NL8001999A - BATH FOR SILVER PLATING WITH AN ALLOY OF GOLD AND SILVER AND A METHOD FOR PLATING THEREOF. - Google Patents
BATH FOR SILVER PLATING WITH AN ALLOY OF GOLD AND SILVER AND A METHOD FOR PLATING THEREOF. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8001999A NL8001999A NL8001999A NL8001999A NL8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- bath
- silver
- water
- cyanide
- potassium
- Prior art date
Links
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 24
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 24
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 title description 9
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 title description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 8
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- HKSGQTYSSZOJOA-UHFFFAOYSA-N potassium argentocyanide Chemical compound [K+].[Ag+].N#[C-].N#[C-] HKSGQTYSSZOJOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(1+);dicyanide Chemical compound [K+].[Au+].N#[C-].N#[C-] XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 claims description 5
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WQMVVOKCUPKPKL-UHFFFAOYSA-L potassium;silver;5-oxo-3,4-dihydropyrrol-2-olate Chemical compound [K+].[Ag+].[O-]C1=NC(=O)CC1.[O-]C1=NC(=O)CC1 WQMVVOKCUPKPKL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 claims description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- -1 alkali metal gold cyanide Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000001508 potassium citrate Substances 0.000 description 3
- 229960002635 potassium citrate Drugs 0.000 description 3
- QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K potassium citrate (anhydrous) Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 235000011082 potassium citrates Nutrition 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- MIAJZAAHRXPODB-UHFFFAOYSA-N cobalt potassium Chemical compound [K].[Co] MIAJZAAHRXPODB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 2
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-KLVWXMOXSA-N L-gluconic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-KLVWXMOXSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUJVUFPPZRIBG-UHFFFAOYSA-N [Co](C#N)(C#N)C#N.[K] Chemical compound [Co](C#N)(C#N)C#N.[K] ASUJVUFPPZRIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 229910000337 indium(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H indium(iii) sulfate Chemical compound [In+3].[In+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical class [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- IIQJBVZYLIIMND-UHFFFAOYSA-J potassium;antimony(3+);2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [K+].[Sb+3].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O IIQJBVZYLIIMND-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- WYCFMBAHFPUBDS-UHFFFAOYSA-L silver sulfite Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])=O WYCFMBAHFPUBDS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RXWQRLQUJZRVHB-UHFFFAOYSA-M silver;5-oxo-3,4-dihydropyrrol-2-olate Chemical compound [Ag+].[O-]C1=NC(=O)CC1 RXWQRLQUJZRVHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/46—Electroplating: Baths therefor from solutions of silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/64—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of silver
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
N.O. 28.669 "1“N.O. 28.669 "1"
Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver v en een werkwijze voor het platteren daarmede.Bath for plating with silver and an alloy of gold and silver v and a plating process therewith.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor de verbetering van de stabiliteit van de pH en het glans gevende effect van een water bevattend bad dat weinig of geen vrij cyanide bevat dat dient te worden gebruikt voor de elektrolytische afscheiding van 5 zilver of zilverlegeringen alsmede op een bad dat bestaat uit een glans gevend middel op basis van een imine, een oplosbaar zilverzout, 0-5 gev.% van een oplosbaar legerend metaalzout, boorzuur en een ammonium- of alkalimetaalhydroxide voor de instelling van de pH op 8,0 tot ongeveer 9>5· 10 Het gebruik van boorzuur als component in water bevattende baden voor de €.ektrolytische afscheiding van verscheidene metalen waartoe zilver en zilverlegeringen behoren is in het algemeen bekend. Typische baden van het zure type zijn bijvoorbeeld in de Amerikaanse octrooischriften 3-833-488 en 2.967-135 beschreven.The invention relates to a method for improving the stability of the pH and the gloss effect of an aqueous bath containing little or no free cyanide to be used for the electrolytic deposition of silver or silver alloys as well as a bath consisting of an imine based brightener, a soluble silver salt, 0-5% by weight of a soluble alloying metal salt, boric acid and an ammonium or alkali metal hydroxide to adjust the pH to 8.0 to about 9 The use of boric acid as a component in aqueous baths for the electrolytic deposition of various metals including silver and silver alloys is well known. Typical acidic baths are described, for example, in U.S. Pat. Nos. 3-833-488 and 2,967-135.
