NL7614408A - Werkwijze voor het bereiden van lichtgevoelige kopieermassa's. - Google Patents

Werkwijze voor het bereiden van lichtgevoelige kopieermassa's.

Info

Publication number
NL7614408A
NL7614408A NL7614408A NL7614408A NL7614408A NL 7614408 A NL7614408 A NL 7614408A NL 7614408 A NL7614408 A NL 7614408A NL 7614408 A NL7614408 A NL 7614408A NL 7614408 A NL7614408 A NL 7614408A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
procedure
passes
sensitive copier
preparing sensitive
preparing
Prior art date
Application number
NL7614408A
Other languages
English (en)
Other versions
NL182755C (nl
NL182755B (nl
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of NL7614408A publication Critical patent/NL7614408A/nl
Publication of NL182755B publication Critical patent/NL182755B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL182755C publication Critical patent/NL182755C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
NL7614408A 1975-12-27 1976-12-24 Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig materiaal voorzien van een laag uit een aldus bereide kopieermassa, en drukvormen, schablonen en geleidende platen daarmee verkregen. NL182755C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19752558813 DE2558813C2 (de) 1975-12-27 1975-12-27 Lichtempfindliches Gemisch mit synergistischem Initiatorsystem

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7614408A true NL7614408A (nl) 1977-06-29
NL182755B NL182755B (nl) 1987-12-01
NL182755C NL182755C (nl) 1988-05-02

Family

ID=5965725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7614408A NL182755C (nl) 1975-12-27 1976-12-24 Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig materiaal voorzien van een laag uit een aldus bereide kopieermassa, en drukvormen, schablonen en geleidende platen daarmee verkregen.

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS5933893B2 (nl)
BE (1) BE849869A (nl)
CA (1) CA1058943A (nl)
DE (1) DE2558813C2 (nl)
FR (1) FR2336708A1 (nl)
GB (1) GB1576217A (nl)
NL (1) NL182755C (nl)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002321B1 (en) * 1977-11-29 1981-10-28 Bexford Limited Photopolymerisable elements and a process for the production of printing plates therefrom
US4716093A (en) * 1986-03-17 1987-12-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solvent developable photoresist composition and process of use
US4863968A (en) * 1987-04-09 1989-09-05 Merrell Dow Pharmaceuticals Inc. Methods of treating gout with chalcone derivatives
US4753965A (en) * 1987-04-09 1988-06-28 Merrell Dow Pharmaceuticals, Inc. Method of treating multiple sclerosis with chalcone derivatives
NZ517578A (en) * 1999-08-19 2004-02-27 Signal Pharm Inc Pyrazoloanthrone and derivatives thereof as JNK inhibitors and their compositions
US7119114B1 (en) 1999-08-19 2006-10-10 Signal Pharmaceuticals, Llc Pyrazoloanthrone and derivatives thereof as JNK inhibitors and compositions and methods related thereto
US20040072888A1 (en) 1999-08-19 2004-04-15 Bennett Brydon L. Methods for treating inflammatory conditions or inhibiting JNK
US6987184B2 (en) 2001-02-15 2006-01-17 Signal Pharmaceuticals, Llc Isothiazoloanthrones, isoxazoloanthrones, isoindolanthrones and derivatives thereof as JNK inhibitors and compositions and methods related
US7351729B2 (en) 2002-03-08 2008-04-01 Signal Pharmaceuticals, Llc JNK inhibitors for use in combination therapy for treating or managing proliferative disorders and cancers
JP4219289B2 (ja) * 2004-03-10 2009-02-04 独立行政法人科学技術振興機構 多環性ケトン化合物及びその製造方法
EP1757981B1 (en) 2005-08-26 2009-10-14 Agfa Graphics N.V. Photopolymer printing plate precursor

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3549367A (en) * 1968-05-24 1970-12-22 Du Pont Photopolymerizable compositions containing triarylimidazolyl dimers and p-aminophenyl ketones

Also Published As

Publication number Publication date
NL182755C (nl) 1988-05-02
CA1058943A (en) 1979-07-24
JPS5933893B2 (ja) 1984-08-18
BE849869A (fr) 1977-06-24
GB1576217A (en) 1980-10-01
DE2558813A1 (de) 1977-07-07
DE2558813C2 (de) 1984-10-31
FR2336708A1 (fr) 1977-07-22
JPS5282415A (en) 1977-07-09
NL182755B (nl) 1987-12-01
FR2336708B1 (nl) 1979-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7606856A (nl) Werkwijze voor het bereiden van nieuwe 2-piperidinoalkyl 1.4-benzodioxanen.
NL7611027A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 2-azetidonine- -verbindingen.
NL7600163A (nl) Werkwijze voor het carbonyleren van arylalkylha- logeniden.
NL7607325A (nl) Zeilmast voor zeilski's.
NL7709948A (nl) Werkwijze voor het bereiden van gesubstitueer- de pyridinen.
NL7608777A (nl) Werkwijze voor het bereiden van chromanonen-4.
NL7514450A (nl) Werkwijze voor het bereiden van roetbevattende pigment/kunststofconcentraten.
NL7710870A (nl) Werkwijze voor het bereiden van titaandioxyde.
NL7604063A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 1.1.1.-triaryl- alkylaminen.
NL7614408A (nl) Werkwijze voor het bereiden van lichtgevoelige kopieermassa's.
NL7707511A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 6-fluorpyra- zinoyl- of -pyrazinamidoguanidinen.
NL7713314A (nl) Werkwijze voor het bereiden van secoprostaglan- dinen.
NL7603651A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 3.4-dihydrospiro- -2h-1.3-benzooxazinen.
NL7712353A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 2-methyl-2-hep- teen-6-on.
NL7605202A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 2-aryl-2h-benzo- triazolen.
NL7608832A (nl) Werkwijze voor het bereiden van hydrazinen.
NL7602101A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 4-oxo-hexahy- dro-pyrazinoisochinolinederivaten.
NL7705710A (nl) Werkwijze voor het bereiden van dicalciumsili- caat.
NL7700124A (nl) Werkwijzen voor het bereiden en toepassen van heterocyclische verbindingen.
NL7608194A (nl) Werkwijze voor het bereiden van cyclohexaan- dionen-(1,3).
NL7706648A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 1(alpha)-hydroxycho- lesterolen.
NL7604979A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 2.5-dimethoxy 4-chlooraniline.
NL7604974A (nl) Werkwijze voor het bereiden van op de 2-plaats gesubstitueerde 1.4-benzodiazepinederivaten.
NL7703589A (nl) Werkwijze voor het bereiden van ftaalide.
NL7613726A (nl) Werkwijze voor het bereiden van hexamethyldisi- lazan.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
V2 Lapsed due to non-payment of the last due maintenance fee for the patent application