KR970071916A - Precision test tool and precision test method using the same - Google Patents

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KR970071916A
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South Korea
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inspection
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standard
drawn
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KR1019970008512A
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Korean (ko)
Inventor
마사루 가와사키
에이지 호리에
Original Assignee
이시다 아키라
다이닛뽕 스크린 세이조오 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 포토마스크 제조용 진공밀착 노광장치의 노광 정밀도 및 포토마스크용 얼라인먼트 검사장치의 검사대의 얼라인먼트 정밀도를 정확히 파악할 수 있고 검사작업도 용이하며, 각 장치간이나 각 공정간에서의 정밀도의 상대적 관계를 용이하게 파악할 수 있도록 하는 정밀도 검사용구를 제공하는 것을 과제로 한다. 상기 과제를 해결하기 위해 본 발명은, 각각 유리건판의 전면에 분산하여 서로에 대응한 복수 위치에 검사차트가 그려진 한 쌍의 검사표준판에 의해 정밀도 검사용구를 구성한다. 한쪽의 검사표준판의 검사차트(16,18,20)와 다른 쪽 검사표준판의 검사차트(22,24,26)는 서로 상이한 형상으로, 양 검사차트가 조합되어 위치 어긋남을 검출할 수 있다.The present invention can accurately grasp the exposure precision of the vacuum close-up exposure apparatus for photomask manufacturing and the inspection precision of the inspection table of the alignment inspection apparatus for photomasks, and also facilitates inspection work, and shows the relative relationship between the precision between each apparatus and each process. An object of the present invention is to provide a precision inspection tool that can be easily understood. In order to solve the above problems, the present invention constitutes a precision inspection tool by a pair of inspection standard plates, each of which is distributed on the front surface of the glass plate and drawn inspection charts at a plurality of positions corresponding to each other. The inspection charts 16, 18 and 20 of the one inspection standard plate and the inspection charts 22, 24 and 26 of the other inspection standard plate have different shapes, and both inspection charts can be combined to detect the position shift.

Description

정밀도 검사용구 및 이를 이용한 정밀도 검사방법Precision test tool and precision test method using the same

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음As this is a public information case, the full text was not included.

제1도는 본 발명에 관련된 정밀도 검사용구를 구성하는 검사표준판에 그려진 검사차트의 일례를 나타내는 부분 확대도, 제2도는 본 발명에 관련된 정밀도 검사용구를 구성하는 검사표준판의 평면도, 제4도는 포토마스크 제조용 진공밀착 노광장치의 노광 정밀도를 검사하는 방법의 일례에 대한 설명도, 제5도는 포토마스크 제조용 진공밀착 노광장치의 노광 정밀도를 검사하는 방법의 다른 예에 대한 설명도, 제6도는 포토마스크용 얼라인먼트 검사장치의 검사대의 얼라인먼트 정밀도를 검사하는 방법의 일례에 대한 설명도.1 is a partially enlarged view showing an example of an inspection chart drawn on an inspection standard plate constituting the precision inspection tool according to the present invention, FIG. 2 is a plan view of an inspection standard plate constituting the precision inspection tool according to the present invention, and FIG. 4 is a photomask. Explanatory drawing of an example of the method of checking the exposure precision of the manufacturing vacuum contact exposure apparatus, FIG. 5 is explanatory drawing of the other example of the method of checking the exposure precision of the vacuum contact exposure apparatus for photomask manufacture, FIG. 6 is a photomask Explanatory drawing of an example of the method of checking the alignment precision of the inspection stand of an alignment inspection apparatus.

