LT6703B - Dvigubo atsako jonizuojančios spinduliuotės detektorius ir matavimo būdas - Google Patents
Dvigubo atsako jonizuojančios spinduliuotės detektorius ir matavimo būdas Download PDFInfo
- Publication number
- LT6703B LT6703B LT2018025A LT2018025A LT6703B LT 6703 B LT6703 B LT 6703B LT 2018025 A LT2018025 A LT 2018025A LT 2018025 A LT2018025 A LT 2018025A LT 6703 B LT6703 B LT 6703B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- radiation
- mesadar
- optical
- strip
- ionizing radiation
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 title claims description 33
- 230000004044 response Effects 0.000 title claims description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 51
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 32
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 15
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 14
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 9
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 8
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 5
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 abstract description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 9
- 230000006798 recombination Effects 0.000 abstract description 5
- 238000005215 recombination Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 11
- 230000004941 influx Effects 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 238000001748 luminescence spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000004435 EPR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 241000920340 Pion Species 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005298 paramagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
- H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H01L31/102—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
- H01L31/108—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the Schottky type
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
Pasiūlymas yra iš jonizuojančiosios spinduliuotės matavimų srities ir gali būti naudojamas spinduliuotės srauto, pėdsako ir įtėkio (suminės dozės) parametrų matavimams, sinchroniškai kontroliuojant antrinių (ir tretinių) krūvininkų porų dreifo srovės sandų ir spinduliuote indukuotos liuminescencijos intensyvumo kitimus, siekiant įvertinti spinduliuotės spektrą, stabdymo ilgį ir spinduliuotės pluoštelio skerspjūvio parametrus, ir yra tinkamas jonizuojančiųjų spinduliuočių poveikių kontrolei tiek apšvitos metu, tiek po apšvitų. Pasiūlyti penkių konstrukcijų juosteliniai detektoriai, formuojami plačiatarpių puslaidininkių pusiau-izoliuojančių medžiagų mezastruktūrų pagrindu, sudarant ominius/blokuojančius bei Šotkio kontaktus, p-n sandūras, ir šviesolaidinių zondų liniuotes, sinchroniškai matuojant optinio ir elektrinio atsako signalus. Aprašyti jonizuojančiųjų spinduliuočių detektavimo būdai, matavimų režimų esminiai bruožai ir paskirtis, pasitelkiant pasiūlytų konstrukcijų detektorius.
Description
Pasiūlymas yra iš jonizuojančiosios spinduliuotės aptikimo ir matavimo sričių, ir gali būti naudojamas surinktosios dozės/įtėkio matavimams po aukštųjų energijų spinduliuočių apšvitos, lokalios kumuliacinės dozės įvertinimui, mišrių γ ir hadronų spinduliuotės šaltinių identifikavimui ir jų lokalizavimui.
Detektoriaus analogas yra puslaidininkinis darinys, susidedantis iš plokštelės pavidalo p - laidumo puslaidininkinio padėklo, ant kurio pirmojo paviršiaus suformuotas dielektriko sluoksnis, kuriame suformuota kiaurymė iki padėklo pirmojo paviršiaus - optinis langas, kuriame padėklo pirmajame paviršiuje suformuotas metalo sluoksnis- Šotkio sandūra, kurios perimetru ant metalo sluoksnio suformuotas metalo ominis kontaktas su pirmuoju išvadų, padėkle po metalo sluoksniu optinio lango perimetru suformuotas n+ - laidumo žiedas, o padėklo antrajame paviršiuje suformuotas ominis kontaktas su antruoju išvadų (US Patent, No4533933A, Aug. 6, 1985, Fig. 1).
Detektoriaus analogo trūkumas yra tai, kad dėl apšvitos pluoštelio išplitimo padėklo paviršiuje yra nepakankama detektoriaus erdvinė skiriamoji geba. Kitas trūkumas yra tai, kad nėra galimybės registruoti detektoriuje sužadinto optinio atsako. Dar vienas trūkumas yra tai, kad Šotkio sandūra labai apriboja detektoriaus aktyviosios srities medžiagų pasirinkimą. Taip pat trūkumas yra tai, kad Šotkio sandūros tamsine srovė yra santykinai didelė, ir todėl yra santykinai maža pramušimo įtampa. Dar kitas trūkumas yra tai, kad Šotkio sandūra yra jautri foninei spinduliuotei, pavyzdžiui, optinio spektro šviesai.
Detektoriaus analogo-trūkumams pašalinti, puslaidininkinis darinys padarytas kitaip, o būtent, pločio x, aukščio y ir ilgio z plokštelės pavidalo padėklas, čia x, y ir z— Dekarto sistemos koordinatės, padarytas iš dielektriko, ant kurio pirmosios plokštumos paviršiaus suformuotas buferinis kristalines gardeles suderinantis sluoksnis, ant kurio paviršiaus, statmenai padėklo plokštumai, suformuotas a pločio, H aukščio ir / ilgio stačiakampio pavidalo labai silpnai donorinėmis priemaišomis Nd š 1014 cm-3 legiruotas n-- laidumo, arba homogeninis pusiau-izoliuojantis plačiatarpis binarinis puslaidininkis, kurio draustinių energijų tarpas A£g > 5 eV, ir todėl užtikrina nejautrą saulės spektro šviesai, mezadarinys, kuris padarytas, pavyzdžiui, juostelės pavidalo, kai / > a, o l*a plokštuma orientuota statmenai mezadarinio kristalo poliarizacijos c ašiai. Mezadarinio viršutinis laisvasis paviršius, lygiagretus padėklo pirmosios plokštumos paviršiui, yra detektoriaus optinis langas. Mezadarinio juostelės pirmojo ir antrojo šoninių paviršių plotai Sš (1; 2) = ΙΉ yra padengti metalo sluoksniais, sudarančiais su mezadarinio kristalu du atitinkamus Šotkio kontaktus pirmąjį ir antrąjį su atitinkamais išvadais- pirmuoju ir antruoju. Pirmasis šoninis paviršius 1 padengtas metalo sluoksniu visiškai - nuo buferinio sluoksnio iki aukščio Hi = H, o antrasis šoninis paviršius 2 padengtas metalo sluoksniu dalinai nuo buferinio sluoksnio iki aukščio H2 < H. Prie mezadarinio juostelės galų atitinkamų galinių paviršių Sg(i;2) = a-H statmenai yra sumontuotos vienmodžių šviesolaidžių atitinkamos grupės Μ(ι; 2χι-/ν) po N = 1; 2; 3;... šviesolaidžių - pirmoji grupė Mi(i_/v) ir antroji grupė M2(i-a/)· Atitinkamos grupės M(i; 2)(i-/v) šviesolaidžiai išdėstyti išilgai atitinkamo paviršiaus Sg (i; 2) įstrižainės, kai šios įstrižainės nėra lygiagrečios.
