NL1004723C2 - Diathermische lus. - Google Patents

Description

Diathermische lus

De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een diathermische lus, voorzien van een elektrisch geleidende snijdraad, een elektrisch 5 met de snijdraad verbonden, elektrisch geleidende toevoerdraad, die met een spanningsbron kan worden verbonden, en een elektrisch isolerend . lichaam, dat tevens met de snijdraad is verbonden. Dergelijke diathermische lussen zijn in de praktijk bekend.

Voorbeelden van op zichzelf bekende lussen zijn weergegeven in 10 figuren 1, 2 en 3. De bekende lussen omvatten een elektrisch isolerend lichaam 1, dat ten minste gedeeltelijk de vorm van een staaf heeft, die in een houder geplaatst kan worden. Aan de staaf 1 is een elektrisch geleidende snijdraad 3 aangebracht. De snijdraad 3 is elektrisch verbonden met een elektrisch geleidende toevoerdraad 2, die door de staaf 1 15 loopt. Tijdens bedrijf wordt de toevoerdraad 2 op een vooraf bepaalde spanning gebracht met behulp van een geschikte spanningsbron (niet getoond).

In figuur 1 is de situatie getekend, dat de snijdraad 3 de vorm heeft van een rechthoek, terwijl figuur 2 een uitvoering toont, waarin 20 de snijdraad 3 de vorm van een driehoek heeft. In figuur 3 is een cirkelvormige lus getoond, die momenteel veelvuldig wordt toegepast.

De in figuren 1 en 2 getoonde diathermische lussen worden gebruikt voor diagnostische en therapeutische doeleinden, bijvoorbeeld bij het diagnostiseren van tumoren in de buitenste huidlaag van de cervix.

25 Aan de in figuren 1 en 2 getoonde diathermische lus kleven echter een aantal duidelijke nadelen: 1. de lusvormige snijdraad 3 is in het meest gebruikte model van figuur 3 relatief groot en snijdt diep door het stroma van de cervix met het risico dat grote bloedvaten worden geraakt, die dan selec- 30 tief moeten worden gestelpt; 2. in de meeste gevallen wordt meer stroma weggenomen door de snijdraad dan noodzakelijk is voor de diagnose van een epitheliale aandoening en dan goed is voor de cervicale functie tijdens een conceptie en een later optredende zwangerschap; 35 3. vaak wordt onvoldoende epitheel weggenomen om een perifere laesie ineens geheel weg te nemen; 4. endocervicaal wordt vaak te weinig weefsel weggenomen, waardoor residuen in het cervicale kanaal optreden; 1004723 2 5. aan de multiple biopten is geen oriëntatie meer mogelijk en de patholoog anatoom kan derhalve geen uitspraak meer doen over de snijvlakken; 6. in het algemeen zijn hoog gekwalificeerde colposcopisten nodig om 5 de radicaliteit van de ingreep te beoordelen en vervolghandelingen uit te voeren.

* Het doel van de onderhavige uitvinding is om een diathermische lus van de bovengenoemde soort te verschaffen, die aan deze bezwaren tegemoet komt en hen zelfs ten dele of geheel opheft.

10 Derhalve voorziet de uitvinding in een diathermische lus van de bovengenoemde soort met het kenmerk, dat het elektrisch isolerende lichaam is voorzien van een eerste uitstekend orgaan en een tweede uitstekend orgaan en dat de snijdraad is gespannen tussen het eerste uitstekende orgaan en het tweede uitstekende orgaan.

15 Bij voorkeur is het lichaam voorzien van een in doorsnede gezien vlak of enigszins ovaalvormig zijoppervlak tussen de eerste en tweede uitstekende organen en strekt de snijdraad zich langs genoemd zijoppervlak uit. Een dergelijke ovaalvorm is bij voorkeur zodanig gevormd, dat tijdens gebruik van de lus het zijoppervlak de ronde cervix in een 20 platte conus kan drukken, zodat de volgende voordelen ontstaan: 1 . er wordt minder stroma weggenomen, zodat er minder risico op na-bloedingen bestaat en de cervicale functie behouden blijft; 2. er wordt meer epitheel perifeer weggenomen; dit zal bijvoorbeeld de gehele transformatiezone zijn in het geval van een tumor aan de 25 cervix; 3. er kan dieper in de endocervix epitheel worden weggenomen; 4. het pathologisch anatomisch onderzoek kan een groot biopt leveren, waaraan dezelfde oriëntatie mogelijk is als aan een conus, zonodig aangevuld met een dieper endocervicaal biopt met een kleine lus; 30 5. er kan eenvoudig gebruik worden gemaakt van een Shillerkleuring, waarbij met een jodiumhoudende vloeistof het normale epitheel bruin wordt gekleurd en eventueel afwijkend epitheel in het geheel niet kleurt; hierdoor zullen minder hoog gekwalificeerde colposcopisten noodzakelijk zijn, hetgeen behandeling van een tumor bij een cervix 35 met behulp van een diathermische lus in overeenstemming met de uit vinding ook voor landen met minder hoog gekwalificeerd personeel • (derde wereld) mogelijk maakt; uiteraard blijft een goede colposco-pie voor en na de behandeling de voorkeur genieten. Naast een goede 1004723 3 colposcopie bij de nabehandeling heeft ook een goede cytologie na de behandeling de voorkeur, omdat alleen dan het aantal patiënten met een ten onrechte verkregen negatief testresultaat zo laag mogelijk zal zijn.

