NL2022451A - Wavefront sensor and associated metrology apparatus - Google Patents

Wavefront sensor and associated metrology apparatus Download PDF

Info

Publication number
NL2022451A
NL2022451A NL2022451A NL2022451A NL2022451A NL 2022451 A NL2022451 A NL 2022451A NL 2022451 A NL2022451 A NL 2022451A NL 2022451 A NL2022451 A NL 2022451A NL 2022451 A NL2022451 A NL 2022451A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
radiation
wavefront
array
wavefront sensor
sensor
Prior art date
Application number
NL2022451A
Other languages
English (en)
Inventor
Thijmen Van Der Post Sietse
Danny Van Voorst Peter
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=65370698&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NL2022451(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Priority to NL2022451A priority Critical patent/NL2022451A/en
Publication of NL2022451A publication Critical patent/NL2022451A/en

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (1)

1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2022451A 2019-01-25 2019-01-25 Wavefront sensor and associated metrology apparatus NL2022451A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2022451A NL2022451A (en) 2019-01-25 2019-01-25 Wavefront sensor and associated metrology apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2022451A NL2022451A (en) 2019-01-25 2019-01-25 Wavefront sensor and associated metrology apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2022451A true NL2022451A (en) 2019-02-18

Family

ID=65370698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2022451A NL2022451A (en) 2019-01-25 2019-01-25 Wavefront sensor and associated metrology apparatus

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2022451A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11391677B2 (en) Methods and apparatus for predicting performance of a measurement method, measurement method and apparatus
JP7271628B2 (ja) 検査装置の照明源、検査装置および検査方法
CN110383955B (zh) 辐射源
EP3410211A1 (en) Methods and apparatus for predicting performance of a measurement method, measurement method and apparatus
US11815402B2 (en) Wavefront sensor and associated metrology apparatus
NL2022451A (en) Wavefront sensor and associated metrology apparatus