NL8100569A - Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. - Google Patents
Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8100569A NL8100569A NL8100569A NL8100569A NL8100569A NL 8100569 A NL8100569 A NL 8100569A NL 8100569 A NL8100569 A NL 8100569A NL 8100569 A NL8100569 A NL 8100569A NL 8100569 A NL8100569 A NL 8100569A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- aluminum
- bath
- added
- electrolyte liquid
- lithium
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/42—Electroplating: Baths therefor from solutions of light metals
- C25D3/44—Aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Secondary Cells (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
ΡΗΒΓ 9950 1 N.V.Philips* Gloeilampenfabrieken te Eindhoven "Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium".
De uitvinding heeft betrekking op een elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van duktiel aluminium op een elektrisch geleidend substraat, de werkwijze voor het langs galvanische weg neer-slaan van duktiel aluminium op een substraat en op de aldus verkregen 5 produkten.
Uit het DE-PS 17 71 116 is een dergelijke vloeistof bekend, die lithiumhydride en/of lithiumaluminiumhydride en minstens’ één alu-miniumhalogenide, opgelost in tetrahydrofuraan of halogeen- en/of methylderivaten daarvan, bevat. Er moet hierbij aan de voorwaarde wor-10 den voldaan, dat 1 ^ n ^ 3, waarbij
n = x - V4Z Y + 1/4Z
15 In deze vergelijking betekent X: het totaal aantal molen opgelost aluminiumhalogenide Y: V " " " " lithiumaluminiumhydride Z: ” " " " " lithiumhydride
Deze vloeistoffen bezitten echter een geringe stabiliteit, 20 waarbij het tetrahydrofuraan of de derivaten daarvan worden omgezet tot butanol. Bovendien bezitten zij een laag geleidingsvermogen, dat bij waarden boven n = 3 zelfs nog lager wordt.
Doel van de uitvinding is een elektrolytvloeistof, die vrij is van de bovengenoemde bezwaren.
25 Verrassenderwijs bleek nu volgens de uitvinding, dat een bijzonder stabiel bad met een hoog geleidingsvermogen verkregen wordt bij een waarde n, zoals hierboven gedefinieerd,die groter is dan 3, wanneer het bad bovendien een hoeveelheid lithiumaluminiumchloride bevat.
30 Volgens een voorkeursuitvoering van de uitgevonden vloei stof voor het galvanische neerslaan van aluminium heeft de grootheid neen waarde tussen 4 en 5.
Bij voorkeur wordt het bad volgens de uitvinding bereid door 81 00 56 9 r y ’ «*·· PHN 9950 . 2 het lithiumaluminiumchloride toe te voegen in de vorm van een vaste kris-tallijne verbinding LiAlCl^ .irtEHF (THF = tetrahydrofuraan), waarbij m de waarden 2, 4 of 8 kan bezitten.
Bij de bereiding kan 'echter ook LiCl gebruikt worden, dat ver-5 volgens met het aanwezige AlCl^ reageert onder vorming van LiAlCl^. Men dient dan uiteraard de hoeveelheid AlCl^ aan te passen.
Het verbeterde geleidingsvermogen van de galvanische vloeistoffen ten opzichte van die volgens de stand van de techniek heeft, zoals bekend, grote voordelen. Het ohmse verval in de oplossing gedurende de elektro-10 lyse is kleiner en daardoor zal het bad minder opgewarmd worden. Het elektrisch rendement zal dus beter zijn.
Verder wordt er een betere secundaire stroomlijnverdeling verkregen, waardoor de aangroei van. het galvanische neerslag gelijkmatiger wordt dan bij vloeistoffen met een lager geleidingsvermogen.
15 Ter toelichting van de uitvinding volgen thans enige uitvoe- ringsvoorbeelden.
Voorbeeld 1♦
Aan 1 1 watervrij tetrahydrofuraan wordt 0,2 mol LiAlH^ en 1,04 mol watervrij AlCl^ toegevoegd. De grootheid n, zoals hierboven gede-20 finieerd, bedraagt 5,20.
