NL2022659A - Alignment method and associated metrology device - Google Patents
Alignment method and associated metrology device Download PDFInfo
- Publication number
- NL2022659A NL2022659A NL2022659A NL2022659A NL2022659A NL 2022659 A NL2022659 A NL 2022659A NL 2022659 A NL2022659 A NL 2022659A NL 2022659 A NL2022659 A NL 2022659A NL 2022659 A NL2022659 A NL 2022659A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- substrate
- measurement
- target
- alignment
- grid
- Prior art date
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Claims (1)
1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL2022659A NL2022659A (en) | 2019-03-01 | 2019-03-01 | Alignment method and associated metrology device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL2022659A NL2022659A (en) | 2019-03-01 | 2019-03-01 | Alignment method and associated metrology device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL2022659A true NL2022659A (en) | 2019-03-26 |
Family
ID=65948607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL2022659A NL2022659A (en) | 2019-03-01 | 2019-03-01 | Alignment method and associated metrology device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
NL (1) | NL2022659A (nl) |
-
2019
- 2019-03-01 NL NL2022659A patent/NL2022659A/en unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3518040A1 (en) | A measurement apparatus and a method for determining a substrate grid | |
KR20180014098A (ko) | 계측 방법, 검사 장치, 리소그래피 시스템 및 디바이스 제조 방법 | |
EP3531191A1 (en) | Metrology apparatus and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate | |
KR20160098436A (ko) | 검사 방법 및 장치, 및 리소그래피 장치 | |
NL2006078A (en) | Calibration of lithographic apparatus. | |
CN110945436B (zh) | 用于参数确定的方法及其设备 | |
US20230035073A1 (en) | Method for determining a measurement recipe and associated apparatuses | |
US10656533B2 (en) | Metrology in lithographic processes | |
US11372343B2 (en) | Alignment method and associated metrology device | |
NL2022659A (en) | Alignment method and associated metrology device | |
US11579535B2 (en) | Method of determining the contribution of a processing apparatus to a substrate parameter | |
US20220050391A1 (en) | Methods and apparatus for estimating substrate shape | |
TWI810749B (zh) | 監控微影製程之方法及相關裝置 | |
EP4160314A1 (en) | Method for measuring at least one target on a substrate | |
US20220365450A1 (en) | Non-correctable error in metrology | |
US20240184215A1 (en) | Metrology tool calibration method and associated metrology tool | |
EP4191338A1 (en) | Metrology calibration method | |
EP3961303A1 (en) | Method and apparatus for identifying contamination in a semiconductor fab | |
EP3786711A1 (en) | Non-correctable error in metrology | |
TW202209018A (zh) | 使用產品特徵上之在解析度度量衡之晶圓對準方法 | |
WO2024033036A1 (en) | Metrology method and associated metrology device | |
EP4392829A1 (en) | Method for determing a measurement recipe and associated apparatuses | |
WO2023160972A1 (en) | Height measurement sensor | |
CN117836720A (zh) | 确定测量选配方案的方法和相关联的设备 | |
CN117940852A (zh) | 用于聚焦量测的方法以及相关联的设备 |