NL2000210C2 - Device for illuminating a surface. - Google Patents
Device for illuminating a surface. Download PDFInfo
- Publication number
- NL2000210C2 NL2000210C2 NL2000210A NL2000210A NL2000210C2 NL 2000210 C2 NL2000210 C2 NL 2000210C2 NL 2000210 A NL2000210 A NL 2000210A NL 2000210 A NL2000210 A NL 2000210A NL 2000210 C2 NL2000210 C2 NL 2000210C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- lamp
- obstruction element
- shaped reflector
- screen
- ultraviolet radiation
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V13/00—Producing particular characteristics or distribution of the light emitted by means of a combination of elements specified in two or more of main groups F21V1/00 - F21V11/00
- F21V13/02—Combinations of only two kinds of elements
- F21V13/10—Combinations of only two kinds of elements the elements being reflectors and screens
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Planar Illumination Modules (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
NL 8182-LG/tdNL 8182-LG / td
Inrichting voor het belichten van een oppervlakDevice for illuminating a surface
GEBIED VAN DE UITVINDINGFIELD OF THE INVENTION
In zijn algemeenheid heeft de uitvinding betrekking op het gebied van het belichten van oppervlakken. Meer in het bijzonder heeft de uitvinding betrekking op het belichten van 5 oppervlakken voor het maken van afdrukken, zoals bijv. afdrukken door middel van een zeefdrukproces.In general, the invention relates to the field of illuminating surfaces. More in particular, the invention relates to the exposure of surfaces for making prints, such as, for example, printing by means of a screen printing process.
ACHTERGROND VAN DE UITVINDINGBACKGROUND OF THE INVENTION
Het zeefdrukproces is een druktechniek die gebruikt 10 wordt voor het vervaardigen van grafische afbeeldingen op bijv. objecten, affiches en textiel. Ook wordt deze techniek industrieel toegepast voor de productie van bijvoorbeeld printplaten en zonnecellen.The screen printing process is a printing technique that is used for producing graphic images on, for example, objects, posters and textiles. This technique is also used industrially for the production of, for example, printed circuit boards and solar cells.
Het principe van het zeefdrukproces werkt als volgt. 15 Een stuk gaas (polyester of staal) wordt in een draaginrich-ting (frame) gespannen. De zeef wordt dan voorzien van een lichtgevoelige laag waarop vervolgens een film met een patroon wordt aangebracht. De film wordt belicht met ultraviolette (UV) straling waarna de onbelichte stukken van de lichtgevoe-20 lige laag kunnen worden weggewassen in overeenstemming met het patroon van de film. Hierdoor ontstaan open plekken in het zeefdrukraam (sjabloon). Wanneer vervolgens inkt of soldeer-pasta op de zeef wordt aangebracht, kan de vorm van het sjabloon worden afgedrukt op het te bedrukken voorwerp. Dit 25 proces kan herhaald worden met verschillende kleuren en vormen die naast elkaar of over elkaar worden gedrukt.The principle of the screen printing process works as follows. A piece of mesh (polyester or steel) is tensioned in a support device (frame). The screen is then provided with a photosensitive layer on which a film with a pattern is then applied. The film is exposed to ultraviolet (UV) radiation, after which the unexposed pieces of the photosensitive layer can be washed away in accordance with the pattern of the film. This creates open spaces in the screen printing frame (template). When subsequently ink or solder paste is applied to the screen, the shape of the template can be printed on the object to be printed. This process can be repeated with different colors and shapes that are printed next to each other or over each other.
Een essentiële stap bij drukprocessen in zijn algemeenheid is de belichtingsstap. Bij een zeefdrukproces omvat, zoals hierboven beschreven, de belichtingsstap het belichten 30 van de lichtgevoelige laag op de zeef ten einde na de ontwikkel ingss tap het sjabloon te kunnen vormen.An essential step in printing processes in general is the exposure step. In a screen printing process, as described above, the exposure step comprises exposing the photosensitive layer on the screen in order to be able to form the template after the development tap.
De thans toegepaste belichtingsinrichtingen hebben een aantal tekortkomingen, welke de kwaliteit van het sjabloon 2 negatief beïnvloeden. Dergelijke belichtingsinrichtingen bestaan in hoofdzaak uit een UV lichtbron waarom een grote reflecterende kap is aangebracht welke de UV straling in de richting van de zeef reflecteert.The lighting devices currently used have a number of shortcomings, which negatively influence the quality of the template 2. Such exposure devices consist essentially of a UV light source around which a large reflective cap is arranged which reflects the UV radiation in the direction of the screen.