15 Het gebruik van water bevattende baden voor het elektrolytische afscheiden die een basische pH hebben, dat wil zeggen een pH groter dan 7»0, behoren echter tot een meer recente ontwikkeling. Gewezen wordt bijvoorbeeld op het Amerikaanse octrooischrift 3-864*222, waarbij men polyethyleeniminen in baden voor het platteren met goud 20 en goudlegeringen gebruikt als hulpmiddel voor het handhaven van de glans van het afgescheiden metaal en voor het mogelijk maken van een uitbreiding van het pH-gebied in het basische gebied. Echter moet de toepassing van glans gevende middelen van het imine-type in niet-zure elektrolytische baden, in het bijzonder in baden die weinig 25 of geen vrij cyanide bevatten, die duidelijk voordelen heeft, worden opgewogen tegen aanzienlijke bijkomende moeilijkheden in de beheersing van de pH van dergelijke baden. Niet te beheersen veranderingen in de pïï leveren vaak een matte ongelijkmatige elektrolytische afscheiding en een snelle verslechtering van het bad tijdens ^ het gebruik op.However, the use of water-containing electrolytic deposition baths having a basic pH, ie, a pH greater than 70%, is a more recent development. Reference is made, for example, to U.S. Pat. No. 3-864 * 222, wherein polyethyleneimines in gold plating baths and gold alloys are used as an aid in maintaining the gloss of the deposited metal and allowing an extension of the pH region in the basic region. However, the use of imine-type brighteners in non-acidic electrolytic baths, particularly in baths containing little or no free cyanide, which clearly has advantages, must be overcome with significant additional difficulties in controlling the pH of such baths. Uncontrollable changes in the pie often result in a matte uneven electrolytic deposition and rapid deterioration of the bath during use.
Aan de uitvinding lag het probleem ten grondslag een methode te verschaffen voor het terugbrengen tot een minimum van de verandering van de pH tijdens de elektrolytische afscheiding met de voordelen van een water bevattend basisch bad met een kleine concentra-55 tie vrije cyaniden of zonder vrije cyaniden.The invention was based on the problem of providing a method for minimizing the change in pH during the electrolytic deposition with the advantages of an aqueous basic bath with a small concentration of free cyanides or without free cyanides .
Voorts lag aan de uitvinding het probleem ten grondslag een stabiel basisch water bevattend bad voor de elektrolytische afschel- 800 1 9 99 -2- 5* r * ding van zilver of zilverlegeringen te verschaffen.Furthermore, the invention was based on the problem of providing a stable basic water-containing bath for the electrolytic deposition of silver or silver alloys.
Gevonden werd, dat basische water bevattende baden voor het elek- trolytische platteren met zilver of zilverlegeringen, die weinig of uit geen vrij cyanide bevatten en die bestaaiya) een oplosbare zilverver-5 binding; b) 0 tot ongeveer 5 gew.% van een oplosbaar zout van een legerend metaal; c) een elektrolyt ter bevordering van de elektrische geleiding; d) een effectieve hoeveelheid van een glans gevend middel van het imine-type* doelmatig kan worden gestabiliseerd door daaraan toevoegen van 10 ongeveer 0,5 tot 10 gew.% boorzuur en ten minste één alkalimetaal-hydroxide of ammoniumhydrcod.de in een hoeveelheid die is vereist voor de instelling van de pH van het water bevattende bad binnen het gebied van 8,0 tot ongeveer 9>5·It was found that basic aqueous baths for electrolytic plating with silver or silver alloys containing little or no free cyanide and containing a soluble silver compound; b) 0 to about 5% by weight of a soluble alloy metal salt; c) an electrolyte to promote electrical conductivity; d) an effective amount of an imine-type * brightener can be effectively stabilized by adding thereto about 0.5 to 10% by weight of boric acid and at least one alkali metal hydroxide or ammonium hydride in an amount which is required to adjust the pH of the aqueous bath within the range of 8.0 to about 9> 5
Als oplosbare zilververbinding in het bad kan nagenoeg elke oplos-15 bare zilververbinding worden gebruikt, zoals bijvoorbeeld kaliumzilver-cyanide, kaliumzilversuccinimide of een zilversulfiet.As a soluble silver compound in the bath, almost any soluble silver compound can be used, such as, for example, potassium silver cyanide, potassium silver succinimide or a silver sulfite.