Antrame detektoriaus konstrukcijos variante, kitaip negu pirmajame variante, mezadarinio juostelės viršutiniame paviršiuje, lygiagrečiame padėklo pirmajam paviršiui, per visą juostelės ilgį / padarytas V- formos griovelis, kurio plotis d « a, o gylis h < H. V- griovelio trikampio viršūnė yra padaryta atstumu ai nuo juostelės pirmojo šoninio paviršiaus Sši su pirmuoju metalo sluoksniu ir atstumu a2 nuo juostelės antrojo šoninio paviršiaus Sš2 su antruoju metalo sluoksniu, kai ai + a2 = a. Mezadarinio juostelės atitinkamų šoninių paviršių plotai (i; 2) = IH yra padengti metalo sluoksniais, sudarančiais su mezadarinio kristalu du atitinkamus ominius kontaktus - pirmąjį ir antrąjį su atitinkamais išvadais - pirmuoju ir antruoju. Atitinkamos šviesolaidžių grupės M(i; 2)(ι-λο šviesolaidžių pirmieji galai yra išdėstyti tiesėje išilgai atitinkamo juostelės galo atitinkamo galinio paviršiaus Sg (i; 2) pločio a, atitinkamai žemiau gylio h ir santykinai arti mezadarinio ribos su buferiniu sluoksniu, ir statmenai paviršiams Sg (i; 2).
Trečiajame detektoriaus konstrukcijos variante, pavyzdžiui, pirmojo arba antrojo konstrukcijų variantų detektoriai sudaro matricą, kurioje Q = 1; 2; 3;... lygiagrečios detektorių juostelės yra sumontuotos ant bendro padėklo viršutinės plokštumos atstumuose r > a kryptimi, statmena juostelėms, šalia vienas kito su atitinkamai atskirtais elektriniais ir optiniais išvadais. Todėl detektorių matrica turi Q kartų daugiau atitinkamų porų elektrinių ir optinių grupių išvadų.
Ketvirtajame detektoriaus konstrukcijos variante, kitaip negu pirmajame variante, mezadarinys padarytas dviejų laiptelių pavidalu su viršutiniais paviršiais, lygiagrečiais padėklo viršutinio paviršiaus plokštumai ir laiptelių paviršiai sudaro dvi atitinkamas lygiagrečias juosteles. Pirmojo laiptelio - mezadarinio aukštis H-i, H2antrojo laiptelio - mezadarinio aukštis ir < H2. Laiptelių atitinkami ilgiai /1 = /2 = /,0 atitinkami pločiai ai « a2 < /. Antrojo laiptelio viršutiniame paviršiuje suformuotas akceptorinėmis priemaišomis Na > 1018 cm-3 stipriai legiruotos p+- laidumo medžiagos santykinai plonas sluoksnis, sudarantis vertikalią p+-n sandūrą su antrojo laiptelio n’- laidumo medžiagos sluoksniu, gylyje /?i = H2 - l~h nuo viršutinio paviršiaus suformuotas santykinai siauras rekombinacinis sluoksnis - aktyvioji optinės spinduliuotės sritis. Laiptelių viršutiniai paviršiai yra padengti atitinkamais plonais metalo sluoksniais, sudarančiais su kristalu atitinkamus ominius kontaktus su atitinkamais išvadais - pirmuoju ir antruoju, kai ploni metalų sluoksniai yra skaidrūs registruojamai spinduliuotei. Atitinkamos šviesolaidžių grupės M(i; 2)d-/v) šviesolaidžių pirmieji galai išdėstyti tiesėje išilgai antrojo laiptelio juostelės atitinkamų galų paviršių Sg 2 (i; 2) pločio 82, atitinkamai aukštyje /-/1, kuriame yra aktyvioji optinės spinduliuotės sritis, ir statmenai paviršiams Sg 2 (i; 2)·
Penktajame detektoriaus konstrukcijos variante, kitaip negu ketvirtame variante, pirmojo laiptelio aukščio mezadarinio sritis V-ι = (ai + a2)7/7i yra stipriai legiruota donorinėmis priemaišomis A/d 1 > 1019 cm-3, sudarančiomis elektroninio laidumo n+- sritį, o likusioji antrojo laiptelio mezadarinio sritis V2 = a2-/-(H2 - Hi) yra stipriai legiruota akceptorinėmis priemaišomis Na 1 > 1018 cm-3, sudarančiomis skylinio laidumo p+- sritį, kuri su n+- sritimi sudaro vertikalią p+-n+ sandūrą, kurioje nėra specialiai sudaryto rekombinacinio sluoksnio. Atitinkamos šviesolaidžių grupės M(i; 2)(i-/v) šviesolaidžių pirmieji galai išdėstyti tiesėje išilgai atitinkamų laiptelių juostelių atitinkamų galų paviršių Sg (i; 2) (i; 2) pločių a(i; 2), statmenai atitinkamų juostelių galų paviršiams Sg(i; 2) (i; 2) ir išilgai n+- srities aukštyje ~ HJ2 nuo buferinio sluoksnio viršutinio paviršiaus.
Jonizuojančiosios spinduliuotės matavimo būdo analogas yra seka matavimų ir būtinų sąlygų, kuriame jonizuojančią spinduliuotę paduoda į spinduliuotei jautrų detektorių, matuoja laisvųjų radikalų koncentraciją apšvitintame tabletiniame arba juosteliniame alanino dozimetre elektronų sukinių paramagnetinio rezonanso būdu (EPR spektrometrijos metodas), ir iš EPR spektro tam tikrų linijų amplitudžių santykio apskaičiuoja dozimetro sugertos energijos vertę, tenkančią dozimetro masės vienetui, ir tai atitinka dozę. Šis santykis siauruose energijų intervaluose priklauso tiesiškai nuo apšvitos įtėkio. Laikoma, kad alanino dozimetro atsakas į apšvitinimą γ spinduliuote, aprašomas tiesine priklausomybe nuo dozės dydžio (Patentas W02008077891, G01T1/04, 2008-07-03).
Jonizuojančiosios spinduliuotės matavimo būdo analogo trūkumas yra tai, kad įvairios sudėties spinduliuotei (γ—spinduliuotei, elektringoms dalelėms, neutronams ir t. t.) reikia koreguoti dozimetro atsaką, įvedant santykinį efektyvumą, kuris ženkliai priklauso nuo detalaus spinduliuotės spektro, ir todėl gali būti sumodeliuotas tik žinant dalelės krūvį, greitį, dalelių jtėkį ir dozės radialinį pasiskirstymą dalelės pėdsako srityje, ir turint visą seką siaurų dozės verčių sričių Mn reperius.