In een apart vat worden onder argon AlCl^. 2 THF en LiCl in equimolaire verhouding tezamengebracht, waardoor in oplossing de verbinding LiAlCl^.2 THF wordt gevormd. Dit mengsel wordt in de bovengenoemde LiAlHj - AlClg oplossing opgelost, in een zodanige hoeveelheid, dat de 25 Li+-concentratie 0,8 mol/liter bedraagt. Het soortelijk geleidingsvermo- -1 gen X van de oplossing bedraagt 10,2 mScm . De badspanning bij een 2 stroamdichtheid van 1 A/dm bedraagt 1,2 V. Dit betékent, dat de in het bad ontwikkelde warmte in evenredigheid met de badspanning t.o.v. de eerstgenoemde oplossing kleiner is. Goed aluminium kan aangehracht worden tot 2 30 6 A/dm . Dit bad bezit een zodanige stabiliteit dat het na 3 maanden zijn volledige werkzaamheid behouden heeft. Een bad dat 0,55 mol LiAlH^ en 1 mol AlClg in 1 1 tetrahydrofuraan bevat (n=1,8) is na 2 maanden inactief geworden.
Voorbeeld 2.
35 Aan 1 1 watervrij tetrahydrofuraan wordt 0,3 mol LiAlH^ en 1,08 mol Aid-, toegevoegd (n=3,60). Het soortelijke geleidingsvermogen J -1 (x) van deze oplossing bedraagt 7,6 mScm .
Aan deze oplossing wordt watervrij LiCl toegevoegd tot een concentratie van 0,49 mol/1, waardoor in oplossing de verbinding 8 1 0 0 56 8 τ'- ^ y ΡΗΝ 9950 3
LiAlCl. gevormd, wardt. Het specifiek geleidingsvermogen wordt daar- ’ -1 2 door 9/4 mScm . De badspanning bij een stroosmdichtheid van 1 A/dm bedraagt 1,36V. Goed ductiel aluminium kan worden neergeslagen tot 2 een stroomdichtheid van 5/dm .
5 Ook dit bad heeft na 3 maanden zijn volledige werkzaamheid behouden.
Voorbeeld 3.
Aan 1 1 watervrij tetrahydrofuraan wordt onder argon 0,2 mol LiAlH^ en 1,1 mdAlClg toegevoegd ( n= 5,1) Hier aan wordt 0,8 mol 10 LiAlCl..8 THF toegevoegd. Het soortelijk geleidingsvermogenvan de ^ -1 oplossing bedraagt 8,7 mScm . De badspanning bij een strocmdichtheid 2 van 1 A/dm bedraagt 1,4 V. Goed aluminium kan worden neergeslagen tot 2 5A/dm . Het bad geeft na 4 maanden nog goede aluminium lagen.
Voorbeeld 4.
15 Aan 1 1 watervrij tetrahydrofuraan wordt onder argon 0,2 mol
LiAlH4 en 0,7 mol AlCl^ toegevoegd ( n= 3,5). In een apart vat worden onder argon AlCl^. 2 THF en LiCl in equimolaire verhouding tezamenge-bracht, waardoor in oplossing de verbinding LiAlCl^.2 THF wordt gevormd. Dit mengsel wordt in de bovengenoemde LiAlH^- AlCl^ oplossing qpgelost, 20 in een zodanige hoeveelheid dat de totale Li+-concentratie 0,8 mol/liter bedraagt. Het soortelijk geleidingsvermogen van de oplossing bedraagt -1 2 11,5 mS cm .De badspanning bi] een strocmdichtheid van 1 A/dm bedraagt 2 1,1 V. Goed aluminium kan worden neergeslagen tot 5 A/dm . Dit bad behoudt zijn goede werkzaamheid gedurende ten minste 4 maanden.