5 Een eerste tekortkoming van belichtingsinrichtingen volgens de stand van de techniek betreft de verdeling van de hoeveelheid ultraviolette straling die de lichtgevoelige laag op de zeef bereikt. De hoeveelheid UV straling blijkt bij de toegepaste praktij klampen zeer onevenredig te zijn verdeeld 10 over de zeef. Dit zorgt er voor dat de benodigde belichtingstijd van de lichtgevoelige laag varieert met de plaats op de lichtgevoelige laag, hetgeen onwenselijk is. In de praktijk past men daarom vaak belichtingsinrichtingen van verhoudingsgewijs grote afmetingen toe ten einde de zeef zo uniform 15 mogelijk te belichten.A first shortcoming of exposure devices according to the prior art concerns the distribution of the amount of ultraviolet radiation that reaches the photosensitive layer on the screen. The amount of UV radiation appears to be very disproportionately distributed over the screen in the practice clamps used. This ensures that the required exposure time of the photosensitive layer varies with the location on the photosensitive layer, which is undesirable. In practice, therefore, exposure devices of relatively large dimensions are often used in order to illuminate the screen as uniformly as possible.
Een verdere tekortkoming van belichtingsinrichtingen volgens de stand van de techniek heeft betrekking op de geringe randscherpte van de belichte lichtgevoelige laag die met dergelijke belichtingsinrichtingen kan worden verkregen.A further shortcoming of prior art exposure devices relates to the low edge sharpness of the exposed photosensitive layer that can be obtained with such exposure devices.
2020
SAMENVATTING VAN DE UITVINDINGSUMMARY OF THE INVENTION
Het is een doel van de uitvinding om een inrichting voor het belichten van een zeef te verschaffen die de hierboven genoemde tekortkomingen wegneemt of althans reduceert.It is an object of the invention to provide a device for illuminating a screen which eliminates or at least reduces the abovementioned shortcomings.
25 Derhalve wordt een inrichting voor het belichten van een zeef voorgesteld, welke inrichting een draaginrichting voor het dragen van een zeef en een belichtingsinrichting voor het belichten van een zeef omvat. De belichtingsinrichting omvat een lamp voor het genereren van ultraviolette straling 30 voor het belichten van de zeef. De belichtingsinrichting omvat verder een schaalvormige reflector en een reflecterend ob-structie-element voor het reflecteren van ten minste een deel van de ultraviolette straling. De schaalvormige reflector heeft een naar de draaginrichting gekeerde opening voor het 35 uittreden van de ultraviolette straling. De lamp is in hoofdzaak in de schaalvormige reflector opgenomen. Het reflecterende obstructie-element is ingericht voor het ten minste ten dele reflecteren van de ultraviolette straling van 3 de lamp. Het obstructie-element is aangebracht tussen ten minste een deel van de lamp en de draaginrichting. De schaalvormige reflector en het obstructie-element zijn zodanig zijn vormgegeven dat, bij gebruik van de belichtingsinrich-5 ting, de ultraviolette straling door de opening van de schaalvormige reflector uittreedt en in hoofdzaak gelijkmatig wordt verdeeld over de te belichten zeef.A device for illuminating a screen is therefore proposed, which device comprises a support device for supporting a screen and an exposure device for illuminating a screen. The exposure apparatus comprises a lamp for generating ultraviolet radiation 30 for illuminating the screen. The exposure apparatus further comprises a dish-shaped reflector and a reflective obstruction element for reflecting at least a portion of the ultraviolet radiation. The dish-shaped reflector has an opening facing the support device for the exit of the ultraviolet radiation. The lamp is mainly incorporated in the dish-shaped reflector. The reflective obstruction element is adapted to at least partially reflect the ultraviolet radiation from the lamp. The obstruction element is arranged between at least a part of the lamp and the support device. The dish-shaped reflector and the obstruction element are designed such that, when the exposure device is used, the ultraviolet radiation exits through the aperture of the dish-shaped reflector and is distributed substantially evenly over the screen to be exposed.
Het is een verder doel van de uitvinding om een be-lichtingsinrichting te verschaffen voor het gelijkmatig 10 belichten van een oppervlak, bij voorkeur toe te passen bij druktechnieken zoals zeefdrukken.It is a further object of the invention to provide a lighting device for uniformly illuminating a surface, preferably for use in printing techniques such as screen printing.
Derhalve wordt een belichtingsinrichting voorgesteld die een lamp omvat voor het genereren van ultraviolette straling. De belichtingsinrichting omvat tevens een schaalvormige 15 reflector voor het reflecteren van de ultraviolette straling, waarbij de schaalvormige reflector een opening heeft voor het uittreden van de ultraviolette straling. De lamp is in hoofdzaak is opgenomen in de schaalvormige reflector. De lamp omvat voorts een reflecterend obstructie-element dat is ingericht 20 voor het ten minste ten dele reflecteren van de ultraviolette straling van de lamp. Het obstructie-element is bij voorkeur aangebracht tussen ten minste een deel van de lamp en de opening. De schaalvormige reflector en het obstructie-element zijn zodanig vormgegeven dat, bij gebruik van de belichtings-25 inrichting, de ultraviolette straling uittreedt door de opening van de schaalvormige reflector en in hoofdzaak gelijkmatig wordt verdeeld over een te belichten oppervlak dat is gelegen op een afstand van de opening van de schaalvormige reflector .Therefore, an exposure device is proposed which comprises a lamp for generating ultraviolet radiation. The exposure device also comprises a shell-shaped reflector for reflecting the ultraviolet radiation, the shell-shaped reflector having an opening for the exit of the ultraviolet radiation. The lamp is substantially included in the dish-shaped reflector. The lamp further comprises a reflective obstruction element which is adapted to at least partially reflect the ultraviolet radiation of the lamp. The obstruction element is preferably arranged between at least a part of the lamp and the opening. The dish-shaped reflector and the obstruction element are designed such that, when the exposure device is used, the ultraviolet radiation exits through the aperture of the dish-shaped reflector and is distributed substantially evenly over a surface to be exposed which is situated at a distance from the opening of the dish-shaped reflector.
30 Het zal duidelijk zijn dat, wanneer dit gewenst is voor een bepaalde toepassing, de toegepaste lichtbron ook een andere lichtbron kan zijn dan een UV lamp.It will be clear that, if this is desired for a specific application, the light source used can also be a different light source than a UV lamp.
De hoeveelheid licht vanuit een lichtbron neemt kwadratisch af met de afstand tot deze lichtbron. Het plaatsen 35 van een lichtbron boven een zeef zonder het treffen van verdere maatregelen leidt derhalve per definitie tot een niet-uniforme verdeling van de hoeveelheid licht over de zeef. Het plaatsen van een reflecterende kap om een dergelijke licht- 4 bron, zoals dat in de stand van de techniek wordt gedaan, vermindert dit effect nauwelijks.The amount of light from a light source decreases quadratically with the distance to this light source. Placing a light source above a screen without taking further measures therefore by definition leads to a non-uniform distribution of the amount of light over the screen. Placing a reflective cap around such a light source, as is done in the prior art, hardly reduces this effect.
De uitvinding berust op het inzicht dat het van belang is dat daar waar de afstand tussen de 5 belichtingsinrichting en de zeef het kleinst is (bijv. bij het centrum van de zeef, wanneer de belichtingsinrichting voor dit centrum is geplaatst), de zeef niet direct wordt blootgesteld aan de straling van de toegepaste lamp. Door de belichtingsinrichting zodanig in te richten dat, in verhouding tot de 10 belichtingsinrichtingen volgens de stand van de techniek, door middel van reflectie van de UV straling in de belichtingin-richting volgens de onderhavige uitvinding de hoeveelheid uittredende UV straling in het centrum van de opening van de schaalvormige reflector wordt gereduceerd en de hoeveelheid 15 uittredende UV straling langs de randen van de opening van de schaalvormige reflector wordt vergroot, wordt een'meer uniforme verdeling van de UV straling op het te belichten oppervlak gerealiseerd. Dit effect wordt verkregen door het toepassen van het reflecterende obstructie-element tussen de lamp en het 20 te belichten oppervlak en de vormgeving van de schaalvormige reflector en het reflecterende obstructie-element. Schaduwwerking van het reflecterende obstructie-element kan worden voorkomen of althans gereduceerd door het obstructie-element dicht bij de lamp te plaatsen.The invention is based on the recognition that it is important that where the distance between the exposure device and the screen is smallest (e.g. at the center of the screen, when the exposure device is placed in front of this center), the screen is not directly is exposed to the radiation from the lamp used. By arranging the exposure device in such a way that, in relation to the exposure devices according to the state of the art, by means of reflection of the UV radiation in the exposure device according to the present invention, the amount of emerging UV radiation in the center of the aperture of the dish-shaped reflector is reduced and the amount of UV radiation emerging along the edges of the aperture of the dish-shaped reflector is increased, a more uniform distribution of the UV radiation on the surface to be exposed is achieved. This effect is obtained by applying the reflective obstruction element between the lamp and the surface to be exposed and the shape of the dish-shaped reflector and the reflective obstruction element. Shadow effect of the reflective obstruction element can be prevented or at least reduced by placing the obstruction element close to the lamp.
25 In het bijzonder kan het reflecterende obstructie- element zodanig zijn vormgegeven dat de UV straling van de lamp die op het reflecterende obstructie-element valt in hoofdzaak in de richting van de schaalvormige reflector wordt gereflecteerd en via de schaalvormige reflector uittreedt door 30 de opening. Vanzelfsprekend is het mogelijk dat ook een (klein) deel van het licht via het reflecterende obstructie-element uittreedt door de opening zonder te reflecteren aan de schaalvormige reflector.In particular, the reflective obstruction element can be designed such that the UV radiation from the lamp incident on the reflective obstruction element is reflected substantially in the direction of the dish-shaped reflector and exits through the aperture through the dish-shaped reflector. Naturally, it is also possible that a (small) part of the light also exits through the reflective obstruction element through the opening without reflecting on the dish-shaped reflector.