Claims (7)

포토마스크 제조장치 또는 얼라인먼트 검사장치의 정밀도의 검사에 사용되는 검사용구에 있어서, 유리건판의 전면에 분산하여 복수 위치에 각각 제1검사차트가 그려진 제1검사표준판과, 유리건판의, 상기 제1검사표준판의 상기 제1검사차트에 대응한 복수 위치에 각각, 제1검사차트와 상이한 형상으로 제1검사차트와 조합되어 위치 어긋남을 검출할 수 있는 제2검사차트가 그려진 제2검사표준판으로 이루어진 것을 특징으로 하는 정밀도 검사용구.In the inspection tool used for the inspection of the precision of the photomask manufacturing apparatus or the alignment inspection apparatus, the first inspection standard plate and the first inspection standard plate of the glass dry plate distributed on the front surface of the glass dry plate and the first inspection chart is drawn in a plurality of positions. The second inspection standard plate is formed in a plurality of positions corresponding to the first inspection chart of the inspection standard plate, respectively, in which a second inspection chart is drawn in combination with the first inspection chart to detect positional deviation in a shape different from that of the first inspection chart. Precision inspection tool, characterized in that. 제1항에 있어서, 제1검사표준판에 그려진 제1검사차트가 기준자 눈금을 가지고, 제2검사표준판에 그려진 제2검사차트가 버니어 눈금을 가진 것을 특징으로 하는 정밀도 검사용구.The precision inspection tool according to claim 1, wherein the first inspection chart drawn on the first inspection standard plate has a standard scale, and the second inspection chart drawn on the second inspection standard plate has a vernier scale. 유리건판의 전면에 분산하여 복수 위치에 각각 제1검사차트가 그려진 제1검사표준판과, 유리건판의, 상기 제1검사표준판의 상기 제1검사차트에 대응한 복수 위치에 각각, 제1검사차트와 상이한 형상으로 제1검사차트와 조합되어 위치 어긋남을 검출할 수 있는 제2검사차트가 그려진 제2검사표준판 중, 어느 한 쪽의 검사표준판을 노광용 원판으로 하고, 진공밀착 노광장치를 사용하여 감광판을 노광시키고, 그 감광판을 현상하여 프린트판을 얻으며, 그 프린트판과 다른 쪽 검사표준판을 완전히 겹치게 한 상태로, 프린트판에 노광현상된 복수위치의 검사차트와 다른 쪽 검사표준판의 복수 위치의 검사차트와의 어긋남량을 각각 측정하고, 그 측정결과로부터 상기 진공밀착 노광장치의 노광 정밀도를 확인하고 판정하는, 포토마스크 제조장치의 정밀도 검사방법.A first inspection chart distributed on a front surface of the glass dry plate and having a first inspection chart drawn at a plurality of positions, respectively, and a first inspection chart at a plurality of positions corresponding to the first inspection chart of the first inspection standard plate of the glass dry plate; Of the second inspection standard plates on which the second inspection chart is drawn in combination with the first inspection chart to detect the position shift in a shape different from that of the first inspection chart, either of the inspection standard plates is used as an exposure disc, and a vacuum-sensitive exposure apparatus is used for the photosensitive plate. , The photosensitive plate is developed to obtain a printed plate, and the inspection plate of the multiple positions exposed to the printed plate and the multiple inspection standard plates of the other inspection standard plate are completely exposed while the printed plate and the other inspection standard plate are completely overlapped. The precision of the photomask manufacturing apparatus which measures the amount of shift | offset | difference with a chart, respectively, and confirms and determines the exposure precision of the said vacuum close-up exposure apparatus from the measurement result. How to buy. 유리건판의 전면에 분산하여 복수 위치에 각각 제1검사차트가 그려진 제1검사표준판과, 유리건판의, 상기 제1검사표준판의 상기 제1검사차트에 대응한 복수 위치에 각각, 제1검사차트와 상이한 형상으로 제1검사차트와 조합되어 위치 어긋남을 검출할 수 있는 제2검사차트가 그려진 제2검사표준판을 각각 노광용 원판으로 하고, 그 어느 한 쪽의 노광용 원판에 의해 제1진공밀착 노광장치를 사용하여 감광판을 노광시키고, 그 감광판을 현상하여 제1프린트판을 얻음과 동시에, 다른 쪽 노광용 원판에 의해 제2진공밀착 노광장치를 사용하여 감광판을 노광시키고, 그 감광판을 현상하여 제2프린트판을 얻으며, 이들 양 프린트판을 완전히 겹치게 한 상태로, 제1프린트판에 노광현상된 복수 위치의 검사차트와 제2프니트판에 노광현상된 복수 위치의 검사차트와의 어긋남량을 각각 측정하고, 그 측정결과로부터 상기 제1진공밀착 노광장치와 제2진공밀착 노광장치와의 상대적 노광 정밀도를 확인하고 판정하는, 포토마스크 제조장치의 정밀도 검사방법.A first inspection chart distributed on a front surface of the glass dry plate and