25 Voorbeeld 5.
Aan 1 1 watervrij tetrahydrofuraan wordt onder argon 0,08 mol. LiAlH4 en 1,05 mol AlCl^ toegevoegd (n= 13,1). In een apart vat worden onder argon AlCl^. 2 THF en LiCl in equimolaire verhouding te-
zamengebracht, waardoor in de oplossing de verbinding LiAlCl^.2 THF
30 wordt gevormd. Dit mengsel wordt in het bovengenoemde LiAlH^-AlCl^- mengsel opgelost in een zodanige hoeveelheid, dat de totale Li+-con- centratie 0,5 mol/liter bedraagt. Het soortelijk geleidingsvermogen -.1 bedraagt; 9,5 mS cm .De badspanning bij een strocmdichtheid van 1 A/ 2 2 dm bedraagt 1 β V. Goed aluminium kan worden neergeslagen tot 4 A/dm .
35 Het bed blijft minstens gedurende 4 maanden zijn werkzaamheid behouden.
Voorbeeld 6.
Aan 1 1 watervrij tetrahydrofuraan wordt onder argon 0,08 mol. LiAlHj en 0,85 mol. AlCl^ toegevoegd (n= 10,6). In een apart vat 8 1 0 0 5 6 9 EHN 9950 4 worden onder argon in equimolaire verhouding LiCl en AlCl^ · 2 THF te-
samengebracht, waardoor in oplossing de verbinding LiAlCl^.2 THF
wordt gevormd. Dit mengsel wordt opgelost in de bovengenoemde oplos- sing in een zodanige hoeveelheid, dat de totale Li -concentratie 5 0,45 mol/liter bedraagt. Het soortelijk geleidingsvermogen van de oplos- —1 sing bedraagt: 9,0 mScm . De badspanning bij een strocndichtheid 2 van 1 Ά/dm bedraagt 1,35V. Goed aluminium kan worden neergeslagen tot 2 7 A/dm . Het bad blijft tenminste gedurende 3 maanden goed aluminium afzetten.
10 15 20 25 30 8 1 0 0 56 9 35
Claims (6)
1. Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van öuk-tiel aluminium op een substraat, bevattende lithiumhydride en/of li-tMumalurniiiiumhydride en minstens één aluminiumhalogenide, opgelost in tetrahydrofuraan of halogeen- en/of methylderivaten daarvan, met het 5 kenmerk, dat n, gedefinieerd als n= X ~ V4Z Y - 1/4Z 10 waarin X het totaal aantal molen opgelost aluminiumhalogenide, Y ” " " " " lithiumaluminiumhydride en Z " ” " " " lithiumhydride is, groter is dan 3 en aan welk bad bovendien een hoeveelheid alkalialumi- niumchloride is toegevoegd. 15
2. Elektrolytvloeistof volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat aan het bad lithiumaluminiumchloride is toegevoegd.
3. Elektrolytvloeistof volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat n een waarde tussen 4 en 5 heeft.
4. Werkwijze voor de bereiding van een elektrolytvloeistof 20 + + volgens één van de conclusies 1 t/m 3, met het kenmerk, dat het alka-lialuminiumchloride wordt toegevoegd in de vorm van de kristallijne verbinding AlCl^.m THF, waarin m de waarde 2,4 of 8 heeft.
5. Werkwijze voor het galvanisch neerslaan van duktiel aluminium op een elektrisch geleidend substraat onder toepassing van een e-lektrolytvloeistof volgens één van de conclusies 1 t/m 3.
