NL2013507A - An encoderhead system, a positioning system and a lithographic apparatus. - Google Patents

An encoderhead system, a positioning system and a lithographic apparatus. Download PDF

Info

Publication number
NL2013507A
NL2013507A NL2013507A NL2013507A NL2013507A NL 2013507 A NL2013507 A NL 2013507A NL 2013507 A NL2013507 A NL 2013507A NL 2013507 A NL2013507 A NL 2013507A NL 2013507 A NL2013507 A NL 2013507A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
grating
encoderhead
encoder scale
diffracted beam
area
Prior art date
Application number
NL2013507A
Other languages
English (en)
Inventor
Engelbertus Antonius Fransiscus Pasch
Emiel Jozef Melanie Eussen
Andre Bernardus Jeunink
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Publication of NL2013507A publication Critical patent/NL2013507A/en

Links

Landscapes

  • Optical Transform (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (1)

  1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstmeerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; 5 een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2013507A 2013-10-07 2014-09-22 An encoderhead system, a positioning system and a lithographic apparatus. NL2013507A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361887779P 2013-10-07 2013-10-07
US201361887779 2013-10-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2013507A true NL2013507A (en) 2015-04-09

Family

ID=53054270

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2013507A NL2013507A (en) 2013-10-07 2014-09-22 An encoderhead system, a positioning system and a lithographic apparatus.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2013507A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4820354B2 (ja) リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP4742136B2 (ja) リソグラフィ装置および装置製造方法
JP4669868B2 (ja) ステージ装置およびリソグラフィ装置
KR100874737B1 (ko) 그레이 필터를 갖는 파면 센서 및 이 파면 센서를 포함한 리소그래피 장치
US8334983B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR20060110807A (ko) 리소그래피 장치 및 위치설정 장치
KR100706934B1 (ko) Ｚ오프셋 및 비-수직 조명으로 인한 마스크 대물시프트의 ｙ에서의 위치보정
KR20110046357A (ko) 리소그래피 장치 및 패터닝 디바이스
JP6496077B2 (ja) 位置測定システム、干渉計、及びリソグラフィ装置
US6891598B2 (en) Lithographic device and method for wafer alignment with reduced tilt sensitivity
JP6534750B2 (ja) 位置測定システム及びリソグラフィ装置
KR20040090906A (ko) 리소그래피장치, 디바이스 제조방법 및 컴퓨터 프로그램
US7471373B2 (en) Lithographic apparatus with patterning device position determination
JP5784576B2 (ja) リソグラフィ装置および方法
NL2003529A (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method and position control method.
NL2013507A (en) An encoderhead system, a positioning system and a lithographic apparatus.
US9575416B2 (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method and displacement measurement system
NL2003962A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2015826A (en) Optical encoder system, encoder head and lithographic apparatus.
NL2008468A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method.