Indien een zilverlegering elektrolytisch dient te worden afgescheiden is het eveneens doelmatig een oplosbaar zout van een legerend metaal in een hoeveelheid van ten hoogste 5 gev.% (binnen het gebied van 20 0-5 gew.%) en bij voorkeur ongeveer 0,05 tot ongeveer 20 g per liter van de oplossing te gebruiken. In een dergelijk geval kan het legerende metaal bij voorkeur, echter niet uitsluitend, één of meer van de metalen kobalt, nikkel, koper, arseen, indium, palladium of andere metalen naast zilver zijn, afhankelijk van het doel van gebruik van 25 het te verkrijgen geplatteerde produkt.If a silver alloy is to be electrolytically separated, it is also expediently a soluble salt of an alloy metal in an amount of up to 5% by weight (within the range of 0-5% by weight) and preferably about 0.05 to use about 20 g per liter of the solution. In such a case, the alloying metal may preferably, but not exclusively, be one or more of the metals cobalt, nickel, copper, arsenic, indium, palladium or other metals in addition to silver, depending on the purpose of using the obtainable plated product.
Geschikte elektrolytcomponenten die de elektrische geleiding bevorderen kunnen de gebruikelijke typen zijn en zijn bijvoorbeeld zouten van fosfrzuur, fosfonzuur, fosfeenzuur, citroenzuur, maleine-zuur, mierezuur en ook andere toevoegsels zoals polyaminoazijnzuren, 50 organische fosfienzuren, fosforzuren of carboxymethyl-derivaten van organische fosforzuren. Een dergelijke elektrolyt of dergelijke elektrolyten zijn doelmatig in hoeveelheden van ongeveer 20 tot ongeveer 100 g per liter van de oplossing in het bad aanwezig, waarbij deze hoeveelheden echter niet zijn beperkt tot het aangegeven gebied.Suitable electrolyte components that promote electrical conductivity can be the conventional types and include, for example, salts of phosphoric, phosphonic, phosphenic, citric, maleic, formic and also other additives such as polyaminoacetic acids, organic phosphinic acids, phosphoric acids or carboxymethyl derivatives of organic phosphoric acids. Such an electrolyte or such electrolytes are conveniently present in amounts of from about 20 to about 100 grams per liter of the solution in the bath, however, these amounts are not limited to the indicated range.
35 Tot de glans gevende middelen volgens de uitvinding van het imine-type behoren cyclische of lineaire verbindingen van het imine-type zoals succinimide of saccharine en ook polyethyleenimine; een werkzame hoeveelheid volgens de uitvinding kan doelmatig van ongeveer 0,1 gew.% tot 3 gew.% betrokken op de oplossing variëren. Indien ge-40 wenst kunnen één of meer van de vermelde toevoegsels worden gebruikt.Imine-type brighteners of the invention include imine-type cyclic or linear compounds such as succinimide or saccharin and also polyethyleneimine; an effective amount of the invention can conveniently range from about 0.1 wt% to 3 wt% based on the solution. If desired, one or more of the listed additives may be used.
8001999 -3-8001999 -3-
De hoeveelheid boorzuur volgens de uitvinding kan doelmatig van 'v ongeveer 0,5 tot 10 gew.% variëren, bij voorkeur vaiiongeveer 0,5 tot 5 geTiT.%.The amount of boric acid according to the invention can suitably vary from about 0.5 to 10% by weight, preferably from about 0.5 to 5% by weight.
Haast het tevoren vermelde kan het water bevattende bad volgens 5 de uitvinding voorts chelaten vormende verbindingen bevatten, zoals kobalt- of nikkel-sulfaten of chelaten van de basis-metalen met ni-trilotriazijnzuur of ethyleendiaminotetraazijnzuur en dergelijke.In addition to the foregoing, the aqueous bath of the invention may further contain chelating compounds such as cobalt or nickel sulfates or chelates of the base metals with nitrolotriacetic acid or ethylenediaminotetraacetic acid and the like.
De pH van het bad wordt binnen het gebied van 8,0 tot ongeveer 9,5 ingesteld, bij voorkeur op ongeveer 9>0^door toevoeging van een 10 ammoniumhydroxide of «en alkalimetaalhydroxide zoals natrium- of kaliumhydroxide.The pH of the bath is adjusted within the range of 8.0 to about 9.5, preferably to about 9> 0 ^ by adding an ammonium hydroxide or alkali metal hydroxide such as sodium or potassium hydroxide.
Voor het elektrolytische platteren volgens de werkwijze van de uitvinding wordt in het algemeen boorzuur aan het bad toegevoegd dat reeds de zilver- en/of legerende metaalzouten bevat, de pH van het 15 bad wordt met een alkalimetaalhydroxide op 8,0 tot ongeveer 9>5 ingesteld en de trap van het elektrolytische platteren wordt uitgevoerd door plattering van een oppervlakte of een metalen substraat onder toepassing van een stroomdichtheid van doelmatig ongeveer 0,054 tot 10,8 ampère/dm^ bij een temperatuur van ongeveer 20 tot ongeveer 70° 20 c, bij voorkeur ongeveer 60 tot 70°C.For electrolytic plating according to the method of the invention, boric acid is generally added to the bath which already contains the silver and / or alloying metal salts, the pH of the bath is adjusted to 8.0 to about 9> 5 with an alkali metal hydroxide. set and the electrolytic plating step is performed by plating a surface or a metal substrate using a current density of effectively about 0.054 to 10.8 amperes / dm 2 at a temperature of about 20 to about 70 ° C, at preferably about 60 to 70 ° C.
De volgens de uitvinding verkregen water bevattende baden kunnen worden gebruikt voor de afscheiding van zuiver zilver en/of zilver- legeringen bij de vervaardiging van sieraden en horlogekasten en ook voor optische en industriële doeleinden en verschaffen een uitsteken- 25 de elektmiytische afscheiding van een homogeen afgescheiden laag van een zilver en/of/zilverlegering bij minimale veranderingen van de pH in het bad tijdens het platteringsproces.The water-containing baths obtained according to the invention can be used for the separation of pure silver and / or silver alloys in the manufacture of jewelery and watch cases, and also for optical and industrial purposes and provide excellent electromagnetic separation of a homogeneously separated layer of a silver and / or / silver alloy with minimal changes of the pH in the bath during the plating process.
De uitvinding wordt door de volgende voorbeelden geïllustreerd.The invention is illustrated by the following examples.
Voorbeeld I.Example I.
30 Een water bevattend bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kalium-zilversuccinimide 24 g/l, kaliumcitisat 50 g/l, succinimide 25 g/l.An aqueous bath was prepared containing the following components: silver as potassium silver succinimide 24 g / l, potassium cititis 50 g / l, succinimide 25 g / l.
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingesteld en de elektrolyse onder toepassing van het bad met onoplosbare anoden werd 35 bij kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dnr uitgevoerd. Het zilver werd tijdens de elektrolyse aangevuld door toevoeging van het zilversuccinimide-compiex. De pH van het bad daalde van 9,0 tot 7,5 na een elektrolyse van 2 A-uur.The pH of the bath was adjusted to 9> 0 with potassium hydroxide and the electrolysis using the insoluble anode bath was carried out at room temperature with a current density of 0.54 A / dnr. The silver was replenished during the electrolysis by the addition of the silver succinimide compound. The bath pH dropped from 9.0 to 7.5 after 2 A-hour electrolysis.
Voorbeeld II.Example II.
40 Een water bevattend bad werd bereid dat de volgende componenten 800 1 9 99 -4- * bevatte: zilver als kaliumzilversuccinimide 24 g/l succinimide 25 g/l boorzuur 30 g/l 5 De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingesteld en met het bad werd onder toepassing van onoplosbare anoden bij ka- o mertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dm geelektro-lyseerd. Het zilver werd door toevoeging van het zilversuccinimide-complex aangevuld. De pH van het bad was na een elektrolyse van 6 10 A-uren constant op 9»0 gebleven.40 An aqueous bath was prepared containing the following components 800 1 9 99 -4- *: silver as potassium silver succinimide 24 g / l succinimide 25 g / l boric acid 30 g / l 5 The pH of the bath was adjusted to 9> with potassium hydroxide. 0 and the bath was electrolysed using insoluble anodes at room temperature with a current density of 0.54 A / dm. The silver was made up by adding the silver succinimide complex. The pH of the bath remained constant at 90 after an electrolysis of 6-10 hours.
Voorbeeld III.Example III.
Een water bevattend bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 3 g/l 15 goud als kaliumgoudcyanide 12,3 g/l kobalt als kalium-kobalt(lil)cyanide 0,8 g/l polyethyleenimine 10 mg/l kaliumcitraat 30 g/lAn aqueous bath was prepared containing the following components: silver as potassium silver cyanide 3 g / l 15 gold as potassium gold cyanide 12.3 g / l cobalt as potassium cobalt (lil) cyanide 0.8 g / l polyethyleneimine 10 mg / l potassium citrate 30 g / l
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingestaLd en 20 met het bad werd bij kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 2 0,54 A/dm geelektrolyseerd. De pH van het bad steeg van 9»0 tot i 10,4 in 12 A-min.The pH of the bath was adjusted to 9> 0 with potassium hydroxide and the bath was electrolyzed at room temperature with a current density of 0.54 A / dm. The bath pH rose from 90 to 10.4 in 12 A min.
VoorbeêLd IV.Example IV.
Een bad werd bereid zoals in voorbeeld III, waarbij echter het 25 kaliumcitraat werd vervangen door 30 g/l boorzuur. De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingesteld. Vervolgens werd met het 2 bad bij kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dm geelektrolyseerd. De pH van het bad bleef op 9>0 constant gedurende 360 A-min.A bath was prepared as in Example III, but replacing the potassium citrate with 30 g / l boric acid. The bath pH was adjusted to 9> 0 with potassium hydroxide. Subsequently, the 2 bath was electrolyzed at room temperature with a current density of 0.54 A / dm. The bath pH remained constant at 9> 0 for 360 A-min.
30 Voorbeeld V.30 Example V.
Een bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 2 g/l goud als kaliumgoudcyanide 8 g/l antimoon als kaliumantimoontartraat 1,5 g/l 35 indium als indiumsulfaat 3>3 g/l nitriliotriazijnzuur 20 g/l « kaliummonowaterstoffosfaat 25 g/l gluconzuur 50 ml/lA bath was prepared containing the following components: silver as potassium silver cyanide 2 g / l gold as potassium gold cyanide 8 g / l antimony as potassium antimony tartrate 1.5 g / l 35 indium as indium sulfate 3> 3 g / l nitriliotriacetic acid 20 g / l «potassium monohydrogen phosphate 25 g / l gluconic acid 50 ml / l
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 8,5 ingesteld. Na 40 elektrolyse met-het bad onder toepassing van onoplosbare anoden in 8001999 -5- $ 12 i_min was de pH van 8,5 gestegen tot 10,2.The bath pH was adjusted to 8.5 with potassium hydroxide. After 40 electrolysis with the bath using insoluble anodes in 800-1999-5 $ 12 min, the pH had risen from 8.5 to 10.2.
Voorbeeld 71.Example 71.
Onder toepassing van een bad met een samenstelling zoals die van het bad in voorbeeld 7, waaraan echter 50 g/l boorzuur was toe-5 gevoegd dat met kaliumhydroxide tot een pH van 8,5 was geneutraliseerd werd de elektrolyse uitgevoerd onder toepassing van onoplosbare anoden voor de afscheiding van zilver/goud-legeringen in 6 .ê-urai waarbij de pH slechts weinig veranderde van 8,5 in 8,8.Using a bath with a composition such as that of the bath in Example 7, to which was added, however, 50 g / l of boric acid neutralized with potassium hydroxide to a pH of 8.5, the electrolysis was carried out using insoluble anodes for the separation of silver / gold alloys in 6 ur urai with the pH changing only slightly from 8.5 to 8.8.
Voorbeeld VII.Example VII.
10 Een bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 5 g/l goud als kaliumgoudcyanide 12,5 g/l kobalt als kalium-kobalt(lll)cyanide 0,8 g/l kaliumcitraat 25 g/l 15 polyethyleenimine 3.0 mg/l10 A bath was prepared containing the following components: silver as potassium silver cyanide 5 g / l gold as potassium gold cyanide 12.5 g / l cobalt as potassium cobalt (III) cyanide 0.8 g / l potassium citrate 25 g / l 15 polyethyleneimine 3.0 mg / l
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9»0 ingesteld. Na i 15 A-min platteren steeg de pH van het tadvan 9>0 tot 10,5.The bath pH was adjusted to 90 with potassium hydroxide. After plating for 15 A-min, the pH of the tadvan 9> 0 rose to 10.5.
Voorbeeld VIII.Example VIII.
Onder toepassing van een bad, samengesteld zoals het bad in voor-20 beeld VII, waaraan echter 25 g/l boorzuur waren toegevoegd dat met kaliumhydroxide tot pH 9>0 was geneutraliseerd werd de elektrolyse onder toepassing van onoplosbare anoden uitgevoerd. De pH van het bad was na 2 A-uren platteren op 9»0 constant gebleven.Using a bath formulated like the bath in Example 7 to which 25 g / l of boric acid neutralized with potassium hydroxide to pH 9> 0 was added, electrolysis was performed using insoluble anodes. The pH of the bath remained constant after plating for 2 hours at 9 ° 0.
Voorbeeld IX.Example IX.
25 Een bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 5 g/l goud als kaliumgoudcyanide 12,5 g/l kobalt als kalium-kobalt(lil)cyanide 0,8 g/l polyethyleenimine 10 mg/l 50 boorzuur 50 g/lA bath was prepared containing the following components: silver as potassium silver cyanide 5 g / l gold as potassium gold cyanide 12.5 g / l cobalt as potassium cobalt (lil) cyanide 0.8 g / l polyethyleneimine 10 mg / l 50 boric acid 50 g / l
De pH werd met kaliumhydroxide op 9>Ó ingesteld en er werd bij 2 kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dm geelektro-lyseerd. Na 6 A-uren was geen verandering in de pH opgetreden.The pH was adjusted to 9> 10 with potassium hydroxide and electrolyzed at 2 room temperature with a current density of 0.54 A / dm. No change in pH had occurred after 6 hours.
Het ligt voor de hand dat binnen het raam van de uitvinding naast 55 de beschreven uitvoeringsvormen ook andere uitvoeringsvormen mogelyk zijn.It is obvious that within the scope of the invention, in addition to the described embodiments, other embodiments are also possible.
(conclusies) 8001999(conclusions) 8001999
Claims (12)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US2717779A | 1979-04-04 | 1979-04-04 | |
| US2717779 | 1979-04-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8001999A true NL8001999A (en) | 1980-10-07 |
Family
ID=21836140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8001999A NL8001999A (en) | 1979-04-04 | 1980-04-03 | BATH FOR SILVER PLATING WITH AN ALLOY OF GOLD AND SILVER AND A METHOD FOR PLATING THEREOF. |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55134191A (en) |
| AR (1) | AR225759A1 (en) |
| AU (1) | AU5717880A (en) |
| BR (1) | BR8001854A (en) |
| DE (1) | DE3013191A1 (en) |
| DK (1) | DK146980A (en) |
| FR (1) | FR2453226A1 (en) |
| GB (1) | GB2046794A (en) |
| IT (1) | IT1127414B (en) |
| NL (1) | NL8001999A (en) |
| SE (1) | SE8002598L (en) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3609309A1 (en) * | 1986-03-20 | 1987-09-24 | Duerrwaechter E Dr Doduco | BATH FOR THE ELECTROLYTIC DEPOSITION OF SILVER-PALLADIUM ALLOYS |
| JPH051393A (en) * | 1990-07-19 | 1993-01-08 | Electroplating Eng Of Japan Co | Silver-copper alloy plating bath and silver-copper alloy brazing filler metal |
| EP0666342B1 (en) * | 1994-02-05 | 1998-05-06 | W.C. Heraeus GmbH | Bath for electroplating silver-tin alloys |
| DE4406419C1 (en) * | 1994-02-28 | 1995-04-13 | Heraeus Gmbh W C | Bath for the electrodeposition of silver-gold alloys |
| JP2000212763A (en) * | 1999-01-19 | 2000-08-02 | Shipley Far East Ltd | Silver alloy plating bath and formation of silver alloy coating film using it |
| JP4919430B2 (en) * | 1999-12-02 | 2012-04-18 | 株式会社日本キャリア工業 | Meat shredding equipment |
| US20130023166A1 (en) * | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Tyco Electronics Corporation | Silver plated electrical contact |
| CN102560571B (en) * | 2012-02-22 | 2015-08-05 | 江苏大学 | Non-cyanide silver coating stable electrical plating solution, preparation method and silver-plated method thereof |
| CN103741178B (en) * | 2014-01-20 | 2017-06-16 | 厦门大学 | A kind of solution and electro-plating method for the smooth fine and close Ag films of silicon face Direct Electroplating |
| US20160145756A1 (en) * | 2014-11-21 | 2016-05-26 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Environmentally friendly gold electroplating compositions and methods |
| JP7353249B2 (en) * | 2020-08-19 | 2023-09-29 | Ｅｅｊａ株式会社 | Cyan-based electrolytic silver alloy plating solution |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2410441C2 (en) * | 1974-03-01 | 1982-11-11 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Cyanide-free bath and process for the electrodeposition of silver |
| JPS52105540A (en) * | 1976-03-01 | 1977-09-05 | Tech Inc | Silver bath for lusterous plating of nonncyanide |
| US4088549A (en) * | 1976-04-13 | 1978-05-09 | Oxy Metal Industries Corporation | Bright low karat silver gold electroplating |
| US4121982A (en) * | 1978-02-03 | 1978-10-24 | American Chemical & Refining Company Incorporated | Gold alloy plating bath and method |
-
1980
- 1980-03-27 BR BR8001854A patent/BR8001854A/en unknown
- 1980-04-01 AR AR280528A patent/AR225759A1/en active
- 1980-04-01 GB GB8010924A patent/GB2046794A/en not_active Withdrawn
- 1980-04-02 JP JP4207680A patent/JPS55134191A/en active Pending
- 1980-04-02 IT IT48317/80A patent/IT1127414B/en active
- 1980-04-02 DK DK146980A patent/DK146980A/en not_active IP Right Cessation
- 1980-04-02 FR FR8007437A patent/FR2453226A1/en not_active Withdrawn
- 1980-04-03 SE SE8002598A patent/SE8002598L/en not_active Application Discontinuation
- 1980-04-03 DE DE19803013191 patent/DE3013191A1/en not_active Withdrawn
- 1980-04-03 NL NL8001999A patent/NL8001999A/en not_active Application Discontinuation
- 1980-04-03 AU AU57178/80A patent/AU5717880A/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR8001854A (en) | 1980-11-18 |
| DK146980A (en) | 1980-10-05 |
| AU5717880A (en) | 1980-10-09 |
| DE3013191A1 (en) | 1980-10-23 |
| IT8048317A0 (en) | 1980-04-02 |
| FR2453226A1 (en) | 1980-10-31 |
| SE8002598L (en) | 1980-10-05 |
| JPS55134191A (en) | 1980-10-18 |
| IT1127414B (en) | 1986-05-21 |
| AR225759A1 (en) | 1982-04-30 |
| GB2046794A (en) | 1980-11-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102037162A (en) | Pd and Pd-Ni electrolyte baths | |
| US4013523A (en) | Tin-gold electroplating bath and process | |
| US4121982A (en) | Gold alloy plating bath and method | |
| US20040149587A1 (en) | Electroplating solution containing organic acid complexing agent | |
| JP2016529400A (en) | Electrolyte for electrodeposition of silver-palladium alloy and deposition method thereof | |
| NL8001999A (en) | BATH FOR SILVER PLATING WITH AN ALLOY OF GOLD AND SILVER AND A METHOD FOR PLATING THEREOF. | |
| US4076598A (en) | Method, electrolyte and additive for electroplating a cobalt brightened gold alloy | |
| WO2006057873A1 (en) | Near neutral ph tin electroplating solution | |
| US3902977A (en) | Gold plating solutions and method | |
| TWI507571B (en) | Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic metals or metalloids | |
| US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
| US4391679A (en) | Electrolytic bath and process for the deposition of gold alloy coatings | |
| US20040195107A1 (en) | Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys | |
| US3879270A (en) | Compositions and process for the electrodeposition of metals | |
| US4053372A (en) | Tin-lead acidic plating bath | |
| EP0112561B1 (en) | Aqueous electroplating solutions and process for electrolytically plating palladium-silver alloys | |
| NL8105601A (en) | COMPOSITIONS AND METHODS FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF PALLADIUM AND PALLADIUM ALLOYS. | |
| EP2730682B1 (en) | Alkaline, cyanide-free solution for electroplating of gold alloys, a method for electroplating and a substrate comprising a bright, corrosion-free deposit of a gold alloy | |
| US4265715A (en) | Silver electrodeposition process | |
| US4465563A (en) | Electrodeposition of palladium-silver alloys | |
| US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
| JPH10317183A (en) | Non-cyan gold electroplating bath | |
| EP0018165A1 (en) | A bath and a process for electrodepositing ruthenium, a concentrated solution for use in forming the bath and an object having a ruthenium coating | |
| US4778574A (en) | Amine-containing bath for electroplating palladium | |
| US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| DNT | Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection |
Free format text: PHIBRO CORPORATION |
|
| CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: ENGELHARD CORPORATION |
|
| BV | The patent application has lapsed |