6. Substraat, dat met een volgens conclusie 5 verkregen laag duktiel aluminium is voorzien. 30 81 0 0 56 0 35
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8100569A NL8100569A (nl) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. |
US06/339,933 US4381975A (en) | 1981-02-06 | 1982-01-18 | Aluminium electroplating solution |
DE8282200098T DE3263459D1 (en) | 1981-02-06 | 1982-01-27 | Aluminium electroplating solution |
EP82200098A EP0057955B1 (en) | 1981-02-06 | 1982-01-27 | Aluminium electroplating solution |
JP57015035A JPS57145994A (en) | 1981-02-06 | 1982-02-03 | Electrolyte of aluminum and production thereof |
CA000395586A CA1193994A (en) | 1981-02-06 | 1982-02-04 | Aluminium electroplating solution |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8100569A NL8100569A (nl) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. |
NL8100569 | 1981-02-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8100569A true NL8100569A (nl) | 1982-09-01 |
Family
ID=19836976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8100569A NL8100569A (nl) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4381975A (nl) |
EP (1) | EP0057955B1 (nl) |
JP (1) | JPS57145994A (nl) |
CA (1) | CA1193994A (nl) |
DE (1) | DE3263459D1 (nl) |
NL (1) | NL8100569A (nl) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3202265A1 (de) * | 1982-01-25 | 1983-07-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Elektrolyt zur galvanischen abscheidung von aluminium |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3595760A (en) * | 1967-04-07 | 1971-07-27 | Nisshin Steel Co Ltd | Electrodeposition of aluminium |
-
1981
- 1981-02-06 NL NL8100569A patent/NL8100569A/nl not_active Application Discontinuation
-
1982
- 1982-01-18 US US06/339,933 patent/US4381975A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-01-27 EP EP82200098A patent/EP0057955B1/en not_active Expired
- 1982-01-27 DE DE8282200098T patent/DE3263459D1/de not_active Expired
- 1982-02-03 JP JP57015035A patent/JPS57145994A/ja active Granted
- 1982-02-04 CA CA000395586A patent/CA1193994A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS621479B2 (nl) | 1987-01-13 |
EP0057955A2 (en) | 1982-08-18 |
DE3263459D1 (en) | 1985-06-20 |
US4381975A (en) | 1983-05-03 |
JPS57145994A (en) | 1982-09-09 |
EP0057955B1 (en) | 1985-05-15 |
EP0057955A3 (en) | 1982-08-25 |
CA1193994A (en) | 1985-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhao et al. | Electrodeposition of aluminium from nonaqueous organic electrolytic systems and room temperature molten salts | |
Deferm et al. | Electrodeposition of indium from the ionic liquid trihexyl (tetradecyl) phosphonium chloride | |
JPS58171591A (ja) | アルミニウム電気渡金用電解質およびその使用法 | |
Kamavaram et al. | Electrorefining of aluminum alloy in ionic liquids at low temperatures | |
US4152220A (en) | Electroplating solutions for the electrodeposition of aluminum and method of making same | |
Li et al. | Study of the electrodeposition of Al–Mn amorphous alloys from molten salts | |
CN107190282A (zh) | 一类室温熔融盐及其制备方法和应用 | |
NL8100569A (nl) | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. | |
Li et al. | The Electrochemical Co-reduction of Mg-Al-Y Alloys in the LiCl-NaCl-MgCl 2-AlF 3-YCl 3 Melts | |
Brenner et al. | Electrodeposition of magnesium and beryllium from organic baths | |
US5007991A (en) | Organoaluminum electrolytes for the electrolytic deposition of high-purity aluminum | |
Chai et al. | The role of chelators in electrodeposition of Cu-As alloys from copper electrolyte | |
NL194005C (nl) | Een werkwijze, bad en cel voor het elektrolytisch afzetten van tin-bismutlegeringen. | |
Menzies et al. | The Electrodeposition of Copper from Non-Aqueous Solutions: I. General Review and Preliminary Studies | |
O'Sullivan | Studies in the electro-deposition of nickel. Part I. The effect of pH and of various buffering agents; the presence of oxygen in the deposits | |
EP0057954B1 (en) | Aluminium electroplating solution | |
JP7334710B2 (ja) | 発電装置および発電方法 | |
HU177164B (en) | Method for cleaning aluminium alloys | |
SU763486A1 (ru) | Электролит дл нанесени покрытий сплавом олово-висмут | |
US4073704A (en) | Method for magnesium production using tungsten or molybdenum | |
Itoh et al. | The Forms of Electrodeposits From AlCl 3-NaCl Baths at Moderate Temperatures--The Electrodeposition of Aluminum from Aluminum Chloride Baths, Pt. 1 | |
SU1565920A1 (ru) | Электролит дл осаждени аморфного железо-фосфорного сплава | |
RU2205901C1 (ru) | Способ электроосаждения цинка | |
SU603709A1 (ru) | Электролит серебрени | |
JPS61243190A (ja) | 溶融塩浴による電気めつき方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |