KR980010469A - 광 섬유 예비 성형체 및 그 제조 방법 - Google Patents

광 섬유 예비 성형체 및 그 제조 방법 Download PDF

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티에리 로빈
쟝-프랑소와 샤리오
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미셸 푸르니에
알까뗄 피브레 옵띠꿰
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Abstract

본 발명은, 섬유의 축을 따라서는 최대 굴절 지수를 가지며 섬유의 주변부를 따라서는 굴절 지수가 낮은 광 섬유 예비 성형체, 바람직하기로는 다중 모드의 광 섬유 예비 성형체를 제조하는 방법이다. 이 방법은, 튜브 내에서 서로 반응하는 가스로부터 각각의 층이 형성되고 직경이 큰 제1 층으로부터 중앙 층까지 굴절 지수가 증가하는 연속 층들을 튜브의 내부에 부착시키는 단계와, 어느 한 층에서 다른 층까지 굴절 지수를 변화시키기 위해 상기 가스의 비율을 변화시키는 단계를 포함한다. 가스는 반경 방향 지수 프로파일이 종방향으로 균일하게 유지되도록 하는 속도로 도입된다. 이러한 속도는 모든 층을 제조하는 모든 경우에 실질적으로 동일하게 유지되는 것이 바람직하다. 이 방법에 의해 굴절 지수가 종방향으로 균일한 예비 성형체가 제조된다.

Description

광 섬유 예비 성형체 및 그 제조 방법
본 발명은 광 섬유 예비 성형체 및 이 예비 성형체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 광 섬유는 실리카로 제조되며, 그 직경은 대략 125미크론(㎛)이다.
다중 모드 광섬유의 실리카는 도핑된다. 일례로 게르마늄 도핑은 중심에서 즉, 종방향 축 상에서의 중심에서 최고가 되며 중심으로부터 주변을 향해서 감소한다. 따라서, 굴절 지수 n은 중심에서는 약 1.48로 최고이고 주변에서는 약 1.45로 최소인데, 이러한 굴절 지수는 순수 실리카의 지수이다.
광 섬유의 성능은 지수 프로파일의 질과 균일성에 따라 달라진다. 지수 프로 파일이 균일한 경우 즉, 굴절 지수가 중심으로부터 주변을 향해 연속되게 또는 실질적으로 연속되게 변화하는 경우와 그리고 지수 프로파일의 곡률이 정확하게 선택된 경우에 대역 폭은 크다. 또한, 대역 폭은 지수 프로파일의 종방향 균질성에 따라 달라진다. 이러한 조건으로부터의 약간이라도 이탈하면 즉, 지수 구배가 불연속적이거나 그리고/또는 종방향으로 균질하지 않은 경우라면, 대역 폭이 감소하게 된다. 끝으로, 지수 프로 파일이 진동하거나 혹은 파동하는 경우에는 대역 폭이 보다 더 낮은 정도로 악화될 수 있다.
만족스러운 지수 구배를 갖는 광 섬유는 다음과 같은 방식으로 제조된다. 외경이 28mm 내지 36mm이고 내경이 24mm 내지 32mm인 순수 실리카의 튜브를 출발 재료로 하여 개시 시(최대 직경)로부터 종료 시(최소 직경)까지 도핑을 증가시키면서 내벽에 연속 층을 부착시킨다. 일반적으로 수 십 개의 층이 존재한다.
이 공정에는 수정형 화학 증착법(MCVD)이 이용된다.
제1층을 부착시키기 위하여, 산소 또는 기타 다른 산화제를 혼합시킨 4염화 규소 SiCl4의 유체을 실리카 튜브의 내부로 통과시키고 실리카 튜브를 바람직하기로는 외부로부터 가열한다. 튜브의 대부분에 걸쳐 층이 형성되도록 가열은 비교적 짧은 길이에 걸쳐 실행되는데, 가열 장치는 튜브의 입구로부터 시작하여 튜브의 출구까지 이동한다. 이러한 공정이 진행되는 동안에 튜브는 일반적으로 그 축을 중심으로 하여 회전한다.
