Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands BvfiledCriticalAsml Netherlands Bv
Priority to NL2014093ApriorityCriticalpatent/NL2014093A/en
Publication of NL2014093ApublicationCriticalpatent/NL2014093A/en
Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure
(AREA)
Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials
(AREA)
Claims (1)
Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2014093A2015-01-082015-01-08Lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2014093A
(en)
Method for compensating for an exposure error, a device manufacturing method, a substrate table, a lithographic apparatus, a control system, a method for measuring reflectivity and a method for measuring a dose of EUV radiation
Suppression filter, radiation collector and radiation source for a lithographic apparatus; method of determining a separation distance between at least two reflective surface levels of a suppression filter