having a first inspection chart drawn at a plurality of positions, respectively, and a first inspection chart at a plurality of positions corresponding to the first inspection chart of the first inspection standard plate of the glass dry plate; The second inspection standard plate, in which the second inspection chart is drawn in combination with the first inspection chart to detect the positional shift in a shape different from that of the first inspection chart, is used as the exposure disc. To expose the photosensitive plate, develop the photosensitive plate to obtain the first printed plate, and simultaneously expose the photosensitive plate using the second vacuum-adhesive exposure apparatus by the other exposure original plate, and develop the photosensitive plate to develop the second print. In order to obtain a plate and completely overlap these two printed plates, the inspection charts of multiple positions exposed to the first printed plate and the inspection positions of multiple positions exposed to the second printed plate The first accuracy inspection method of a vacuum contact exposure unit and the second check the accuracy of the relative exposure and the vacuum contact exposure device that determines, photomask manufacturing apparatus with a shift amount from the respective measurement, and the measurement result. 제3항 또는 제4항에 있어서, 제1검사표준판에 그려진 제1검사차트가 기준자 눈금을 가지고, 제2검사표준판에 그려진 제2검사차트가 버니어 눈금을 가진 것을 특징으로 하는 포토마스크 제조장치의 정밀도 검사방법.The photomask manufacturing apparatus according to claim 3 or 4, wherein the first inspection chart drawn on the first inspection standard plate has a standard ruler scale, and the second inspection chart drawn on the second inspection standard plate has a vernier scale. Precision test method. 유리건판의 전면에 분산하여 복수 위치에 각각 제1검사차트가 그려진 제1검사표준판과, 유리건판의, 상기 제1검사표준판의 상기 제1검사차트에 대응한 복수 위치에 각각, 제1검사차트와 상이한 형상으로 제1검사차트와 조합되어 위치 어긋남을 검출할 수 있는 제2검사차트가 그려진 제2검사표준판을 포토마스크의 얼라인먼트 검사장치의 검사대 상에 세트하고, 제1검사표준판의 복수 위치의 제1검사차트와 제2검사표준판의 복수 위치의 제2검사차트와의 어긋남량을 각각 측정하고, 그 측정결과로부터 상기 검사대의 얼라인먼트 정밀도를 확인하고 판정하는, 포토마스크의 얼라인먼트 검사장치의 정밀도 검사방법.A first inspection chart distributed on a front surface of the glass dry plate and having a first inspection chart drawn at a plurality of positions, respectively, and a first inspection chart at a plurality of positions corresponding to the first inspection chart of the first inspection standard plate of the glass dry plate; The second inspection standard plate on which the second inspection chart is drawn in combination with the first inspection chart in which the second inspection chart can be detected in a shape different from the above is set on the inspection table of the alignment inspection apparatus of the photomask, and the plurality of positions of the first inspection standard plate Inspection of the precision of the alignment inspection apparatus of the photomask which measures the amount of deviation between the first inspection chart and the second inspection chart of the plurality of positions of the second inspection standard plate, and confirms and determines the alignment accuracy of the inspection table from the measurement results. Way. 제6항에 있어서, 제1검사표준판에 그려진 제1검사차트가 기준자 눈금을 가지고, 제2검사표준판에 그려진 제2검사차트가 버니어 눈금을 가진 것을 특징으로 하는 포토마스크 얼라인먼트 검사장치의 정밀도 검사방법.7. The precision inspection of the photomask alignment inspection apparatus according to claim 6, wherein the first inspection chart drawn on the first inspection standard plate has a standard ruler scale, and the second inspection chart drawn on the second inspection standard plate has a vernier scale. Way. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
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