가열에 의해 4염화규소의 산화가 유발되고 이러한 산화는 실리카 SiO2와 염소를 생성시킨다. 실리카가 튜브의 내벽에 부착되어서 제1 층을 형성한다.
후속하는 층들이 위와 동일한 방식으로 형성되지만, 이러한 후속하는 층들에 대해서 도핑이 실행되도록 하기 위해 가스에는 4염화 게르마늄이 추가로 함유된다. 제2 층부터 최종 층까지의 도핑 양을 변화시켜서 소정의 도핑을 얻고 이에 따라 각 층에 대해 소정의 지수를 얻는다.
최종 층이 부착된 후에는 축 방향 개구가 남아 있게 되는데, 이 개구는 튜브를 가열함으로써 수축되어서 제거된다. 이에 따라 직경이 2cm 정도이고 길이가 1m인 중실 실린더가 제조된다. 이러한 실린더 또는 봉은 1차 예비 성형체(primary preform)라고 한다. 일반적으로 이러한 1차 예비 성형체는 이어서 실리카로 피복(또는 "표면 처리")되어서 소정의 직경, 일례로 3cm 내지 4cm의 직경을 얻게 된다.
광 섬유 프로퍼(proper)는 상기 예비 성형체를 인발함으로써 제조된다. 이에 따라 길이가 약 1m이고 외경이 3cm인 예비 성형체에 의해 직경이 125㎛인 50km의 광섬유가 제조된다.
이상에서 설명한 예비 성형체 제조 공정은 일례로 유럽 특허 출원 제301,797호에 개시되어 있다.
MCVD 공정에 의해 예비 성형체를 제조하는 중에 예비 성형체의 길이부의 대부분은 예비 성형체의 길이부의 나머지 부분에 대한 지수 프로파일과는 다른 지수 프로파일을 갖는다는 것이 밝혀졌다. 이와 같은 길이 방향에서의 비균일성은 이러한 부분의 예비 성형체로 제조한 광 섬유의 대역 폭을 낮추게 된다. 나머지 길이부와 관련한 지수 프로파일의 비균일성은 부착이 불충분한 입구 단부에서 시작하여 제1부분으로부터 이어지는 가스 입구 단부에서 저절로 나타난다. 제1 부분의 길이는 약 15cm이다. 예비 성형체의 나머지에 대한 지수 프로파일 곡률과는 다른 변화하는 지수 프로파일을 갖는 제2부분은 제1부분 위에서 약 10 내지 15cm 연장된다. 나머지 부분에 대한 제2 부분의 도핑 구배 또는 지수 구배의 비균일성은 예비 성형체의 이 부분 또는 나머지 부분으로부터 얻어지는 섬유의 대역 폭에 영향을 미치게 된다. 요약하여 설명하면, 예비 성형체의 약 15%는 사용 불가능하며 적어도 이 길이부 및 아마도 상당히 많은 비율이 예비 성형체의 나머지 부분에 대한 지수 프로파일의 비균일성에 영향을 받게 되는데, 상기한 값은 예시적인 것으로서만 제시된 것이다. 그렇지만, 상기한 바와 같은 비균일성은 층 부분이 부착됨에 따라 증가한다는 것이 밝혀졌다. 이러한 결점은 현재에는 보다 더 큰 직경의 예비 성형체를 얻는 데 목적을 두고 있으므로 특히나 불리한 것이다.
본 발명에 따른 예비 성형체는 대역 폭이 다른 제2 길이부를 갖지 않는다. 따라서 이러한 예비 성형체는 2개의 부분 즉, 부착이 불충분한 사용 불가능한 입구부와 반경 방향 굴절 지수가 끝에서 끝까지 동일하게 유지되는 튜브의 나머지 부분만을 갖는다.
본 발명은 또한 상기한 종류의 예비 성형체를 제조하는 방법에도 관한 것이다. 이 제조 방법에 있어서, 종방향으로 균일한 지수 프로파일을 얻기 위해 연속 층을 제조하는 데 사용되는 가스가 도입되는 속도는 각각의 층에 대해서 선택된다. 이 속도는 모든 층에 대해서 거의 변화되지 않거나 혹은 실질적으로 일정하게 유지되는 것이 바람직하다.