Jonizuojančiosios spinduliuotės matavimo būdo analogo trūkumams pašalinti, kitaip negu būdo analoge yra naudojami aukščiau aprašytos konstrukcijos dvigubo atsako detektoriai, kurių optinio ir elektrinio atsako signalus registruoja sinchroniškai, skenuojant jonizuojančiosios spinduliuotės aukštųjų energijų („elementariųjų“, tokių kaip γ- spektro fotonų, neutronų, protonų, pionų ir kt.) dalelių praskriejimo detektoriaus jautrioje spinduliuotei medžiagoje pėdsaką, bei prasiskverbimo (stabdymo) gylį, o apšvitos įtėkj (dozę) įvertina iš optinių bei elektrinių signalų verčių sumažėjimo dėl sukaupiamų radiacinių defektų tankio padidėjimo.
Jonizuojančiosios spinduliuotės detektoriaus pirmojo, antrojo, ketvirtojo ir penktojo variantų konstrukcijų skersiniai pjūviai y-x plokštumoje yra parodyti atitinkamai Fig. 1a, Fig. 2a, Fig. 4a ir Fig. 5a, o visų variantų konstrukcijų planariniai vaizdai iš viršaus - atitinkamai Fig. 1b, Fig. 2b, Fig. 3, Fig. 4b ir Fig. 5b. Fig. 1—Fig. 5 skaitmenimis ir simboliais pažymėta: 1 - plokštelės pločio x, aukščio y ir ilgio z pavidalo padėklas, pavyzdžiui, safyras, čia x, y, z - Dekarto koordinatės; 2 - ant padėklo 1 viršutinio paviršius suformuotas kristalų gardelių suderinimo sluoksnis; 3 stačiakampio, pavyzdžiui, juostelės pavidalo H aukščio, a pločio ir / ilgio silpnai donorinėmis priemaišomis Nd legiruotas n-- elektroninio laidumo arba pusiauizoliuojančio (siekiant, kad spinduliuočių sukuriamų antrinių krūvininkų tankis būtų didesnis už pusiausvirųjų krūvininkų, ir tuo būdu užtikrinant reikiamą detektoriaus jautrį) puslaidininkinis mezadarinys, pavyzdžiui, GaN, sintetinis deimantas ir kiti; 4 ir 5 - mezadarinio 3 priešinguose šoninių plokštumų, pavyzdžiui, lygiagrečiuose plokštumai y-z, paviršiuose, statmenuose padėklui 1, suformuoti metalo sluoksniai, sudarantys pirmąjį ir antrąjį Šotkio (arba ominius) kontaktus su atitinkamais elektriniais išvadais 4.1 ir 5.1; 6 ir 7 - atitinkamos vienmodžių optinio diapazono šviesolaidžių grupės - pirmoji ir antroji, turinčios po Λ/ = 1; 2; 3;... šviesolaidžių, kurie prišlifuoti/prilydyti ir sumontuoti atitinkamų galų plokštumose statmenai mezadarinio 3 juostelės, lygiagrečiose y-x plokštumai, kai juostelės galų plokštumos yra optiškai glotnios ir elektriškai pasyvuotos; 8 - mezadarinio 3 viršutiniame paviršiuje, lygiagrečiame plokštumai x-z, per visą mezadarinio 3 plotį a ir ilgį / suformuotas Vformos griovelis, kurio gylis h nuo viršutinio paviršiaus parenkamas h < H, siekiant užtikrinti reikiamą elektrinio lauko E stiprį V- formos griovelyje ir kartu detektoriaus erdvinę skiriamąją gebą, kai išorinis įtampos šaltinis U yra prijungtas prie išvadų 4.1 ir 5.1; 9- detektorių 3.(1-/W) matricos bendrasis padėklas; 10- akceptorinėmis priemaišomis Na stipriai legiruota sritis; 11 - rekombinacinis sluoksnis - aktyvioji optinės spinduliuotės sritis; Φ- jonizuojančios spinduliuotės detektuojamas srautas.
Jonizuojančios spinduliuotės detektoriaus (Fig.1) pirmojo varianto konstrukcija sudaryta iš plokštelės pavidalo padėklo 1, padaryto iš dielektriko, pavyzdžiui, iš safyro, ant kurio viršutinio paviršiaus suformuotas buferinis (suderinimo) sluoksnis 2, kurio kristalinės gardelės parametrai artimi puslaidininkinio mezadarinio 3 medžiagos struktūriniams parametrams. Ant buferinio sluoksnio 2 viršutinio paviršiaus suformuotas H aukščio, a pločio ir / ilgio stačiakampio, pavyzdžiui, juostelės pavidalo, kai / > a, mezadarinys 3, kurio viršutinis paviršius yra lygiagretus padėklo 1 viršutiniam paviršiui. Mezadarinio 3 ilgis / orientuotas statmenai mezadarinio 3 kristalo poliarizacijos c krypčiai. Mezadarinys 3 padarytas, pavyzdžiui, iš silpnai donorinėmis priemaišomis A/d < 1014 cm-3 legiruoto n-- laidumo puslaidininkio, arba homogeninio pusiau-izoliuojančio plačiatarpio binarinio puslaidininkio, kurio draustinių energijų tarpas A£g > 5 eV, ir todėl tai užtikrina nejautrą Saulės spektro šviesai. Mezadarinio 3 viršutinis paviršius yra optinis langas, per kurį patenka jonizuojančios spinduliuotės detektuojamas srautas Φ. Mezadarinio 3 juostelės pirmojo ir antrojo šoninių paviršių plotai Sš (1; 2) = ΙΉ yra padengti atitinkamais metalo sluoksniais 4 ir 5, sudarančiais su mezadarinio 3 kristalu du atitinkamus Šotkio kontaktus - pirmąjį ir antrąjį su atitinkamais išvadais - pirmuoju 4.1 ir antruoju 5.1. Pirmasis šoninis paviršius Sš 1 yra visiškai padengtas metalo sluoksniu 4 - nuo buferinio sluoksnio 2 viršutinio paviršiaus iki aukščio H-į = H, o antrasis šoninis paviršius 2 padengtas metalo sluoksniu 5 dalinai - nuo buferinio sluoksnio 2 viršutinio paviršiaus iki aukščio H2 < H. Prie mezadarinio 3 juostelės galų atitinkamų galinių paviršių Sg (i; 2) = a-H yra statmenai sumontuotos atitinkamų vienmodžių šviesolaidžių grupių 6 ir 7 atitinkamų šviesolaidžių (6.1-6.Λ/) ir (7.1-7.N) pirmieji galai, kai šviesolaidžių grupėse 6 ir 7 yra po N = 1; 2; 3;... šviesolaidžių. Atitinkamos grupės 6 ir 7 šviesolaidžių (6.1-6.N) ir (7.1-7.Λ/) pirmieji galai išdėstyti statmenai ir išilgai juostelės atitinkamų galinių paviršių Sg (1; 2) atitinkamų įstrižainių, kai šios priešingos įstrižainės nėra lygiagrečios. Mezadarinio 3 juostelės galai yra nupjauti statmenai, nupoliruoti optiniu glotnumu ir elektriškai izoliuoti, o prie jų atitinkamai prispausti pripoliruoti arba prilydyti atitinkamų grupių 6 ir 7 vienmodžių šviesolaidžių sekų (6.1-6.N) ir (7.1-7.Λ/) pirmieji galai, kai grupių 6 ir 7 atitinkamų šviesolaidžių (6.1-6.Λ/) ir (7.1-7.Λ/) antrieji galai yra komutuojami su optinių signalų registravimo daugiakanaliais įrenginiais.