5 De snijdraad bevindt zich bij voorkeur bij het eerste uitstekende orgaan op een afstand van 6 mm en bij het tweede uitstekende orgaan op * een afstand van 3 mm van genoemd zijoppervlak. Een dergelijke diather-mische lus zorgt ervoor dat niet te veel stroma wordt weggenomen, niet meer dan 6 mm onder het endocervicale epitheel. Meer is niet nodig daar 10 niet-invasieve ectocervicale laesies niet dieper reiken dan 3 mm en endocervicale laesies niet dieper dan 6 mm reiken.

Het lichaam van de diathermische lus tussen de eerste en tweede uitstekende organen kan ten minste gedeeltelijk van transparant en optisch vergrotend materiaal zijn vervaardigd. Met een dergelijk trans-15 parant, vergrotend lichaam is een permanente inspectie van de cervix tijdens de ingreep mogelijk en is een colposcopie overbodig. Dit kan van voordeel zijn in bijvoorbeeld derde wereld landen waar minder deskundigheid aanwezig is. Uiteraard is de aanwezigheid van een colposcoop wel gewenst uit het oogpunt van een goede diagnostiek en verslaglegging.

20 De onderhavige uitvinding wordt toegelicht aan de hand van enkele figuren, die zijn bedoeld ter illustratie van de uitvinding en niet ter beperking daarvan.

Figuren 1, 2 en 3 tonen diathermische lussen volgens de stand van de techniek; 25 figuur 4 toont een eerste uitvoeringsvorm van een diathermische lus volgens de uitvinding; figuur 5 toont een bovenaanzicht van de diathermische lus volgens figuur 3; figuren 6 en 7 tonen de diathermische lus van figuur 3 tijdens 30 gebruik; figuren B t/m 11 tonen alternatieve uitvoeringsvormen van de diathermische lus volgens de uitvinding.

In de figuren verwijzen dezelfde verwijzingscijfer naar dezelfde onderdelen.

35 De diathermische lus, zoals getoond in figuur 4, omvat een staaf 1 van elektrisch isolerend materiaal, die is bevestigd aan een lichaam 7, eveneens van elektrisch isolerend materiaal.

Uit het lichaam 7 steken 2 penvormige organen 4, 5 uit. Deze pen- 1004723 4 vormige organen 4, 5 kunnen uit één geheel zijn gemaakt met het lichaam 7. Zij zijn beide van elektrisch isolerend materiaal. Tussen de penvormige organen 4 en 5 is een elektrisch geleidende snijdraad 3 gespannen.

Door een holle ruimte in de staaf 1 is een toevoergeleider 2 ge-5 leid, die in elektrisch contact staat met de snijdraad 3.

De snijdraad 3 bevindt zich tegenover een vlak 6 van het lichaam 7, ♦ welk vlak 6 bij voorkeur vlak is of een geringe ovaalvorm heeft, zodanig dat tijdens gebruik de ronde cervix in een nagenoeg platte conus wordt gedrukt, zodat de hoeveelheid weggenomen stroma minimaal kan blijven en 10 het weggenomen oppervlak aan epitheel maximaal wordt. Dit is nader toegelicht in figuren 6 en 7. Figuur 6 toont een dwarsdoorsnede door de cervix 8, waarbij de diathermische lus wordt gebruikt om een gewenste hoeveelheid van de buitenkant van de cervix 8 weg te nemen. De genoemde platte conus van de cervix, die met behulp van het zijoppervlak 6 van 15 het lichaam 7 kan worden gevormd, is aangegeven met verwijzingscijfer 9. De conus 9 is tegelijkertijd het gedeelte dat na de operatie van de cervix is afgesneden, zoals nader is geïllustreerd in figuur 7.

Omdat niet-invasieve epitheliale laesies niet dieper dan 2-3 mm reiken en endocervicale laesies niet dieper dan 6 mm, hoeft niet meer 20 stroma weg te worden genomen dan 5 mm onder het epitheel. Daarom is de afstand tussen de snijdraad 3 en het oppervlak 6 nabij het penvormige orgaan 4, dat tijdens de operatie endocervicaal wordt gebruikt (zie figuur 5), 5 a 7 mm, bij voorkeur ongeveer 6 mm. Bovendien is de afstand tussen de snijdraad 3 en het zijoppervlak 6 nabij het penvormige orgaan 25 5, dat ectocervicaal wordt toegepast (zie figuur 5), bij voorkeur 2 a 4 mm. In de praktijk zal voor deze laatste afstand ongeveer 3 mm worden gekozen.

Met een dergelijke diathermische lus zal niet alleen de hoeveelheid weggenomen stroma minimaal zijn en het oppervlak aan weggenomen epitheel 30 maximaal, maar zal tevens de lus dieper in de endocervix kunnen reiken.

Het gebruik van de diathermische lus is bijvoorbeeld als volgt.

De elektrisch geleidende toevoerdraad 2 wordt verbonden met een (niet getoonde) spanningsbron, waarmee de toevoerdraad 2 op een vooraf bepaalde spanning wordt gebracht. Deze zelfde spanning is dan ook aanwe-35 zig op de snijdraad 3. Een patiënt wordt op een elektrisch geleidende mat gelegd, zodat een gewenste, minimale stroom van de snijdraad 3 via het lichaam van de patiënt naar de elektrisch geleidende mat kan vloeien, op het moment dat de diathermische lus wordt gebruikt en de snijd- 1004723 5 raad 3 in contact is met de cervix.

Allereerst wordt een paracervicaal blok gelegd met een viertal sub-epitheliale injecties. Deze injecties kunnen bijvoorbeeld op locaties worden aangebracht, die in medische kringen worden aangeduid met: 1, 5, 5 7 en 11 uur. Bij voorkeur wordt een snelwerkend locaal anaestheticum gebruikt. Indien gewenst, wordt bij de colposcopie een Shiller-oplossing • aangebracht.

De diathermische lus wordt dan op een positie aangebracht, die in medische kringen met "12 uur" wordt aangeduid. In die positie wordt de 10 diathermische lus allereerst verticaal op het oppervlak in de cervix gedrukt, totdat het epitheel zoveel mogelijk tegen het zijoppervlak 6 ligt, waardoor tot bij voorkeur ongeveer 6 mm onder het epitheel stroma kan worden weggenomen. Vervolgens wordt de staaf 1 met de hand met de klok meegedraaid, waarbij de druk zoveel mogelijk constant wordt gehou-15 den.

De spanningsbron (niet getoond) is bij voorkeur via een met een voetpedaal (niet getoond) bedienbare schakelaar op de toevoerdraad 2 aangesloten, zodat de bedieningspersoon met de voet de aanwezigheid van spanning kan besturen.

20 De platte conus 9, die tijdens bedrijf ontstaat valt vanzelf los, nadat de diathermische lus 360° is rondgedraaid. Bij voorkeur geschiedt dit in 4 tot 6 seconden.

Op klinische gronden kan eventueel tot een endocervicaal biopt worden besloten. De patholoog anatoom kan de excisie op radicaliteit 25 beoordelen en zonodig exact aangeven, waar zich een residu bevindt. Eventueel kan dit met de colposcoop gezien worden. Uit testen is gebleken, dat met de diathermische lus volgens de uitvinding de operatie sneller kan plaatsvinden dan met conventionele diathermische lussen. Een speculum (niet getoond) met vocht- en rookafzuiging kan de operatie ver-30 der minder onaangenaam maken.

Figuren 8 t/m 11 tonen verdere uitvoeringsvormen van een diathermische lus volgens de uitvinding.

In figuur 8, die een doorsnede door een alternatieve uitvoeringsvorm weergeeft, is het zijoppervlak 6 van het lichaam 7, nagenoeg vlak 35 of enigszins ovaalvormig. Het penvormige orgaan 5 staat in de uitvoeringsvorm volgens figuur 7 nagenoeg loodrecht op het penvormige orgaan 4.

In figuur 9 is het lichaam 7 vervangen door een transparant lichaam 1004723 6 7', dat een zodanige vorm heeft, dat deze een optisch vergrotende werking heeft.

Het uitstekende orgaan 5 kan daarbij als enigszins uitstekende rand van het transparante lichaam 7' worden gevormd. Er kan met andere woor-5 den een glooiende overgang zijn tussen het zijoppervlak 6 van het transparante lichaam 7’ en het uitstekende orgaan 5. Het uitstekende orgaan * 5 hoeft ook niet de vorm van een pen of dergelijke te hebben. Figuur 8 kan bijvoorbeeld de doorsnede zijn van een rotatie-symmetrisch lichaam 7', waarbij het verwijzingscijfer 5 verwijst naar de gehele, cirkelvor-10 mige rand van het lichaam 7* en de snijdraad 3 op een willekeurig punt van de cirkelvormige rand 5 is bevestigd. In die zin moet het begrip "uitstekend orgaan" 5 in het kader van deze uitvinding ruim worden opgevat. Het verwijst in het algemeen naar middelen, die zodanig zijn aangebracht, dat de snijdraad 3 zodanig kan worden gespannen, dat deze 15 zich op de gewenste afstand van het zijoppervlak 6 van het lichaam 7' bevindt. Hetzelfde geldt voor het uitstekende orgaan 4.

Figuur 10 toont een variant van de diathermische lus, waarin de staaf 1 deels een V-vormig verloop heeft met benen 7, 13, en de snijdraad 3 langs één been van de V-vorm is gespannen. Been 7 vormt dan het 20 lichaam 7 met zijoppervlak 6. Desgewenst kan de V-vorm verend zijn.

Figuur 11 toont een uitvoeringsvorm waarin twee tegenover elkaar gelegen V-vormen zijn toegepast. Het linker deel komt overeen met de uitvoeringsvorm van figuur 10. De variant van figuur 11 heeft vier benen 7, 13, 10, 11, waartussen een vergrotende lens 12 kan zijn geklemd, die 25 bij voorkeur verwisselbaar is. De verwisselbaarheid kan worden vereenvoudigd door de constructie van benen 7, 13, 10, 11 verend te maken.

1004723

Claims (7)

1. Diathermische lus voorzien van een elektrisch geleidende snijdraad (3), een elektrisch met de snijdraad verbonden, elektrisch geleidende 5 toevoerdraad (2), die met een spanningsbron kan worden verbonden, en een elektrisch isolerend lichaam (1, 7), dat tevens met de snijdraad is ver-* bonden, met het kenmerk, dat het elektrisch isolerende lichaam (1, 7) is voorzien van een eerste uitstekend orgaan (4) en een tweede uitstekend orgaan (5) en dat de snijdraad is gespannen tussen het eerste uitsteken-10 de orgaan (4) en het tweede uitstekende orgaan (5).

2. Diathermische lus volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het lichaam (1, 7) is voorzien van een in doorsnede gezien vlak of enigszins ovaalvormig zijoppervlak (6) tussen de eerste en tweede uitstekende 15 organen (4, 5) en de snijdraad zich langs genoemd zijoppervlak uit strekt .

3. Diathermische lus volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat de snijdraad zich bij het eerste uitstekende orgaan (4) op een afstand van 20 5 - 7 mm en bij het tweede uitstekende orgaan (5) op een afstand van 2 - 4 mm van genoemd zijoppervlak (6) bevindt.

4. Diathermische lus volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat de snijdraad zich bij het eerste uitstekende orgaan (4) op een afstand van 25 ongeveer 6 mm en bij het tweede uitstekende orgaan (5) op een afstand van ongeveer 3 mm van genoemd zijoppervlak (6) bevindt.

5. Diathermische lus volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het lichaam tussen de eerste en tweede uitstekende organen 30 (4, 5) tenminste gedeeltelijk van transparant en optisch vergrotend materiaal is vervaardigd.

6. Diathermische lus volgens een van de conclusies 1 t/m 4, met het kenmerk, dat het lichaam een V-vormig verloop heeft en de snijdraad (3) 35 langs een been (7) van de V-vorm is gespannen.

7. Diathermische lus volgens een van de conclusies 1 t/m 4, met het kenmerk, dat het lichaam een dubbele V-vorm bezit, waarbij de snijdraad 1004723 (3) langs één been (7) van de dubbele V-vorm is gespannen en de lus tevens is voorzien van een verwisselbare, vergrotende lens (12) ingeklemd in de dubbele V-vorm. 5 ***** 1004723