본 발명은 종래 기술의 다중 모드 광 섬유 제조 방법에 있어서는 튜브 안으로 도입되는 가스의 속도가 제1부착 층과 최종 부착 층 사이에서 상당히 변화하고 속도에 있어서의 이와 같은 상당한 변화는 튜브의 최종 부분에 대하여 동일한 프로파일의 곡률과는 다른 지수 프로파일을 갖는 튜브의 제2부분의 형성을 야기한다는 고찰에 기초한 것이다.
곡률이 다른 지수 프로파일을 갖는 부분의 형성은 다음과 같이 설명될 수 있다. 축 방향에서 특정 속도 V로 튜브 안으로 도입되는 가스는 속도 V의 방향 함수인 가로 좌표와 가스에 노출된 벽의 반경 방향으로부터 튜브의 내벽 상에 부착물을 형성시키기 시작한다. 따라서, 속도 V가 최대인 상태에서 제1 층이 형성되는 동안에 부착은 튜브의 입구로부터 가장 먼 거리에서 시작된다. 가스가 도입되는 속도 V가 가장 낮은 최종 층에서, 부착은 튜브의 입구로부터 실질적으로 보다 짧은 거리에서 시작된다.
제1a도는 광 섬유의 개략 단면도.
제1b도는 제1a도의 섬유 내에서의 굴절 지수의 반경 방향 변화를 나타내는 선도.
제2도는 제조 중의 광 섬유 예비 성형체에 대한 개략 단면도.
제3도는 종래 기술의 예비 성형체 제조 공정의 개략도.
제4도는 본 발명의 예비 성형체 및 공정을 나타내는 개략도.
제5도는 본 발명의 공정과 관련된 선도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10：광 섬유 12：클래딩
14：중심부 16：주변부
20：튜브 21：내벽
24：가스 261, 262, 26n：층
32：중앙 구멍
반면에, 도입되는 가스의 속도 V가 조절되는 본 발명에 의하면, 층 부착이 개시되는 가로 좌표가 항상 동일하게 유지될 수 있다.
그러나 이러한 설명에 의해 본 발명이 제한되어서는 안된다. 층 부착이 항상 동일하게 시작되는 가로 좌표가 필수적인 것이 아니다.
반경 방향 프로파일을 종방향으로 균일하게 유지하면서 가스의 진입 속도를 제어하기 위해서, 본 발명의 일 실시예에서는 산소(또는 기타 다른 산화제)의 유량을 한 층에서 다른 층까지 변화시킨다. 종래 기술의 방법과 달리, 반응 수율을 일정하게 할 수 있는 산소의 유량을 억제하는 것은 필수적이 아니다.
종래 기술의 방법을 비교해 보면, 산소 유량을 이와 같이 변화시키는 것은, 소정의 프로파일을 보존하기 위해서는 프로파일의 질을 보존하기 위해 실리카 및 게르마늄 (도핑 생성물) 생성 가스의 유량을 변화시켜야 하는 필요성이 따르게 된다. 그러나 실리카 및 게르마늄 생성 가스의 유량을 이와 같이 변화시키는 것은 가스의 속도에 비교적 거의 영향을 미치지 않아서 제조 제어를 비교적 용이하게 한다는 것이 경험적으로 밝혀졌다.
다시 말해, 실리카 및 게르마늄 생성 가스의 유량, 이에 따른 층의 파라미터는 가스가 도입되는 속도 V와 상관되지만, 그럼에도 불구하고 이러한 속도 V는 생성 가스의 유량 변화가 가스의 속도에 2차적 영향만을 미치므로 조절될 수 있다.
본 발명의 기타 다른 특징과 이점들은 첨부된 도면을 참고하여 설명하는 본 발명의 특정 실시예에 대한 설명으로부터 명확해질 것이다.
제1a도는 다중 모드 광 섬유 도전체에 대한 개략적인 횡단면도이다. 광 섬유(10)의 직경은 125㎛이다. 이 광 섬유는 클래딩(cladding)(12)에 의해 보호된다.
다중 모드 광 섬유(10)는 제1b도에 도시된 굴절 지수 n 프로파일을 갖는다. 이 선도에서, 원점 "0"은 횡단면의 중심부(14) 즉, 섬유(10)의 종방향 축에 해당하고, 가로 좌표 "r" 및 "-r"은 섬유의 주변부(16)에 해당한다.
섬유(10)는 실리카 SiO2로 제조된다. 실리카 SiO2는 주변부에서는 순수하다. 따라서 굴절 지수는 가로 좌표 "r" 및 "-r"에서와 그 근처에서는 1.45의 값을 갖는다. 한편, 코어가 게르마늄으로 도핑되면 굴절 지수가 수정된다. 그 지수는 중심부(14)에서 1.48의 값을 가지며 곡선(18, 제1b도 참조)으로 나타낸 바와 같이 주변부를 향해 점진적으로 감소한다.
광 섬유의 올바른 작동과 특히 최적의 대역 폭을 위해서는 곡선(18)이 일정해야 한다. 또한 곡선(18)은 파동은 최소인 것이 바람직하다.
이러한 결과는 섬유(10)의 제조를 조절함으로써 달성된다.
이러한 종류의 섬유는 자명한 바와 같이 다음과 같은 방식으로 제조된다.
공정은, 실리카로 이루어진, 일례로 내경이 30mm이고 외경이 34mm이며 총 길이가 1m 내지 1.4m인 튜브(20, 제3도 참조)로 시작된다. 화살표(24)로 나타낸 가스가 실리카 튜브(20)의 입구 단부(22)로부터 실리카 튜브(20) 안으로 도입된다. MCVD법을 이용하여 다수의 연속 층(261, 262, … 26n)을 형성시키는데, 이들 층의 도핑은 제1b도에 도시된 지수 프로파일을 얻도록 하는 방식으로 층(261)부터 층(26n)까지 변화시킨다. 층(261)은 튜브(20)의 내벽(21) 상에 부착된 제1 층이다. 층(262)은 제1층에 부착된 층이고, 이와 같이 하여 또 다음 층은 바로 이전의 층에 부착되는 층이 된다.
이 실시예에서, 상기 층들의 횡단면은 주변 층(261)부터 중심 층(26n)까지 감소한다. 게르마늄 도핑은 중심 층(26n)에 대해서는 최대이고 주변부를 향해 가면서 감소한다. 제1 층(261)은 도핑되지 않는다.
실제로, 제1층(261)을 제조하기 위해서 가스(24)는 4염화규소 SiCl4와 산소만을 포함한다. 이 제조 공정은 산소와 4염화규소가 다음의 반응에 따라 반응하여 실리카 SiO2를 유발시키는 것으로 이루어진다.
SiCl4+ O2→ SiO2+ 2Cl2
이와 동일한 방식으로 후속하는 층들이 얻어지지만 도핑을 실행하기 위해서 4염화게르마늄 GeCl4가 추가된다.
염화물의 총 유량은 일반적으로 어느 한 층에서 다음 층까지 가면서 감소되어서 횡단면이 주변 층(261)부터 중심 층(26n)까지 감소하는 층들을 얻게 된다.
각각의 층은, 입구(22)로부터 출구(28)를 향하여 화살표(F) 방향으로 이동하는 토치와 같은 가열 장치(30)를 사용함으로써 입구 개구(22)로부터 출구 단부(28)까지 종방향으로 점진적으로 형성된다. 따라서, 가열 장치(30)는 튜브를 외부로부터 국부적으로 가열하여서, 실리카 SiO2를 형성하고 제조물을 도핑하는 화학 반응을 촉발하여 얻어진 재료들을 유리화 한다.
층의 형성을 균일하게 하기 위해 튜브(20)를 축(201)을 중심으로 회전시킨다. 여러가지 층들이 형성된 후에, 제2도에 도시된 튜브형 제조물이 얻어지는데, 달리 말하자면 중앙 구멍(32)이 남아 있는 제조물이 얻어진다. 예비 성형체의 제조는 제조물 전체를 가열하여 수축시켜서 중앙 구멍(32)을 없앰으로써 종료된다.
지금까지 사용되고 있는 공정에 따르면, 얻어진 예비 성형체는 그 축을 따라 3개 부분 즉, 층이 없거나 혹은 얇은 층만이 있는 길이가 L1인 제1 부분(34), 길이 L1과 거의 동일한 길이 L2를 가지며 지수 프로파일(18)이 최적이 아니며 사양에 항상 부합되는 것은 아니며 경우에 따라 규제 한도에 근접하는 제2부분(36), 프로파일(18)의 질이 실질적으로 일정하고 이론상으로는 최적인 길이가 LP인 제3 부분(38)을 갖는다는 것이 밝혀졌다. 길이 L2는 부착된 횡단면과 층의 횡단면 구배에 따라 증가한다.
길이가 L1인 부분(34)은, 가스(24)가 튜브(20) 안으로 무시할 수 없는 속도 V로 들어가고 이들 가스가 튜브(20)를 통과할 수 있도록 유지하여야 한다는 것으로 (다소 간단하게) 설명된다. 이 결과, 중실 부착물이 가로 좌표 L1 위에서만 형성될 수 있다. 부분(34)이 수축된 후에는 예비 성형체의 원추형 또는 절두 원추형 부분을 형성한다.
지수 프로파일(18)이 부분(38)에 대한 지수 프로파일과는 다른 부분(36)은, 가스(24)의 속도 V가 제1층(261)을 제조하는 중에는 최고이고 층(26n)을 제조하는 중에는 최저라는 것에 기인한다. 따라서 부착은 제1층보다는 최종 층에 더 근접해서 시작된다. 화살표(242)는 제1층(261)의 시작을 나타내고 화살표(243)는 층(26n)의 시작을 나타낸다.
본 발명의 예비 성형체는 2개의 부분(34, 38)(제4도 참조)만을 갖고, 부분(36)은 갖지 않는다.
이러한 종류의 예비 성형체를 제조하기 위해, 본 발명의 일 실시예에서는 여러가지 층(261, 262, … 26n)을 제조하는 중에 가스(24)가 도입되는 속도를 실질적으로 일정하게 유지시킨다. 따라서 부분(38)이 가로 좌표(L1)에서 시작한다.
이 공정은 제4도에서 화살표(244)로 도시되었다.
"실질적으로 일정한 속도"라는 것은 제1층으로부터 최종 층까지 속도가 많이 변화하지 않거나 혹은 전혀 변화하지 않는 것을 의미하는 것이다. 엄격하게 일정해야 하는 것은 아니다. 일례로, 제1층에서 최종 층까지에서 속도를 약간 증가시키는 것도 유리할 수 있다. 층들이 부착됨에 따라 내경이 감소하고 이 결과 속도가 일정하게 유지되는 경우라면 층의 형성이 시작되는 가로 좌표도 약간 감소한다. 한편, 속도가 약간 증가하는 경우라면 층이 시작되는 가로 좌표는 일정하게 유지된다.
가스(24)의 속도(244)를 제1 층에서 최종 층까지 실질적으로 일정하게 유지시키기 위해서, 종래 기술과는 달리 산소 유량을 변화시킨다. 산소 유량의 이러한 변화는 희석도의 변화를 야기한다. 명백한 바와 같이, 만족스러운 지수 프로파일을 보존하기 위해서, 산소 희석도 변화는 종래 기술의 공정에서 사용된 유량에 비해서 규소와 게르마늄의 필수적인 유량의 변화가 수반된다. 이러한 유량 변화는 경험적으로 결정된다. 가스의 속도가 일정하게 유지되어야 한다는 사실에 의해 부과된 추가적인 구속에도 불구하고 소정의 지수 프로파일이 쉽게 얻어질 수 있다. 가스가 도입되는 속도 V는 SiCl4와 GeCl4의 유량과 무관하게 조절될 수 있다.
제5도의 선도에서, 원점은 축(14)에 대응하고 이에 따라 형성된 최종 층에 대응한다. 가로 좌표 r은 내벽(21)에 대응하고 이에 따라 제1층에 대응한다. 유량 Q는 세로 좌표에 표시되었다. 곡선(42)은 속도 V가 일정하게 유지된 때의 산소 유량 변화를 나타내는 것이다. 곡선(40)과 곡선(44) 각각은 동일한 조건하에서의 SiCl4와 GeCl4의 유량 변화를 각각 나타내는 것이다.
이 실시예에서, 산소 유량(42)은 층의 계층에 따라 감소한다. 그러나 이러한 감소는 염의 총 유량의 감소에 비해 낮은 비율로 이루어진다.
이상에서 설명한 실시예에서는 게르마늄으로 도핑된 실리카 섬유에 관하여 설명하였지만, 본 발명은 기타 다른 도핑제도 포함한다. 또한, 게르마늄 외에도 일례로 인과 같은 추가의 도핑제도 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서는, 가스의 속도를 제어하기 위한 기타 다른 것들 중에서도 헬륨과 같은 중성 가스를 반응 가스로 첨가한다.
실리카 SiO2의 형성을 가능하게 하는 임의의 다른 산화물을 산소 대신에 사용할 수 있다.
본 발명은 또한 지수 프로파일이 실질적으로 직사각형인 단일 모드 섬유의 제조에도 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 일반적으로 섬유의 축을 따라서는 최대 굴절 지수를 가지며 그 주변부에서는 낮은 굴절 지수를 갖는 광 섬유를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 이 방법은, 튜브 내에서 서로 반응하며 굴절 지수를 변화시키기 위해 비율이 변화되는 가스로부터 각각의 층이 형성되고 직경이 큰 제1층의 굴절 지수는 중앙 층의 굴절 지수보다 낮도록 한 연속 층들을 튜브의 내부에 부착시키는 것으로 이루어지며, 튜브 안으로 도입되는 가스의 속도 V는 반경 방향의 지수 프로파일이 종방향으로 균일해지도록 선택되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 효과는 앞의 설명으로부터 충분히 파악될 수 있지만, 이를 간단히 살펴보면, 도입되는 가스의 속도 V가 조절될 수 있어서 층 부착이 개시되는 가로 좌표가 항상 동일하게 유지될 수 있으며, 반경 방향의 지수 프로파일이 종방향으로 균일하게 유지된다는 이점이 있다.

Claims (11)

  1. 섬유의 축을 따라서는 최대 굴절 지수를 가지며 섬유의 주변부를 따라서는 굴절 지수가 낮은 다중 모드 광 섬유 예비 성형체를 제조하는 방법에 있어서, 튜브 내에서 서로 반응하는 가스로부터 각각의 층이 형성되고 직경이 큰 제1층으로부터 중앙 층까지 굴절 지수가 증가하는 연속 층들을 튜브의 내부에 부착시키는 단계와, 어느 한 층에서 다른 층까지 굴절 지수를 변화시키기 위해 상기 가스의 비율을 변화시키는 단계를 포함하고, 가스는 반경 방향 지수 프로파일이 종방향으로 균일하게 유지되도록 하는 속도 V로 도입되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 속도 V가 상기 모든 층들을 제조하는 모든 경우에 동일하게 유지되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 도입되는 가스의 상기 속도 V는 형성되는 층의 계층에 따라 증가하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 튜브는 실리카인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 가스는 규소 염, 게르마늄 염과 같은 도핑제 염, 산소인 것이 바람직한 산화물을 포함하고, 상기 산화물의 유량은 여러가지 층을 형성하는 중에 변화하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 염의 유량은 층의 계층에 따라 감소하고, 상기 산화물의 유량은 상기 염의 유량이 감소하는 것보다는 작은 정도로 층의 계층에 따라 감소하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  7. 제4항에 있어서, 상기 가스는 규소 염, 도핑제 염, 산소와 같은 산화물을 포함하고, 도입되는 가스는 상기 규소 염과 상기 도핑제 염의 유량과 무관하게 조절되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서, 중성 가스가 상기 가스에 추가되어 서로 반응하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 속도 V가 상기 모든 층의 시작이 일정하도록 선택된 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  10. 중심부로부터 주변부까지 변화하며 축을 따르는 중앙부에서는 주변부에서보다 큰 굴절 지수를 가지며, 제1부분은 입구 원추부를 구성하고 제2 부분은 그 길이에 걸쳐 실질적으로 일정한 굴절 지수를 갖는 상기 2개 부분을 길이 방향으로 구비하는, 다중 모드 광 섬유를 제조하기 위한 예비 성형체.