Jonizuojančios spinduliuotės detektoriaus antrojo varianto konstrukcija (Fig.2) sudaryta analogiškai pirmojo varianto konstrukcijai (Fig.1), tik šiuo atveju mezadarinio 3 juostelės viršutiniame paviršiuje - optiniame lange per visą juostelės 3 ilgį / padarytas V- formos griovelis 8, kurio plotis d « a, o gylis h nuo juostelės 3 viršutinio paviršiaus padarytas h < H. Ši sąlyga leidžia užtikrinti reikiamą elektrinio lauko E stiprį po V- formos grioveliu 8 mezadarinyje 3 ir kartu padidinti detektoriaus erdvinę skiriamąją gebą, kai išorinis įtampos šaltinis (J yra prijungtas prie išvadų 4.1 ir 5.1. Mezadarinio 3 juostelės šoninių paviršių plotai (1; 2) = IH yra padengti atitinkamais metalo sluoksniais 4 ir 5, sudarančiais su mezadarinio 3 kristalu du atitinkamus ominius kontaktus - pirmąjį ir antrąjį su atitinkamais išvadais - pirmuoju 4.1 ir antruoju 5.1. Atitinkamos šviesolaidžių grupės 6 ir 7 šviesolaidžių (6.1-6.Λ/) ir (7.1-7.N) pirmieji galai išdėstyti per visą mezadarinio 3 plotį a tiesėje išilgai pločio a ir statmenai juostelės atitinkamiems galiniams paviršiams Sg (i, 2>, kai išdėstymo tiesė yra tarp buferinio sluoksnio 2 viršutinio paviršiaus ir V- kanalo 8 dugno. V- formos griovelio 8 dugno vieta yra padaryta atstumu ai nuo juostelės šoninio paviršiaus Sš 1 su metalo sluoksniu 4 ir atstumu a2 nuo juostelės šoninio paviršiaus 2 su metalo sluoksniu 5, kai ai + a2 = a.
Jonizuojančios spinduliuotės detektoriaus trečiojo varianto konstrukcija (Fig.3) sudaryta, pavyzdžiui, iš Q = 1; 2; 3;... pirmojo arba antrojo variantų konstrukcijų (Fig.1, Fig.2) detektorių 3.1-3.Q, kurie sudaro matricą, kurioje Q mezadarinių 3.1-3.Q yra sumontuoti ant bendro padėklo 9 viršutinio paviršiaus plokštumos vienoje tiesėje 0-0 išilgai mezadarinių 3.1-3.Q pločių a šalia vienas kito su atitinkamai išskirtais elektriniais 4.1-5.1 ir atitinkamais optiniais 6-7 išvadais. Todėl detektorių matrica turi Q kartų daugiau atitinkamų porų elektrinių 4.1-5.1 ir optinių grupių 6-7 atitinkamų išvadų.
Jonizuojančios spinduliuotės detektoriaus ketvirtojo varianto konstrukcija (Fig.4) sudaryta analogiškai pirmojo varianto konstrukcijai (Fig.1), tik šiuo atveju juostelės mezadarinys 3 padarytas dviejų laiptelių 3.h1 ir 3.h2 pavidalu su viršutiniais paviršiais, lygiagrečiais padėklo 1 viršutinio paviršiaus plokštumai, ir laiptelių 3.h1 ir 3.h2 paviršiai sudaro dvi atitinkamas lygiagrečias juosteles. Pirmojo laiptelio mezadarinio 3.h1 aukštis H\, antrojo laiptelio - mezadarinio 3.h2 aukštis H2 taip, kad l~h < H2. Laiptelių 3.h(1; 2) atitinkami ilgiai /1 = /2 = /, o atitinkami pločiai ai » a2 < /. Antrojo laiptelio 3.h2 viršutiniame paviršiuje suformuotas akceptorinėmis priemaišomis Na 2 > 1019 cm-3 stipriai legiruotas p+- laidumo santykinai plonas sluoksnis 10, sudarantis vertikalią p+-n sandūrą, o antrojo laiptelio 3.h2 gylyje /?i = H2 - H1 nuo viršutinio paviršiaus suformuotas santykinai siauras rekombinacinis sluoksnis 11 - aktyvioji optinės spinduliuotės sritis 11, pavyzdžiui, padaryta supergardelės struktūros. Laiptelių 3.h(1; 2) viršutiniai paviršiai padengti atitinkamais metalo sluoksniais 4 ir 5, sudarančiais su mezadarinių 3.h(1; 2) kristalais atitinkamus ominius kontaktus su atitinkamais išvadais- pirmuoju 4.1 ir antruoju 5.1, kai ploni metalų sluoksniai 4 ir 5 yra skaidrūs registruojamai spinduliuotei. Atitinkamų šviesolaidžių grupių 6 ir 7 šviesolaidžių 6.1-6.A/ ir 7.1-7.Λ/ pirmieji galai išdėstyti per visą antrojo laiptelio 3.h2 plotį a2 tiesėje išilgai antrojo laiptelio 3.h2 atitinkamų galų pločio a2 ir statmenai juostelės 3.h2 atitinkamų galų paviršiams Sg h2 <i; 2), atitinkamai aukštyje Hi, kuriame yra aktyvioji optinės spinduliuotės sritis 11.
Jonizuojančios spinduliuotės detektoriaus penktojo varianto konstrukcija (Fig.5) sudaryta analogiškai ketvirtojo varianto konstrukcijai (Fig.4), tik šiuo atveju mezadarinio 3 pirmojo laiptelio 3.h1 aukščio mezadarinio 3 sritis Vi = (a! + a2)IHi yra stipriai legiruota donorinėmis priemaišomis Nd 1 1019 cm-3, sudarančiomis elektroninio laidumo n+- sritį, o likusioji antrojo laiptelio 3.h2 mezadarinio 3 sritis V2 = a2l(H2 - /-/1) yra stipriai legiruota akceptorinėmis priemaišomis Na i > 1018 cm-3, sudarančiomis skylinio laidumo p+- sritį, kuri su n+- sritimi sudaro vertikalią p+-n+ sandūrą, kurioje nėra specialiai sudaryto rekombinacinio sluoksnio. Atitinkamų šviesolaidžių grupių 6 ir 7 šviesolaidžių 6.1-6.Λ/ ir 7.1-7.N pirmieji galai išdėstyti tiesėje išilgai atitinkamų laiptelių 3.h(1; 2) atitinkamų galų atitinkamų paviršių Sg h2) (i; 2) atitinkamų pločių a(1; 2), statmenai atitinkamų juostelių 3.h(1; 2) galų paviršiams
Sg (hi; h2) (i; 2), ir išilgai n+- srities 3.h1 aukštyje ~/-/i/2 nuo buferinio sluoksnio 2 viršutinio paviršiaus.
Pirmojo varianto konstrukcijos jonizuojančios spinduliuotės detektorius (Fig. 1) veikia taip.
Tarp detektoriaus elektrinių išvadų 4.1 ir 5.1 prijungia užtvarinio asimetrinės sandūros (pasirenka iš voltamperinių charakteristikų - Fig.6) poliškumo išorinio šaltinio U įtampą t/R, ir į detektoriaus mezadarinį 3 per viršutinį juostelės paviršių paduoda detektuojamą jonizuojančiosios spinduliuotės srautą Φ. Apšvitos rautas Φ mezadarinio 3 tūryje generuoja antrines (nepusiausvyrines) elektronų (n) ir skylių (p) poras (np), ir atitinkama matavimo įranga registruoja antrinių skylių ir elektronų dreifo srovės kinetiką arba krūvio ekstrakcijos srovę. Sinchroniškai dalis antrinių krūvininkų np rekombinuoja per liuminescencijos kanalus. Liuminescencijos intensyvumą optinėje liuminescencijos spektro juostoje registruoja šviesolaidžių „liniuotėmis“ 6 ir 7 su daugiakanaliu liuminescencijos spektro ir kinetikų analizatoriumi. Derindami sinchroniškai užregistruotas srovės bei liuminescencijos charakteristikas (intensyvumo pasiskirstymą liuminescencijos šviesolaidiniuose zonduose 6.1-6.Λ/ ir 7.1-7.Λ/, srovės sandų amplitudines vertes, ir kt), modelines fiksuotos spektro srities spinduliuotės stabdymo detektoriaus mezadarinio 3 medžiagoje gylio, skylių ir elektronų dreifo ilgio, bei tranzito trukmės, pagal sukurtą algoritmą įvertina krintančios spinduliuotės Φ spektrinę sudėtį (pagal efektyvų stabdymo ilgį, išskiriamą detektoriaus galų įstrižainėje išdėstytais šviesolaidiniais zondais 6 ir 7, ir sukurtų antrinių porų np skaičių, kurį įvertina iš srovės kitimų laike (t), ir srautą (pagal srovės stiprio sandus - Fig.6), bei spinduliuotės pėdsaką. Spinduliuotės Φ įtėkį (sukauptą dozę) įvertina sinchroniškai matuodami krūvio surinkimo efektyvumą (srovės grandinėje) ir liuminescencijos intensyvumo kitimą apšvitos metu, arba palygina registruojamų elektrinių ir optinių parametrų vertes su kalibracinėmis šių kitimų charakteristikomis po apšvitos. Slenkant detektorių statmenoje srautui Φ plokštumoje atlieka krintančios spinduliuotės Φ pluoštelio skerspjūvio (formos) skenavimą (Fig.7).
Antrojo varianto konstrukcijos jonizuojančios spinduliuotės detektorius (Fig.2) veikia taip.
Tarp detektoriaus elektrinių išvadų 4.1 ir 5.1 prijungia užtvarinio (pasirenka iš voltamperinės charakteristikas - Fig.6) asimetrinės sandūros poliškumo išorinio šaltinio U įtampą L/r ir j detektoriaus mezadarinį 3 per viršutinį juostelės paviršių su V- formos grioveliu 8 paduoda detektuojamą jonizuojančios spinduliuotės srautą Φ. Apšvitos rautas Φ mezadarinio 3 tūryje generuoja antrines poras np, kurių tankis Λ/ηρ susietas su krintančios spinduliuotės Φ kvanto (dalelės) energija h-v, čia; h - Planko konstanta, v- elektromagnetinės spinduliuotės dažnis, paviršiniu į detektorių krintančių spinduliuotės Φ kvantų tankiu Nv, bei apšvitos pobūdžiu (impulsinės spinduliuotės Φ(ί) atveju, per impulso trukmę Δί, nuostoviosios spinduliuotės Φ(ί) = const atveju per 1 sekundę). Nuostoviosios spinduliuotės atveju išorinėje srovės grandinėje matuoja p-n sandūros trumpojo jungimo nuolatinę srovę, kuri yra proporcinga apšvitos srautui Φ. Impulsinės apšvitos atveju, esant mažam apšvitos srautui, registruoja antrinių skylių ir elektronų dreifo sukeltą slinkties srovės kinetiką, o didelio apšvitos srauto atveju krūvininkų (domeno, plintančio dėl ambipolės difuzijos) ištraukimo srovės kinetiką. Sinchroniškai dalis antrinių krūvininkų rekombinuoja per nespindulinės rekombinacijos centrus mezadarinio 3 medžiagoje ir per liuminescencijos (donor-akceptorinės (DA), juosta-D, A-juosta spindulinės rekombinacijos) kanalus. Liuminescencijos intensyvumą pasirinktoje spindulinės rekombinacijos spektro juostoje registruoja šviesolaidžių „liniuotėmis“ 6 ir 7 (skeneriu) ir perduoda j integruojantį arba laike t išskleistą daugiakanalį liuminescencijos spektro ir kinetikų analizatorių. Derina sinchroniškai užregistruotas srovės bei liuminescencijos charakteristikas (intensyvumo pasiskirstymą tarp liuminescencijos analizatoriaus kanalų, srovės sandų amplitudines vertes, srovės ir liuminescencijos impulsų trukmę, ir kt.) ir modelines charakteristikas, nulemtas fiksuotos spektro srities spinduliuotės stabdymo detektoriaus mezadarinio 3 medžiagoje gylio, skylių ir elektronų dreifo ilgio, bei tranzito trukmės, ir pagal sukurtą algoritmą įvertina krintančios spinduliuotės Φ spektrinę sudėtį (pagal efektyvų spinduliuotės stabdymo ilgį ir sukurtų antrinių krūvininkų porų np skaičių), srautą (pagal srovės stiprio sandus) ir spinduliuotės (lokalizaciją) pėdsaką (pagal liuminescencijos intensyvumo pasiskirstymą šviesolaidinių zondų „liniuotėse“ 6 ir 7). Spinduliuotės Φ įtėkį (sukauptą dozę) įvertina sinchroniškai matuodami laike integruotų elektrinio atsako kinetikų (krūvio surinkimo efektyvumo) ir liuminescencijos intensyvumo (pasirinktoje liuminescencijos spektro juostoje) kitimą apšvitos ekspozicijos laike, arba palygina momentines (bei po-apšvitimines) registruojamų elektrinių (pasitelkdami lazerinius spinduliuočių emuliatorius) ir optinių parametrų vertes su kalibracinėmis šių kitimų charakteristikomis. Sinchroninio elektrinio ir optinio detektoriaus atsakų komponentų registravimo daugiakanaliuose grandynuose sekos kontrolė leidžia registruoti ir pavienių didelės energijos fotonų h-v kritimo į detektorių įvykius ir keleto jų sutapimą/išsiskyrimą laike. Skvarbiosioms spinduliuotiems, kurių sąveikos skerspjūvis yra mažas, o stabdymo ilgis ženkliai viršija mezadarinio 3 aukštį H, aprašytu būdu gali būti išmatuotas tik srautas, o spektrui įvertinti būtinas skirtingo aukščio mezadarinių rinkinys.
Trečiojo varianto konstrukcijos jonizuojančios spinduliuotės detektorius (Fig.3) veikia taip.
Lokalių detektorių 3.1-3.M, sudarančių matricą, veikimas yra analogiškas aprašytiems aukščiau procesams. Detektorių 3.1-3.M matricos signalų nuskaitymą per atitinkamų multipleksorių sistemą vykdo sinchroniškai, pluoštelių ir įtėkio planariniam pasiskirstymui registruoti, arba įveda valdomas užlaikymų sistemas, kai siekia registruoti dalelių patekimo bei išėjimo iš lokalių matricos sektorių (detektorių) atitinkamų mezadarinių 3.1-3.M tūrio atitinkamus laiko momentus.
Ketvirtojo varianto konstrukcijos jonizuojančios spinduliuotės detektorius (Fig.4) veikia taip.
Tarp detektoriaus elektrinių išvadų 4.1 ir 5.1 prijungia išorinio šaltinio U įtampą L/r užtvarine p+-n~ sandūrai kryptimi. Į detektoriaus mezadarinių 3.h1 ir 3.h2 juostelių 4 ir 5 paviršius paduoda detektuojamą jonizuojančios spinduliuotės srautą Φ. Apšvitos rautas Φ mezadarinio 3 tūryje generuoja antrines krūvininkų poras np, kurie yra generuojami arba antrojo laiptelio mezadarinio 3.h2 ploname viršutiniame p+- sluoksnyje (itin stipriai stabdomos, mažos energijos fotonų/dalelių spinduliuotės atveju), arba visame p++- n“ darinio tūryje (skvarbiosios spinduliuotės atveju) ir registruoja kaupiamąjį įtėkį apšvitos metu, arba detektorių sužadina kalibruoto intensyvumo lazerinio emuliatoriaus spinduliuote po apšvitos ir sinchroniškai registruoja elektrinį, bei optinius detektoriaus atsakus. Spinduliuotės Φ įtėkį (sukauptą dozę) įvertina (remiantis sukurtu algoritmu) palygindami registruojamų elektrinių ir optinių signalų atitinkamų parametrų vertes su kalibracinėmis šių kitimų charakteristikomis. Išmatuoto įtėkio vertės gali būti perduotos nuotoliniu būdu, užkodavus skaitmeniškai optinius signalus (perduodamus laisvoje erdvėje arba tam skirtu šviesolaidiniu kanalu), generuojamus detektoriaus super-gardelių sluoksnyje
11, kai išorinės įtampos Up poliarumą pakeičia į tiesioginio poliarumo Up įtampą.
Penktojo varianto konstrukcijos jonizuojančios spinduliuotės detektorius (Fig.5) veikia taip.
Tarp detektoriaus elektrinių išvadų 4.1 ir 5.1 prijungia išorinio šaltinio U įtampą Up užtvarinio p+-n+ sandūrai poliarumo, kurios vertę valdo ir derina su registruojamų elektrinių signalų verte (priklausomai nuo apšvitos srauto Φ arba sukauptos dozės). Į detektoriaus mezadarinių 3.h1 ir 3.h2 juostelių 4 ir 5 paviršius paduoda detektuojamą apšvitos srautą Φ. Matuoja detektoriaus srovės stiprį ir sinchroniškai registruoja liuminescencijos optinio signalo intensyvumą, kuriuos lemia antrinių/tretinių krūvininkų porų np dreifas, sustiprintas smūginės jonizacijos. Spinduliuotės Φ įtėkis (sukaupta dozė) yra įvertinama, remiantis sukurtu algoritmu, kai palygina registruojamų elektrinių ir optinių signalų atitinkamų parametrų vertes su kalibracinėmis šių kitimų charakteristikomis. Ši detektoriaus konstrukcija ir jo veikimo režimas skirtas mažų spinduliuotės srautų Φ arba didelių įtėkių detektavimui.
Palyginus su analogais, pasiūlyti jonizuojančių spinduliuočių detektoriaus konstrukcijų variantai bei parametrų matavimo (detektavimo) būdai, pasižymi gera erdvine ir laikine skiriamąja geba, tamsine detektorių srovė yra santykinai maža, detektorius nėra jautrus foninei (Saulės spektro) spinduliuotei, optinių signalų perdavimo traktai yra nejautrūs elektriniams triukšmams.
Claims (6)
- IŠRADIMO APIBRĖŽTIS1. Jonizuojančiosios spinduliuotės detektorius, susidedantis iš plokštelės pavidalo, pavyzdžiui, skylinio (p-laidumo) puslaidininkinio padėklo, ant kurio viršutinio paviršiaus suformuotas dielektriko sluoksnis, kuriame suformuota kiaurymė iki padėklo viršutinio paviršiaus - optinis langas - jonizuojančiosios spinduliuotės poveikiui, padėklo apatiniame paviršiuje po optiniu langu suformuotas metalo sluoksnis - Šotkio sandūra, kurios perimetru ant metalo sluoksnio suformuotas metalo ominis kontaktas - pirmasis išvadas, padėkle po metalo sluoksniu jo perimetru suformuotas elektroninio n+- laidumo žiedas, o padėklo apatiniame paviršiuje suformuotas kitas ominis kontaktas - antrasis išvadas, besiskirianti s tuo, kad plokštelės pavidalo padėklas padarytas iš dielektriko, ant kurio viršutinio paviršiaus suformuotas buferinis (suderinimo) sluoksnis, ant kurio viršutinio paviršiaus suformuotas H aukščio, a pločio ir / ilgio, kai a < H < /, stačiakampės juostelės pavidalo mezadarinys, kurio viršutinis paviršius -langas spinduliuotei yra mezadarinys lygiagretus padėklo viršutiniam paviršiui, sudarytas iš donorinėmis priemaišomis Λ/d 1013 cm-3 silpnai legiruoto n-- laidumo puslaidininkio arba homogeninio pusiau-izoliuojančio plačiatarpio binarinio puslaidininkio, o l*a plokštuma yra orientuota statmenai mezadarinio kristalo poliarizacijos c ašiai, mezadarinio juostelės pirmojo ir antrojo šoninių paviršių plotai Sš (1; 2) = I H yra padengti metalo sluoksniais, sudarančiais su mezadarinio kristalu du atitinkamus Šotkio kontaktus - pirmąjį ir antrąjį su atitinkamais išvadais - pirmuoju ir antruoju, pirmasis šoninis paviršius Sš 1 padengtas metalo sluoksniu visiškai - nuo buferinio sluoksnio iki aukščio /-/i = H, o antrasis šoninis paviršius Sš 2 padengtas metalo sluoksniu dalinai - nuo buferinio sluoksnio iki aukščio H2 < H, prie mezadarinio juostelės galų atitinkamų galinių paviršių Sg(i:2) = a-H, statmenų padėklo viršutiniam paviršiui, yra statmenai paviršiams Sg (1; 2) sumontuoti vienmodžių šviesolaidžių pirmieji galai, atitinkamai pirmosios šviesolaidžių grupės Mi(i_w) - prie paviršiaus Sg 1, ir antrosios šviesolaidžių grupės M2(i-a/) - prie paviršiaus Sg 2, kai atitinkamose šviesolaidžių grupėse yra po N = 1; 2; 3;... šviesolaidžių, o atitinkamos šviesolaidžių grupės M(i; 2)(i-/v) šviesolaidžių pirmieji galai išdėstyti išilgai atitinkamų juostelių galinių paviršių Sg (1; 2) atitinkamų įstrižainių, kai šios įstrižainės nėra lygiagrečios, ir statmenai šiems paviršiams Sg (i;2).
- 2. Jonizuojančiosios spinduliuotės detektorius, pagal 1 punktą, b e s i s k i r i antis tuo, kad mezadarinio juostelės viršutiniame paviršiuje - lange spinduliuotei per visą juostelės ilgį / padarytas V- formos griovelis, kurio plotis d « a, o gylis h < H, o V- formos griovelio dugno vieta yra padaryta atstumu ai nuo juostelės pirmojo šoninio paviršiaus su pirmuoju metalo sluoksniu ir atstumu a2 nuo juostelės antrojo šoninio paviršiaus su antruoju metalo sluoksniu, kai ai + a2 = a, mezadarinio juostelės atitinkamų šoninių paviršių plotai Sš (i; 2) = IH yra padengti metalo sluoksniais, sudarančiais su mezadarinio kristalu du atitinkamus ominius kontaktus pirmąjį ir antrąjį, su atitinkamais išvadais- pirmuoju ir antruoju, atitinkamos šviesolaidžių grupės M(i; 2)(i-a/) šviesolaidžių pirmieji galai išdėstyti tiesėje išilgai juostelės atitinkamų galų atitinkamų paviršių Sg(i;2) pločio a, atitinkamai žemiau gylio h ir santykinai arti mezadarinio ribos su buferiniu sluoksniu, ir statmenai paviršiams sg d; 2)·
- 3. Jonizuojančiosios spinduliuotės detektorius, pagal 1 punktą, b e s i s k i r i antis tuo, kad mezadarinys padarytas dviejų laiptelių pavidalu su viršutiniais paviršiais, lygiagrečiais padėklo viršutinio paviršiaus plokštumai, ir laiptelių paviršiai sudaro dvi atitinkamas lygiagrečias juosteles, kai pirmojo laiptelio - mezadarinio aukštis Hi , antrojo laiptelio - mezadarinio aukštis H2 taip, kad Hi < H2, o laiptelių atitinkami ilgiai ή = l2 = I, kai jų atitinkami pločiai a^ ~ a2 < I, antrojo laiptelio viršutiniame paviršiuje suformuotas akceptorinėmis priemaišomis Na > 1018 cm-3 stipriai legiruotas p+- laidumo santykinai plonas sluoksnis, sudarantis vertikalią p+-n“ sandūrą, o antrojo laiptelio gylyje = H2- /-/i nuo viršutinio paviršiaus suformuotas santykinai siauras rekombinacinis sluoksnis - aktyvioji optinės spinduliuotės sritis, pavyzdžiui, padaryta super-gardelės pavidalu, laiptelių viršutiniai paviršiai padengti atitinkamais plonais metalo sluoksniais, sudarančiais su kristalu atitinkamus ominius kontaktus su atitinkamais išvadais - pirmuoju ir antruoju, kai ploni metalų sluoksniai yra skaidrūs detektuojamai spinduliuotei, atitinkamos šviesolaidžių grupės M(i; 2)<i-a/) šviesolaidžių pirmieji galai išdėstyti tiesėje išilgai antrojo laiptelio juostelės atitinkamų galų paviršių Sg 2 (1; 2) pločio a2, atitinkamai aukštyje kuriame yra aktyvioji optinės spinduliuotės sritis, ir statmenai paviršiams Sg2(i;2).
- 4. Jonizuojančiosios spinduliuotės detektorius, pagal 3 punktą, b e s i s k i r i antis tuo, kad pirmojo laiptelio aukščio /7i mezadarinio sritis \Ą = (a-ι + a2)/Hi yra stipriai legiruota donorinėmis priemaišomis Λ/d > 1019 cm-3, sudarančiomis elektroninio laidumo n+- sritį, o likusioji antrojo laiptelio mezadarinio sritis V2 = a2 l (H2- H-i) yra stipriai legiruota akceptorinėmis priemaišomis Na > 1018 cm-3, sudarančiomis skylinio laidumo p+- sritį, kuri su n+- sritimi sudaro vertikalią p+-n+ sandūrą, kurioje nėra specialiai sudaryto rekombinacinio sluoksnio, o atitinkamos šviesolaidžių grupės M(1; 2)(i-/v) šviesolaidžių pirmieji galai išdėstyti tiesėje išilgai atitinkamų laiptelių juostelių atitinkamų galų paviršių Sg (1; 2) (i; 2) atitinkamų pločių a<1; 2), ir statmenai atitinkamų juostelių galų paviršiams Sg (i; 2) (1; 2), bei išilgai n+- srities aukštyje ~ HJ2 nuo buferinio sluoksnio viršutinio paviršiaus.
- 5. Jonizuojančiosios spinduliuotės detektorius, pagal 1-4 punktus, b e s i s k i r i a n t i s tuo, kad pirmojo - ketvirtojo konstrukcijų variantų detektoriai sudaro matricą, kurioje Q = 1; 2; 3;... detektorių sumontuoti ant bendro padėklo viršutinės plokštumos vienoje simetrijos tiesėje išilgai mezadarinių juostelių pločių a šalia vienas kito su atitinkamomis Q porų elektrinių ir 2 Q N optiniais išvadais.
- 6. Jonizuojančiosios spinduliuotės matavimo būdas, kuriame jonizuojančios spinduliuotės srautą Φ paduoda į spinduliuotei jautrų detektorių, besiskirianti s tuo, kad jonizuojančios spinduliuotės srautą Φ paduoda į dvigubo atsako detektorių, kurių konstrukcija padaryta pagal punktus 1-5, kurių optinio ir elektrinio atsako signalus registruoja sinchroniškai, skenuojant aukštųjų energijų (jonizuojančiosios) spinduliuotės („elementariųjų“, tokių kaip γ- spektro fotonų, neutronų, protonų, pionų ir kt.) dalelių praskriejimo detektoriaus jautrioje spinduliuotei medžiagoje pėdsaką, bei prasiskverbimo (stabdymo) gylį, o apšvitos įtėkį (dozę) įvertina iš optinio bei elektrinio signalų verčių sumažėjimo dėl sukaupiamų radiacinių defektų tankio padidėjimo.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
LT2018025A LT6703B (lt) | 2018-07-11 | 2018-07-11 | Dvigubo atsako jonizuojančios spinduliuotės detektorius ir matavimo būdas |
EP18213254.8A EP3594723B1 (en) | 2018-07-11 | 2018-12-18 | Double response ionizing radiation detector and measuring method using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
LT2018025A LT6703B (lt) | 2018-07-11 | 2018-07-11 | Dvigubo atsako jonizuojančios spinduliuotės detektorius ir matavimo būdas |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
LT2018025A LT2018025A (lt) | 2020-01-27 |
LT6703B true LT6703B (lt) | 2020-02-25 |
Family
ID=64744535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
LT2018025A LT6703B (lt) | 2018-07-11 | 2018-07-11 | Dvigubo atsako jonizuojančios spinduliuotės detektorius ir matavimo būdas |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3594723B1 (lt) |
LT (1) | LT6703B (lt) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4533933A (en) | 1982-12-07 | 1985-08-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Schottky barrier infrared detector and process |
WO2008077891A1 (de) | 2006-12-21 | 2008-07-03 | Gamma-Service Produktbestrahlung Gmbh | Verpackung für ein alanindosimeter |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5639673A (en) * | 1995-06-08 | 1997-06-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Transparent ohmic contacts for Schottky diode optical detectors on thin and inverted epitaxial layers |
-
2018
- 2018-07-11 LT LT2018025A patent/LT6703B/lt unknown
- 2018-12-18 EP EP18213254.8A patent/EP3594723B1/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4533933A (en) | 1982-12-07 | 1985-08-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Schottky barrier infrared detector and process |
WO2008077891A1 (de) | 2006-12-21 | 2008-07-03 | Gamma-Service Produktbestrahlung Gmbh | Verpackung für ein alanindosimeter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3594723A1 (en) | 2020-01-15 |
LT2018025A (lt) | 2020-01-27 |
EP3594723B1 (en) | 2020-11-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Bolotnikov et al. | Performance characteristics of Frisch-ring CdZnTe detectors | |
Mendicino et al. | Characterization of 3D and planar Si diodes with different neutron converter materials | |
LT6703B (lt) | Dvigubo atsako jonizuojančios spinduliuotės detektorius ir matavimo būdas | |
Da Via et al. | 3D active edge silicon detector tests with 120 GeV muons | |
Bolotnikov et al. | Design considerations and testing of virtual Frisch-grid CdZnTe detector arrays using the H3D ASIC | |
Mayer et al. | Performance and simulation of CdZnTe strip detectors as sub-millimeter resolution imaging gamma radiation spectrometers | |
Henari et al. | The influence of inhomogeneities in materials properties in silicon radiation detectors | |
Morse et al. | The spatial and energy response of a 3d architecture silicon detector measured with a synchrotron X-ray microbeam | |
Hügging et al. | Design and test of pixel sensors for operation in severe radiation environments | |
Dueñas et al. | Characterization of an NTD double-sided silicon strip detector employing a pulsed proton microbeam | |
Bisht | Development of Low Gain Avalanche Detectors for Astroparticle Physics Experiments in Space | |
Simi | Characterization of innovative pixel detectors with 3D technology | |
Acerbi et al. | Proton and X-rays radiation effects on Silicon Photomultipliers | |
Smith | GaAs detector performance and radiation hardness | |
Farghaly | Characterization of Double Sided Silicon Strip Detectors from LYCCA modules for FAIR | |
Gimenez et al. | Evaluation of the radiation hardness and charge summing mode of a medipix3-based detector with synchrotron radiation | |
Mikhaylov et al. | Radiation hardness tests of Avalanche Photodiodes for FAIR, NICA, and CERN SPS experiments | |
Kok | Signal formation and active edge studies of 3D silicon detector technology | |
Tomita et al. | Infrared light charge injector as a tool for the study of silicon detectors | |
Singh | Development and Performance Studies of Silicon Radiation Detectors | |
Samnøy | Automated XY-table for the characterisation of arrays of pixel sensors for photons and charge particles | |
Wonsak | Characterisation of Irradiated Planar Silicon Strip Sensors for HL-LHC Applications | |
Ficorella | Application of avalanche detectors in scientific and industrial measurement systems | |
Navarrete Ramos | Characterization of Low Gain Avalanche Detectors (LGAD) for the timing detectors of the HL-LHC | |
Poley et al. | Investigations into the impact of bond pads and p-stop implants on the detection efficiency of silicon micro-strip sensors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BB1A | Patent application published |
Effective date: 20200127 |
|
FG9A | Patent granted |
Effective date: 20200225 |