De onderconclusies definiëren uitvoeringsvormen van 35 de onderhavige uitvinding. Het zal duidelijk zijn dat deze uitvoeringsvormen, of aspecten, daarvan kunnen worden gecombineerd.The subclaims define embodiments of the present invention. It will be clear that these embodiments, or aspects thereof, can be combined.
55
De uitvinding zal hierna worden beschreven aan de hand van de aangehechte figuren, welke een schematisch een uitvoeringsvorm volgens de uitvinding tonen. Het zal duidelijk zijn dat de uitvinding op geen enkele wijze is beperkt door 5 deze uitvoeringsvorm.The invention will be described below with reference to the attached figures, which schematically show an embodiment according to the invention. It will be clear that the invention is in no way limited by this embodiment.
KORTE BESCHRIJVING VAN DE FIGURENBRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
In de figuren tonen: FIG. 1 schematisch een inrichting voor het belichten 10 van een zeef volgens een uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding; FIG. 2 schematisch een belichtingsinrichting volgens de stand van de techniek; FIGS. 3A en 3B resp. een bovenaanzicht en een onderis aanzicht van de belichtingsinrichting volgens een uitvoeringsvorm van de uitvinding; FIGS. 4A en 4B doorsneden over 4A-4A resp. 4B-4B van de belichtingsinrichting van FIGS. 3A en 3B; FIG. 5 schematisch de verdeling van de hoeveelheid UV 20 straling over een oppervlak voor de inrichtingen uit FIG. 2 resp. FIG. 3A, en FIGS. 6A en 6B schematisch de wijze waarop de rand-scherpte van de lichtgevoelige laag wordt verbeterd met de belichtingsinrichting volgens FIGS. 3A-3B en FIGS. 4A-4B.In the figures: FIG. 1 schematically an apparatus for illuminating a screen according to an embodiment of the present invention; FIG. 2 schematically a lighting device according to the prior art; FIGS. 3A and 3B respectively. a top view and a bottom view of the exposure device according to an embodiment of the invention; FIGS. 4A and 4B cut through 4A-4A and 4A respectively. 4B-4B of the exposure apparatus of FIGS. 3A and 3B; FIG. 5 shows schematically the distribution of the amount of UV radiation over a surface for the devices of FIG. 2 resp. FIG. 3A, and FIGS. 6A and 6B schematically show how the edge sharpness of the photosensitive layer is improved with the exposure apparatus of FIGS. 3A-3B and FIGS. 4A-4B.
2525
GEDETAILEERDE BESCHRIJVING VAN DE FIGURENDETAILED DESCRIPTION OF THE FIGURES
In FIG. 1 wordt schematisch een inrichting 1 getoond voor het belichten van een zeef 2. De inrichting 1 omvat een draaginrichting 3 voor het dragen van de zeef 2 en een belich-30 tingsinrichting 4 voor het belichten van de zeef 2 met UV straling.In FIG. 1, a device 1 is shown for illuminating a screen 2. The device 1 comprises a support device 3 for supporting the screen 2 and an exposure device 4 for illuminating the screen 2 with UV radiation.
De belichtingsinrichting 4 is op een afstand d van de te belichten zeef 2 gepositioneerd. Voor een zeef 2 van lxl meter bedraagt de afstand d gebruikelijk ca. 1,5 meter.The exposure device 4 is positioned at a distance d from the screen 2 to be exposed. For a screen 2 of lxl meter, the distance d is usually about 1.5 meter.
35 Opgemerkt wordt dat, hoewel FIG. 1 een horizontale oriëntatie van de zeef 2 laat zien, de zeef 2 ook een andere oriëntatie, zoals een verticale oriëntatie kan hebben voor de belichting.It is noted that although FIG. 1 shows a horizontal orientation of the screen 2, the screen 2 also has a different orientation, such as a vertical orientation for the exposure.
6 FIG. 2 toont een bekende belichtingsinrichting 100 voor het belichten van de zeef 2. De belichtingsinrichting 100 omvat een UV lichtbron 101 en een schaalvormige reflector 102 voor het reflecteren van de UV straling in de richting van de 5 zeef 2. De schaalvormige reflector 102 heeft wanden 103. De afstand tussen de wanden 103 bedraagt gebruikelijk ca. 50 cm.6 FIG. 2 shows a known exposure device 100 for illuminating the screen 2. The exposure device 100 comprises a UV light source 101 and a shell-shaped reflector 102 for reflecting the UV radiation in the direction of the screen 2. The shell-shaped reflector 102 has walls 103 The distance between the walls 103 is usually about 50 cm.