  11. 섬유의 축을 따라서는 최대 굴절 지수를 가지며 섬유의 주변부를 따라서는 굴절 지수가 낮은 광 섬유를 제조하는 방법에 있어서, 튜브 내에서 서로 반응하는 가스로부터 각각의 층이 형성되고 직경이 큰 제1 층의 굴절 지수가 중앙 층의 굴절 지수보다 낮도록 튜브의 내부에 연속하는 층을 부착시키는 단계와, 상기 굴절 지수를 변화시키기 위해 상기 가스의 비율을 변화시키는 단계를 포함하고, 상기 가스가 튜브 안으로 도입되는 속도는 반경 방향 지수 프로파일이 종방향으로 균일하게 유지되도록 한 것을 특징으로 하는 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100708497B1 (ko) * 1999-06-23 2007-04-16 파텐트-트로이한트-게젤샤프트 퓌어 엘렉트리쉐 글뤼람펜 엠베하 전기 램프의 기저부를 장착하는 방법

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7656578B2 (en) 1997-03-21 2010-02-02 Imra America, Inc. Microchip-Yb fiber hybrid optical amplifier for micro-machining and marking
US6275512B1 (en) 1998-11-25 2001-08-14 Imra America, Inc. Mode-locked multimode fiber laser pulse source
KR100322126B1 (ko) * 1999-01-18 2002-02-04 윤종용 광도파로 제작용 기판 및 그 제작방법
KR100353442B1 (ko) * 2000-03-22 2002-09-19 삼성전자 주식회사 산란 손실이 감소된 다중모드 광섬유 구조
US6532773B1 (en) 2000-06-30 2003-03-18 Fitel Usa Corp. Method of modifying the index profile of an optical fiber preform in the longitudinal direction
US7797966B2 (en) * 2000-12-29 2010-09-21 Single Crystal Technologies, Inc. Hot substrate deposition of fused silica
US20020083740A1 (en) * 2000-12-29 2002-07-04 Pandelisev Kiril A. Process and apparatus for production of silica grain having desired properties and their fiber optic and semiconductor application
US20020083739A1 (en) * 2000-12-29 2002-07-04 Pandelisev Kiril A. Hot substrate deposition fiber optic preforms and preform components process and apparatus
US20040187525A1 (en) * 2003-03-31 2004-09-30 Coffey Calvin T. Method and apparatus for making soot

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4217027A (en) * 1974-02-22 1980-08-12 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Optical fiber fabrication and resulting product
US4257797A (en) * 1979-01-05 1981-03-24 Western Electric Optical fiber fabrication process
GB2043619B (en) * 1979-03-07 1983-01-26 Standard Telephones Cables Ltd Optical fibre and optical fibre preform manufacture
JPS56114842A (en) * 1980-02-08 1981-09-09 Fujitsu Ltd Apparatus for preparation of optical fiber matrix
JPS5767041A (en) * 1980-10-08 1982-04-23 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Formation of refractive index distribution of base material for optical fiber
DE3430197A1 (de) * 1984-08-16 1986-02-27 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung einer glasfaser-vorform, sowie vorrichtung zur durchfuehrung desselben
US4579571A (en) * 1984-10-09 1986-04-01 Polaroid Corporation Method for fabricating optical fiber preforms
DE3886121T2 (de) * 1987-07-30 1994-04-14 American Telephone & Telegraph Verfahren zur Herstellung optischer Fasern und dadurch hergestellte Produkte.
US4932990A (en) * 1987-07-30 1990-06-12 At&T Bell Laboratories Methods of making optical fiber and products produced thereby

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100708497B1 (ko) * 1999-06-23 2007-04-16 파텐트-트로이한트-게젤샤프트 퓌어 엘렉트리쉐 글뤼람펜 엠베하 전기 램프의 기저부를 장착하는 방법

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