Claims (14)
하기 구조식 (11) 화합물을 산촉매 존재하에 수첨반응시켜 하기 구조식 (12) 화합물을 제조한 다음, 알콜 존재 또는 부재하에 가수분해하여 하기 구조식 (13) 화합물을 제조하고 이를 탈보호기화시킴을 특징으로 하여 하기 구조식 (1)의 화합물을 제조하는 방법.The compound of formula (12) is prepared by subjecting a compound of the following formula (11) to hydrogenation in the presence of an acid catalyst, followed by hydrolysis in the presence or absence of an alcohol to prepare a compound of the formula (13) A process for preparing a compound of formula (1)
상기 식에서, R1은 수소, 벤조일 또는 t-부톡시카르보닐을 나타내고, R2는 수소, C1-C4알킬, C1-C4알케닐, C1-C4알키닐 또는 벤질을 나타내며, R3는 수소 또는 트리메틸실릴을 나타낸다.Wherein R 1 represents hydrogen, benzoyl or t-butoxycarbonyl, R 2 represents hydrogen, C 1 -C 4 alkyl, C 1 -C 4 alkenyl, C 1 -C 4 alkynyl or benzyl, , And R 3 represents hydrogen or trimethylsilyl.
제1항에 있어서, 구조식 (12) 화합물 제조시 사용되는 산촉매가 염산, 진한황산, 및 질산 중에서 선택된 1종 이상인 방법.The method according to claim 1, wherein the acid catalyst used in preparing the compound of formula (12) is at least one selected from hydrochloric acid, concentrated sulfuric acid, and nitric acid.
제1항에 있어서, 구조식 (13) 화합물 제조시의 가수분해 공정이 진한염산 및 아세트산의 혼합용액 중에서 수행되는 방법.The method according to claim 1, wherein the hydrolysis step in the preparation of the compound of formula (13) is carried out in a mixed solution of concentrated hydrochloric acid and acetic acid.
제3항에 있어서, 진한 염산 및 아세트산의 혼합비율이 부피로 2:1~1:2인 방법.The method according to claim 3, wherein the mixing ratio of concentrated hydrochloric acid and acetic acid is 2: 1 to 1: 2 by volume.
제1항 또는 3항에 있어서, 알콜이 C1-C4알칸올, C1-C4알케닐알콜, C1-C4알키닐알콜 및 벤질알콜 중에서 선택된 1종인 방법.The process according to claim 1 or 3, wherein the alcohol is one selected from the group consisting of C 1 -C 4 alkanols, C 1 -C 4 alkenyl alcohols, C 1 -C 4 alkynyl alcohols and benzyl alcohols.
제1항에 있어서, 탈보호기화 공정이 Pd/C및 암모늄포르메이트 존재하에 수행되거나 Pd/C 및 수소가스(g)존재하에 수행되는 방법.The process according to claim 1, wherein the deprotection is carried out in the presence of Pd / C and ammonium formate or in the presence of Pd / C and hydrogen gas (g).
제1항에 있어서, 탈보호기화 공정을 수행한 후 R1이 수소인 구조식 (1)의 화합물을 벤조일클로라이드 또는 디-t-부틸-디카보네이트와 반응시켜 R1이 벤조일 또는 t-부톡시카르보닐인 구조식 (1)의 화합물을 제조하는 방법.According to claim 1, wherein after performing a deprotection gasification process R 1 is a compound of the formula (1) a hydrogen chloride or di -t- butyl-R 1 is benzoyl or reacted with di-t- butoxycarbonylamino carbonate 0.0 > (1) < / RTI >
제1항에 있어서, 구조식 (11) 화합물이 하기 구조식 (10) 화합물을 시안첨가반응시켜 제조된 것인 방법.The method according to claim 1, wherein the compound of formula (11) is prepared by subjecting a compound of formula (10)
제8항에 있어서, 시안첨가반응을 루이스산 및 시안화물 존재하에 수행하는 방법.9. The process according to claim 8, wherein the cyanation reaction is carried out in the presence of a Lewis acid and a cyanide.
제9항에 있어서, 루이스산이 무수 브롬화마그네슘, 사염화티타늄 및 사염화주석 중에서 선택된 1종인 방법.The process according to claim 9, wherein the Lewis acid is one selected from the group consisting of magnesium bromide anhydride, titanium tetrachloride and tin tetrachloride.
제9항에 있어서, 시안화물이 트리메틸실릴시안, 소듐시아나이드 및 포타슘시아나이드 중에서 선택된 1종인 방법.10. The process of claim 9, wherein the cyanide is one selected from the group consisting of trimethylsilyl cyanide, sodium cyanide, and potassium cyanide.
제8항에 있어서, 구조식 (10) 화합물이 하기 구조식 (4)의 화합물에 벤질할라이드를 반응시켜 구조식 (8) 화합물을 제조하고 이를 환원시켜 구조식 (9) 화합물을 제조한 다음, 스완산화반응을 수행하여 제조된 것인 방법.The method of claim 8, wherein the compound of formula (10) is reacted with a benzyl halide to a compound of formula (4) to produce a compound of formula (8) ≪ / RTI >
제12항에 있어서, 구조식 (8) 화합물을 유기용매 중에서 리튬알루미늄하이드리드로 환원시켜 구조식 (9)의 화합물을 제조하는 방법.13. The method of claim 12, wherein the compound of formula (8) is reduced with lithium aluminum hydride in an organic solvent to produce the compound of formula (9).
제13항에 있어서, 유기용매가 테트라하이드로푸란, 톨루엔, 디에틸에테르, 메틸렌클로라이드, 벤젠 및 크실렌 중에서 선택된 1종 이상인 방법.14. The process according to claim 13, wherein the organic solvent is at least one selected from the group consisting of tetrahydrofuran, toluene, diethyl ether, methylene chloride, benzene and xylene.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: It is disclosed by the contents of the first application.