Zoals in de beschrijvingsinleiding reeds is aangegeven kan met de bekende belichtingsinrichting 100 niet worden zorggedragen voor een uniforme belichting. Dit is schematisch 10 weergegeven door karakteristiek A in FIG. 5. In FIG. 5 is op de verticale as Q de hoeveelheid UV straling uitgezet en op de horizontale as de positie x op de zeef, als aangegeven in FIG.As has already been indicated in the introduction to the description, the known exposure device 100 cannot provide a uniform exposure. This is schematically represented by characteristic A in FIG. 5. In FIG. 5, the amount of UV radiation is plotted on the vertical axis Q and the position x on the screen, as indicated in FIG.
1.1.
FIGS. 3A-3B en 4A-4B tonen een uitvoeringsvorm van 15 een belichtingsinrichting 4 volgens de uitvinding, waarvan in de praktijk is gebleken dat een meer uniforme verdeling van de hoeveelheid UV straling op de zeef wordt verkregen. Dit effect is schematisch weergegeven in FIG. 5 door de karakteristiek B. Het verschil in de hoeveelheid straling tussen het centrum van 20 de zeef en de randen bedraagt bij toepassing van een belichtingsinrichting 4 volgens de uitvinding maximaal 5%, terwijl een van slechts 3% mogelijk is.FIGS. 3A-3B and 4A-4B show an embodiment of an exposure device 4 according to the invention, of which it has been found in practice that a more uniform distribution of the amount of UV radiation on the screen is obtained. This effect is shown schematically in FIG. 5 due to the characteristic B. The difference in the amount of radiation between the center of the screen and the edges when using an exposure device 4 according to the invention is a maximum of 5%, while one of only 3% is possible.
De belichtingsinrichting 4 omvat een lamp 5 voor het genereren van ultraviolette straling voor het belichten van de 25 zeef 2, een schaalvorige reflector 6 en een reflecterend ob-structie-element 7. De lamp heeft bijv. een lengte van 10 cm en een diameter van 2 cm. Het vermogen van de lamp 5 is bijv. 5000 Watt.The exposure device 4 comprises a lamp 5 for generating ultraviolet radiation for illuminating the screen 2, a scaled reflector 6 and a reflective obstruction element 7. The lamp has, for example, a length of 10 cm and a diameter of 2 cm. The power of the lamp 5 is, for example, 5000 watts.
De lamp 5 is buisvormig en het reflecterende obstruc-30 tie-element 7 staat in hoofdzaak dwars op de as van de buisvormige lamp 5.The lamp 5 is tubular and the reflective obstruction element 7 is substantially transverse to the axis of the tubular lamp 5.
De schaalvormige reflector 6 omvat een opening 8 voor het uittreden van de UV straling, die wordt gedefinieerd door zijwanden 9 van de schaalvormige reflector 6. De lamp 5 is op-35 genomen in de schaalvormige reflector 6 waarbij een deel van de UV straling reflecteert aan de schaalvormige reflector 6 en door de opening 8 uittreedt en de belichtingsinrichting verlaat, zoals aangeven in FIG. 4A.The shell-shaped reflector 6 comprises an opening 8 for the exit of the UV radiation, which is defined by side walls 9 of the shell-shaped reflector 6. The lamp 5 is accommodated in the shell-shaped reflector 6 with part of the UV radiation reflecting on the tray-shaped reflector 6 and exits through the aperture 8 and exits the exposure device, as indicated in FIG. 4A.
77
Het reflecterende obstructie-element 7 is geplaatst nabij de lamp 5 voor het ten minste ten dele reflecteren van de UV straling van de lamp 5 in de richting van de schaalvor-mige reflector 6, zoals aangegeven in FIG. 4A. Het obstructie-5 element 7 is aangebracht tussen ten minste een deel van de lamp 5 en de opening 8, zodat wordt voorkomen dat de UV straling direct vanuit het midden van de opening 8 op de zeef 2 wordt gericht. Verder zal een klein deel van de UV straling via het reflecterende obstructie-element 7 rechtstreeks uit-10 treden door de opening 8.The reflective obstruction element 7 is located near the lamp 5 for at least partially reflecting the UV radiation of the lamp 5 in the direction of the scaled reflector 6, as shown in FIG. 4A. The obstruction element 7 is arranged between at least a part of the lamp 5 and the opening 8, so that the UV radiation is prevented from being directed directly from the center of the opening 8 onto the screen 2. Furthermore, a small part of the UV radiation will exit directly through the opening 8 via the reflective obstruction element 7.
De schaalvormige reflector 6 en het obstructie-element 7 zijn zodanig vormgegeven dat, bij gebruik van de be-lichtingsinrichting 4, de UV straling in hoofdzaak gelijkmatig is verdeeld over de te belichten zeef 2, zoals schematisch is 15 aangegeven in FIG. 5 door karakteristiek B. De hoeveelheid UV straling die in het centrum en in de hoeken van de zeef 2 aankomt is dus in hoofdzaak gelijk, althans is de uniformiteit van de hoeveelheid UV straling over de zeef 2 aanmerkelijk groter dan bij toepassing van de belichtingsinrichting 100 20 volgens de stand van de techniek.The dish-shaped reflector 6 and the obstruction element 7 are designed such that, when the exposure device 4 is used, the UV radiation is distributed substantially evenly over the screen 2 to be exposed, as is schematically shown in FIG. 5 by characteristic B. The amount of UV radiation arriving in the center and in the corners of the screen 2 is therefore substantially the same, at least the uniformity of the amount of UV radiation over the screen 2 is considerably greater than when the exposure device 100 is used According to the state of the art.
Zoals getoond in FIG. 4A is het obstructie-element 7 een V-vormig obstructie-element, waarvan de punt naar de lamp 5 is gericht. Deze vormgeving van het obstructie-element 7 maakt het mogelijk dat de UV straling van de lamp 5 gereflec-25 teerd wordt aan de wanden 7A van het obstructie-element 7 en de belichtingsinrichting verlaat langs of via de zijwanden 9 van de schaalvormige reflector 6 door de opening 8 in de richting van de zeef 2 of een ander te belichten oppervlak.As shown in FIG. 4A, the obstruction element 7 is a V-shaped obstruction element, the point of which is directed towards the lamp 5. This design of the obstruction element 7 makes it possible for the UV radiation of the lamp 5 to be reflected on the walls 7A of the obstruction element 7 and to leave the exposure device along or via the side walls 9 of the shell-shaped reflector 6 through the aperture 8 in the direction of the screen 2 or another surface to be exposed.
De lengte van de benen van het V-vormige obstructie-30 element 7, overeenkomend met de wanden 7A in FIG. 4A, varieert in de langsrichting van het obstructie-element 7 en is maximaal bij de lamp 5 en minimaal bij de wanden 9 van de schaalvormige reflector 6. Hierdoor wordt enerzijds bewerkstelligd dat de UV straling van de buisvormige lamp 5 over een 35 aanzienlijk deel van de axiale richting van de lamp aan het V-vormige obstructie-element 7 zal reflecteren in plaats van rechtstreeks door de opening 8 uit te treden en anderzijds dat 8 de reflecterende UV straling gelijkmatig door de opening 8 naar buiten treedt.The length of the legs of the V-shaped obstruction element 7, corresponding to the walls 7A in FIG. 4A, varies in the longitudinal direction of the obstruction element 7 and is maximally at the lamp 5 and at least at the walls 9 of the shell-shaped reflector 6. This on the one hand ensures that the UV radiation from the tubular lamp 5 over a considerable part of the axial direction of the lamp will reflect on the V-shaped obstruction element 7 instead of exiting directly through the opening 8 and on the other hand that 8 the reflecting UV radiation will evenly exit through the opening 8.
De lamp 5 ligt in een denkbeeldig vlak S. De afstand D van de punt van de het V-vormige obstructie-element 7 tot 5 het denkbeeldige vlak S varieert in de langsrichting van het obstructie-element 7 zodanig dat de afstand D bij de lamp 5 minimaal is, zoals schematisch is geïllustreerd in FIG. 4B. Hierdoor wordt bewerkstelligd dat ook in de langsrichting van het V-vormige obstructie-element een gelijkmatige verdeling 10 van de uit de opening 8 uittredende UV straling wordt gerealiseerd.The lamp 5 lies in an imaginary plane S. The distance D from the tip of the V-shaped obstruction element 7 to 5 and the imaginary plane S varies in the longitudinal direction of the obstruction element 7 such that the distance D at the lamp 5 is minimal, as schematically illustrated in FIG. 4B. This ensures that even in the longitudinal direction of the V-shaped obstruction element, a uniform distribution of the UV radiation emerging from the opening 8 is realized.
De schaalvormige reflector 6 omvat een bovenwand die meerdere vlakken 10A-10D omvat, waarvan de normalen elk in een andere richting wijzen. De vlakken 10A-10D zijn zodanig geori-15 enteerd dat UV straling van de lamp 5 via de vlakken 10A-10D althans ten dele in de richting van de zijwanden 9 van de schaalvormige reflector 6 wordt gereflecteerd (zie FIG. 4B), al dan niet via reflectie aan het reflecterende obstructie-element 7, om vervolgens van daaruit naar het te belichten op-20 pervlak, zoals de zeef 2, te worden afgegeven. De snijlijnen C van de vlakken vallen in hoofdzaak samen met de langsrichting van de lamp 5 resp. het reflecterende obstructie-element 7.The shell-shaped reflector 6 comprises an upper wall comprising a plurality of faces 10A-10D, the normals of which each point in a different direction. The faces 10A-10D are oriented such that UV radiation from the lamp 5 is reflected at least partially in the direction of the side walls 9 of the shell-shaped reflector 6 via the faces 10A-10D (see FIG. 4B), whether or not not via reflection on the reflective obstruction element 7, to subsequently be delivered from there to the surface to be exposed, such as the screen 2. The intersecting lines C of the planes substantially coincide with the longitudinal direction of the lamp 5 resp. the reflective obstruction element 7.
Bovenstaande maatregelen bewerkstelligen een meer uniforme verdeling van de hoeveelheid straling op een te be-25 lichten oppervlak, zoals schematisch aangegeven in FIG. 5. Dit wordt gerealiseerd door de reflecterende elementen 6, 7 van de belichtingsinrichting 4 zo in te richten dat de straling van de lamp 5 in hoofdzaak via de schaalvormige reflector 6 het te belichten oppervlak bereikt in plaats van rechtstreeks vanuit 30 de lamp 5 en de reflecterende elementen zo zijn vormgegeven dat een effectieve verdeling van de straling het te belichten oppervlak plaatsvindt.The above measures effect a more uniform distribution of the amount of radiation on a surface to be exposed, as schematically indicated in FIG. 5. This is achieved by arranging the reflecting elements 6, 7 of the illumination device 4 such that the radiation from the lamp 5 reaches the surface to be illuminated substantially via the shell-shaped reflector 6 instead of directly from the lamp 5 and the reflective elements are designed such that an effective distribution of the radiation takes place on the surface to be exposed.
Een bijkomend effect van bovenstaande maatregelen is dat de dimensies van de schaalvormige reflector 6 aanzienlijk 35 kleiner kunnen zijn dan die van de overeenkomstige reflector 102 van de belichtingsinrichting 100 volgens de stand van de techniek, zoals weergegeven in FIG. 2. Hierdoor kan de rand-scherpte van een in een lichtgevoelige laag 20 aan te brengen 9 sjabloon met behulp van een film 21 aanzienlijk worden verbetert. Dit effect is schematisch weergegeven in FIG. 6A (stand van de techniek) en FIG. 6B (belichtingsinrichting volgens de onderhavige uitvinding). Gebleken is dat de randscherpte met 5 ongeveer een factor 3 kan worden verbeterd.An additional effect of the above measures is that the dimensions of the shell-shaped reflector 6 can be considerably smaller than those of the corresponding reflector 102 of the exposure device 100 according to the prior art, as shown in FIG. 2. As a result, the edge sharpness of a template to be provided in a light-sensitive layer 20 can be considerably improved with the aid of a film 21. This effect is shown schematically in FIG. 6A (state of the art) and FIG. 6B (exposure device according to the present invention). It has been found that the edge sharpness can be improved by about a factor of 3.
De afmetingen tussen de wanden 9 van de schaalvormige reflector 6 van de belichtingsinrichting volgens een uitvoeringsvorm van de uitvinding bedragen bij de opening 8 ca.The dimensions between the walls 9 of the dish-shaped reflector 6 of the exposure device according to an embodiment of the invention at the aperture 8 are approximately
14x16 cm. De diepte van de schaalvormige reflector 6 is ca. 8 10 cm. Deze afmetingen worden in hoofdzaak bepaald door de afmetingen van de lamp 5. Wanneer kleinere lampen met een geschikt vermogen beschikbaar zijn, is het voordelig de afmetingen van de belichtingsinrichting verder te reduceren.14x16 cm. The depth of the bowl-shaped reflector 6 is approximately 8 10 cm. These dimensions are mainly determined by the dimensions of the lamp 5. When smaller lamps with a suitable power are available, it is advantageous to further reduce the dimensions of the exposure device.
Claims (11)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL2000210A NL2000210C2 (en) | 2006-09-05 | 2006-09-05 | Device for illuminating a surface. |
| PCT/NL2007/050433 WO2008030092A2 (en) | 2006-09-05 | 2007-09-04 | Apparatus for illuminating a surface |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL2000210 | 2006-09-05 | ||
| NL2000210A NL2000210C2 (en) | 2006-09-05 | 2006-09-05 | Device for illuminating a surface. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL2000210C2 true NL2000210C2 (en) | 2008-03-06 |
Family
ID=37603332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL2000210A NL2000210C2 (en) | 2006-09-05 | 2006-09-05 | Device for illuminating a surface. |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| NL (1) | NL2000210C2 (en) |
| WO (1) | WO2008030092A2 (en) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE6916241U (en) * | 1969-04-23 | 1969-08-28 | Wolf Gmbh Hermann | AREA EXPOSURE DEVICE FOR COPYING PURPOSES |
| DE2606861A1 (en) * | 1976-02-20 | 1977-08-25 | Chemotenex Geraetebau Gmbh | Illumination appts. for photopolymer printing plate exposure - has reflector with diffuse surfaces so that each point on plate is illuminated from different directions |
| FR2554549A1 (en) * | 1983-11-03 | 1985-05-10 | Sabir | Anti-glare screening for longitudinal light fittings |
| DE3525482C1 (en) * | 1985-07-17 | 1987-02-05 | Klimsch & Co | Exposure device |
| EP0271150A1 (en) * | 1986-12-08 | 1988-06-15 | "Etap" | Luminaire with mirror reflectors capable of protecting against troublesome light spots |
| DE9003438U1 (en) * | 1990-03-23 | 1990-05-31 | Croon Reprografische Industrie, Mijdrecht | Exposure construction for exposing large rectangular surfaces |
| FR2742213A1 (en) * | 1995-12-08 | 1997-06-13 | Hode Jean Pierre | Ceiling mounted light fitting for fluorescent lamp |
| DE20122390U1 (en) * | 2001-01-19 | 2005-06-09 | BÄRO GmbH & Co KG | Interior light for lighting up surfaces displaying goods, has screen for reducing direct light radiation on luminous surface lying directly underneath high-pressure gas discharge lamp positioned in case reflector |
-
2006
- 2006-09-05 NL NL2000210A patent/NL2000210C2/en not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-09-04 WO PCT/NL2007/050433 patent/WO2008030092A2/en active Application Filing
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE6916241U (en) * | 1969-04-23 | 1969-08-28 | Wolf Gmbh Hermann | AREA EXPOSURE DEVICE FOR COPYING PURPOSES |
| DE2606861A1 (en) * | 1976-02-20 | 1977-08-25 | Chemotenex Geraetebau Gmbh | Illumination appts. for photopolymer printing plate exposure - has reflector with diffuse surfaces so that each point on plate is illuminated from different directions |
| FR2554549A1 (en) * | 1983-11-03 | 1985-05-10 | Sabir | Anti-glare screening for longitudinal light fittings |
| DE3525482C1 (en) * | 1985-07-17 | 1987-02-05 | Klimsch & Co | Exposure device |
| EP0271150A1 (en) * | 1986-12-08 | 1988-06-15 | "Etap" | Luminaire with mirror reflectors capable of protecting against troublesome light spots |
| DE9003438U1 (en) * | 1990-03-23 | 1990-05-31 | Croon Reprografische Industrie, Mijdrecht | Exposure construction for exposing large rectangular surfaces |
| FR2742213A1 (en) * | 1995-12-08 | 1997-06-13 | Hode Jean Pierre | Ceiling mounted light fitting for fluorescent lamp |
| DE20122390U1 (en) * | 2001-01-19 | 2005-06-09 | BÄRO GmbH & Co KG | Interior light for lighting up surfaces displaying goods, has screen for reducing direct light radiation on luminous surface lying directly underneath high-pressure gas discharge lamp positioned in case reflector |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2008030092A2 (en) | 2008-03-13 |
| WO2008030092A3 (en) | 2008-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3742231B1 (en) | Curing of photo-curable printing plates | |
| NL1015060C2 (en) | Liquid crystal display device, light guide plate, and method of manufacturing the light guide plate. | |
| JP4435158B2 (en) | Integrated in-line bump and exposure system | |
| EP0864897A3 (en) | Light source device, illuminating system and image projecting apparatus | |
| ATE272224T1 (en) | CONFOCAL SPECTROSCOPY SYSTEM AND METHOD | |
| GB2308656A (en) | Surface defect inspection apparatus | |
| JPH09282921A (en) | Back light device and liquid crystal display device provided with this back light device | |
| TWI265383B (en) | Lithographic apparatus, device manufacturing method and variable attenuator | |
| NL2000210C2 (en) | Device for illuminating a surface. | |
| JP2010140721A (en) | Method of forming light modulation pattern, method of manufacturing light diffusion plate, light diffusion plate, light modulation film, surface light source device, and transmission type image display device | |
| EP0513965B1 (en) | Exposure apparatus for forming pattern on printed-wiring board | |
| FR2709569A1 (en) | Overhead projector. | |
| KR940001116B1 (en) | Panel in a source of flat light | |
| JP6231478B2 (en) | Printing stencil manufacturing method and printing stencil | |
| US20130337386A1 (en) | Processing apparatus for processing a flexographic plate, a method and a computer program product | |
| KR960035145A (en) | Illumination apparatus and exposure method using the same | |
| JPH1021722A (en) | Lighting system | |
| NL192584C (en) | Information column. | |
| EP1245998A3 (en) | Device for the exposure of a printed circuit board | |
| JP2005086391A (en) | Lighting system and image reader using the same | |
| KR100400004B1 (en) | Backlight for flat display device | |
| JPH0429739A (en) | Device for irradiating ultraviolet ray | |
| FR2798479A1 (en) | DEVICE FOR THE PRODUCTION OF A BLACK OR COLORED EDGE WHEN PRINTING A PHOTOGRAPH | |
| JP2004246098A (en) | Painting and calligraphic work imaging apparatus | |
| JPH0921699A (en) | Lighting device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD2B | A search report has been drawn up | ||
| V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee |
Effective date: 20100401 |