for the preparation of polyimide and polyisoindoloquinazoline dione precursors
US5041513A (en) Polyimide resin compositions
JPH025774B2 (en)
KR840000807B1 (en) Method of producing for polyimide-isoindroquinazolinedione-silicone copolymer resin
JPH0377228B2 (en)
EP0262446A2 (en) Photosensitive amphiphilic high polymers and process for their production
NL8202688A (en) Polyamide acids having carboxy gps. reacted with mono:amino:silane - giving polyimide(s) with improved heat stability
US5063115A (en) Electronic device coated with a polyimide coating composition
US5376733A (en) Precursor composition capable of yielding a polyimidesilicone resin
KR910008341B1 (en) Silicon-containing polyimide precursor cured products there from and preparation thereof
US4609700A (en) Soluble imide oligomer and a method for producing the same
EP0260833B1 (en) Process for producing polyamide acid having siloxane bonds and polyimide having siloxane bonds and isoindoloquinazolinedione rings
KR920004605B1 (en) Process for the preparation of soluble imide oligomer
JP2515306B2 (en) Method for producing polyamic acid having siloxane bond and polyimide having siloxane bond and isoindoloquinazolinedione ring
JP2607104B2 (en) Silicon-containing polyimide cured product and method for producing the same
JP3551030B2 (en) Polyamic acid solution giving low moisture absorption polyimide and process for preparing polyimide
JPS59204619A (en) Aromatic polyamic acid solution composition
JPS62230826A (en) Production of silicon-modified polyimide
JPH024614B2 (en)
JP4161388B2 (en) Coating composition
JPS6260415B2 (en)
JP3626214B2 (en) Silicon-containing polycarboxylic acid amide and process for producing the same
JPS5918221B2 (en) Manufacturing method of polyimide coated copper plate

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed