NL7811163A - Gaslaser. - Google Patents

Gaslaser. Download PDF

Info

Publication number
NL7811163A
NL7811163A NL7811163A NL7811163A NL7811163A NL 7811163 A NL7811163 A NL 7811163A NL 7811163 A NL7811163 A NL 7811163A NL 7811163 A NL7811163 A NL 7811163A NL 7811163 A NL7811163 A NL 7811163A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
bar
partial pressure
argon
laser
fluorine
Prior art date
Application number
NL7811163A
Other languages
English (en)
Other versions
NL171648C (nl
NL171648B (nl
Original Assignee
Stichting Fund Ond Material
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stichting Fund Ond Material filed Critical Stichting Fund Ond Material
Priority to NLAANVRAGE7811163,A priority Critical patent/NL171648C/nl
Priority to JP14394779A priority patent/JPS55127093A/ja
Priority to US06/092,675 priority patent/US4307351A/en
Priority to DE19792945327 priority patent/DE2945327A1/de
Publication of NL7811163A publication Critical patent/NL7811163A/nl
Publication of NL171648B publication Critical patent/NL171648B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL171648C publication Critical patent/NL171648C/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Discharge Lamp (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

V
V
N.O. 26.859 Ned.
/ voor
Stichting'Fundamenteel Onderzoek der Materie te Utrecht
Aanvraagster noemt als uitvinders ir. G.L. Oomen en prof.dr.ir.
V.J.Vitteman.
Gaslaser.
De uitvinding heeft "betrekking op een gaslaser voor het uitzenden van ultraviolet laserlicht met een golflengte van 248-249 nm, waarbij het gasmengsel in de resonantieruimte krypton, fluor of een fluorhoudende verbinding en argon bevat in zodanige hoeveelheden, dat de partiëeldruk bij kamertemperatuur van het argon groter 5 is dan 0,5 bar en de partiëeldruk van het krypton en het fluor of de fluorhoudende verbinding kleiner is dan 0,2 bar.
Zulk een laser is bekend uit het artikel "High-efficiency KrF excimer laser" van de hand van M.L. Bhaumik e.a., gepubliceerd in Applied Physics Letters, 28, Nr. 1 (1 januari 1976), blz. 25-24· 10
In dit artikel wordt een laser beschreven die ultraviolet licht uitzendt met een golflengte van 249 nm. In de resonantieruimte bevond zich een mengsel van Ar, Kr en NF^ (in de verhouding 1300: 130:1) bij een totale druk van 2,25 bar. Een energie van1,5 Joule werd uitgezonden gedurende een impuls met een impulsbreedte van 15 125 nsec. De pompenergie was afkomstig van een elektronenstraal.
De uitvinding is nu gebaseerd op cb ontdekking, dat het uLtgangs-sermcgai van zulk een gaslaser aanzienlijk kan worden vergroot door aan het gasmengsel in de resonantieruimte neon toe te voegen.
De uitvinding heeft derhalve betrekking op een laser van de 20 in de aanhef aangegeven soort, welke laser volgens de uitvinding hierdoor is gekenmerkt, dat het gasmengsel in de resonantieruimte tevens neon bevat in een zodanige hoeveelheid, dat de partiëeldruk bij kamertemperatuur hiervan tenminste even groot is als die van argon. 25
Meer in het bijzonder heeft de uitvinding betrekking op zulk een gaslaser waarbij de partiële druk van het argon ligt tussen 0,5 en 2 bar en die van het neon tussen 5 en 7 bar.
Proeven zijn uitgevoerd met een inrichting die bestaat uit een Marx generator en een Blumlein waarmede elektronen met een 30 . energie van 750 keY en met een maximale stroomdichtheid van 781 1163 .* ƒ 2 2 j 100 Amp/cm in het lasergas kunnen worden geïnjecteerd. De impulslengte bedraagt 30 nsec. De resonatorholte met een diameter van 4 cm wordt transversaal geëxciteerd door de elektronenbundel over een lengte van 50 cm. De spiegels bezitten een diameter van 4 cm en zijn direkt bij de resonator opgesteld op een onderlinge afstand 5 van 85 cm. De laserenergie die uit de resonator wordt gekoppeld wordt gemeten met een Gen-Tec ED 500 pyroelektrische detektor. Een i deel van de bundel uit de laser kan worden onderschept en via een dempinrichting worden gericht op een snelle fotodiode (ITT F 4115» 1,5 nsec. aanlooptijd). De grootste uitgaande energie werd verkre- 10 gen met een vlakke Al-spiegel met een bekleding van MgFg en een planparallelle kwartsplaat voor het uitkoppelen.
Toor het drie-komponenten gasmengsel ward een optimale energie van 1,35 Joule per impuls gevonden bij de volgende samenstelling van het gas: partiële druk krypton 100 mbar, partiële druk NF^ 15 1,3 mbar, partiële druk argon 2,5 "bar.
Door neon aan het gasmengsel toe te voegen neemt de uitgangs-energie van de laser aanzienlijk toe. De maximale energie van 2,1 Joule per puls met een lengte van 30 nsec. wordt uitgezonden als de samenstelling van het gasmengsel is als volgt: partiële 20 druk krypton 100 mbar, partiële druk NF^ 1,3 mbar, partiële druk argon 1,5 bar, partiële druk neon 5*5 bar.
In de figuur is de hoeveelheid uitgezonden energie aangegeven als een functie van de partiëlecfrükai van argon en neon in bar.
De grafiek heeft betrekking op konstante partiëeldrukken van NF^ 25 en krypton van respektievelijk 1,3 en 100 mbar. Ook is de invallende elektronenbundel konstant gehouden.
Uit de grafiek valt af te lezen dat de grootste uitgangs-energie wordt verkregen bij een partiële druk van argon van 0,5-2,5 bar en meer in het bijzonder van 1-2 bar en bij een par- 30 tiële druk van neon van 3-Ö bar en meer in het bijzonder van 5-7 bar.
7811163

Claims (3)

1. Gaslaser voor het uitzenden van ultraviolet laserlicht met een golflengte van 248-249 nm, waarbij het gasmengsel in de resonantieruimte krypton, fluor of een fluorhoudende verbinding en argon bevat in zodanige hoeveelheden, dat de partiëeldruk bij kamertemperatuur van het argon groter is dan 0,5 "bar en de partiëel- 5 druk van het krypton en het fluor of de fluorhoudende verbinding kleiner is dan 0,2 bar, met het kenmerk, dat het gasmengsel in de resonantieruimte tevens neon bevat in een zodanige hoeveelheid, dat de partiëeldruk bij kamertemperatuur hiervan tenminste even groot is als die van argon. 1o
2. Laser volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat als fluorhoudende verbinding NP^ wordt toegepast.
3. Laser volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de partiëeldruk van het krypton circa 100 mbar bedraagt en die van het circa 1,3 mbar, terwijl de partiële druk van het argon 15 ligt tussen 0,5 en 2,5 bar en die van het neon tussen 3 en 8 bar. Laser volgens conclusie 3» met het, kenmerk, dat de partiële druk van het argon ligt tussen 1 en 2 bar en die van het neon tussen 5 en 7 "bar. 7811163
NLAANVRAGE7811163,A 1978-11-10 1978-11-10 Gaslaser. NL171648C (nl)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NLAANVRAGE7811163,A NL171648C (nl) 1978-11-10 1978-11-10 Gaslaser.
JP14394779A JPS55127093A (en) 1978-11-10 1979-11-08 Gas laser
US06/092,675 US4307351A (en) 1978-11-10 1979-11-09 Gas laser
DE19792945327 DE2945327A1 (de) 1978-11-10 1979-11-09 Gaslaser

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NLAANVRAGE7811163,A NL171648C (nl) 1978-11-10 1978-11-10 Gaslaser.
NL7811163 1978-11-10

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7811163A true NL7811163A (nl) 1980-05-13
NL171648B NL171648B (nl) 1982-11-16
NL171648C NL171648C (nl) 1983-04-18

Family

ID=19831875

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7811163,A NL171648C (nl) 1978-11-10 1978-11-10 Gaslaser.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4307351A (nl)
JP (1) JPS55127093A (nl)
DE (1) DE2945327A1 (nl)
NL (1) NL171648C (nl)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4393505A (en) * 1978-07-24 1983-07-12 Gte Sylvania Incorporated Gas discharge laser having a buffer gas of neon
FR2519156A1 (fr) * 1981-12-28 1983-07-01 Thomson Csf Dispositif optique a source d'energie radiante pour le transfert de motifs sur un substrat et procede de mise en oeuvre
DE602004027429D1 (de) * 2003-02-12 2010-07-15 Coherent Gmbh Elementensatz zur chirurgischen Ablation von Augengewebe

Also Published As

Publication number Publication date
US4307351A (en) 1981-12-22
NL171648C (nl) 1983-04-18
JPS55127093A (en) 1980-10-01
NL171648B (nl) 1982-11-16
DE2945327A1 (de) 1980-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Schnürer et al. Absorption-limited generation of coherent ultrashort soft-x-ray pulses
Szatmari et al. Simplified laser system for the generation of 60 fs pulses at 248 nm
US4606034A (en) Enhanced laser power output
Wrobel et al. Tunable vacuum ultraviolet laser action by argon excimers
Bradley et al. Megawatt VUV xenon laser employing coaxial electron-beam excitation
NL7811163A (nl) Gaslaser.
US4791644A (en) Laser system incorporating broad band optical phase conjugation cell using stimulated brillouin scattering
Adhav et al. Second harmonic generation in 90º phase-matched KDP isomorphs
Nakano et al. Effects of an ultrashort prepulse on soft X-ray generation from an aluminium plasma produced by femtosecond Ti: sapphire laser pulses
Temkin et al. Pumping and emission characteristics of a 4 kW, submillimeter CH3 F laser
Culver et al. Characteristics of an Ideal Raman Oscillator‐Amplifier
Hara et al. Compact soft X‐ray laser pumped by a pulse‐train laser
US4628513A (en) Tunable indium UV anti-Stokes Raman laser
Eranian et al. 2-nsec pulses from double cavity dye laser
Lankhorst et al. High specific laser output energy at 157 nm from an electron beam pumped He/Ne/F2 gas mixture
Fill et al. Atomic mercury photodissociation laser in the visible
Nassisi et al. Stimulated Brillouin and Raman scattering for the generation of short excimer laser pulses
Bukshpun et al. Stimulated emission of the 535 nm thallium line as a result of quasiresonant optical pumping of a Tl–He mixture by radiation from a recombination He–Ca laser
Gorshkov et al. Influence of additional ultraviolet illumination on breakdown of alkali halide crystals by CO2 laser radiation
Denisov et al. Service life of dye-impregnated polymer active laser elements at various energy densities and pump powers
Lin Short pulses tunable in the 0.69–0.99‐μ range from N2 laser pumped dye solutions
Alimpiev et al. Spectrum narrowing and phase conjugation of KrF excimer laser radiation
De Young et al. Low‐threshold solar‐pumped laser using C2F5I
Basiev et al. Tunable laser utilizing F2+ color centers in LiF and a holographic selector
Culver Precision, absolute measurement of the optical absorption spectra of gases

Legal Events

Date Code Title Description
A1C A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee