KR970022397A - 반사공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지 - Google Patents
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Abstract
반사 LCSLM 화소의 어레이가 어레이와 광원 사이에 위치된 편광층과 함께 기판상에 형성된다. 광 웨이브 가이드를 한정하는 오버몰드 하우징은 광입력, 광출력, 및 입력으로부터 출력을 향하는 거울면을 가지며, 편광층은 광 웨이브 가이드를 통과하는 광이 이것을 통과하도록 장착된다. 광이 편광층을 지나도록 광원은 배치되고 어레이를 균일하게 조사(調査)한다. 어레이로부터 반사된 광은 광웨이브 가이드의 거울면을 향한다. 출력에서의 확산기는 반사광용 상평면(image plane)을 형성한다. 전기 접속은 어레이로부터 어레이가 장착되는 회로판까지 이루어진다. 모든 구성 요소는 외부 콘택트를 제공하기 위해 하우징에 형성된 리드를 가진 오버몰드 하우징에 의해 밀폐된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 반사 액정 공간 광변조 스택의 단순화된 확대단면도.
Claims (4)
- 반사공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지에 있어서 :기판에 형성되고, 기판의 외측 에지에 인접하는 제어 단자와, 제어 회로에 중첩 관계로 기판상에 위치된 거울과, 공간 광변조 재료를 통과하는 광이 공간 광변조 재료를 지나 반사되도록 거울에 중첩 관계로 위치된 공간 광변조 재료를 구비하는 제어 회로를 구비하는 각 화소를 가진 기판상에 형성된 반사공간 광변조 화소 어레이와; 광 웨이브 가이드를 한정하고, 광출력면과, 기판상에 형성된 공간 광변조 화소 어레이를 밀폐하는 오버몰드 하우징내에 장착되는 반사공간 광변조 화소 어레이로부터의 광을 광출력면으로 향하게 하는 복수의 거울면을 가지는 오버몰드 하우징과; 광이 광원과 반사 공간 광변조 화소 어레이 사이에 위치된 편광층을 지나서, 반사공간 광변조 화소 어레이로 향하도록 위치되고, 반사공간 광변조 화소 어레이로부터의 반사광이 거울면으로 광 웨이브 가이드를 지나도록 하는 위치에 있는 반사공간 광변조 화소를 균일하게 조사하도록 반사공간 광변조 화소 어레이로부터 이격된 광원과; 반사공간 광변조 화소 어레이로부터의 반사광을 위한 상면을 형성하기 위해 광 웨이브 가이드의 광출력 면의 내면 또는 외면 중 하나에 장착된 확산기와; 상기 기판상에 형성된 상기 반사공간 광변조 화소 어레이와 전기 접촉하여, 오버몰드 하우징에 의해 한정된 광 웨이브 가이드의 하부내에 위치되어 기판을 지지하는 인쇄 회로판을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지.
- 반사액정공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지에 있어서 : 기판의 외측 에지에 인접하는 제어 단자와 기판상에 위치되고 각각 화소와 화소에 대한 제1전기 접촉을 한정하는 전기 접촉 거울을 구비하는 내부에 형성된 복수의 제어 회로를 갖춘 기판, 액정공간 광변조 재료를 통과한 광이 액정공간 광변조 재료를 지나 반사되도록 전기 접촉 미러에 중첩 관계로 위치된 액정 공간 광변조 재료층, 각 화소에 대해 제2전기 접촉을 형성하기 위해 액정공간 광변조 재료의 대향면상에 위치된 재료의 전기적으로 도전성이고 광학적으로 투명한 층을 구비하는 반사 액정공간 광변조 스택과; 반사액정공간 광변조 스택에 대해 중첩 관계로 위치된 광편광층과; 광출력면을 가진 광 웨이브가이드를 한정하는 광학적으로 투명한 플라스틱, 오버몰드 하우징내에 장착된 반사액정공간 광변조 스택으로부터 광출력면을 향하도록 하는 복수의 거울면으로 구성된 오버몰드 하우징과; 광이 반사공간변조 스택을 향하도록 위치되고, 반사액정공간 광변조 스택으로부터 이격되고, 반사액정공간 광변조 스택으로부터의 반사광이 광 웨이브가이드를 지나 거울면을 향하도록 위치되는 반사액정공간 광변조 스택 어레이를 광원으로부터의 광이 균일하게 조사하는 광원과: 반사액정공간 광변조 스택으로부터의 반사광에 대해 상면을 형성하기 위해 광 웨이브가이드의 광출력면에 중첩 관계로 장착된 확산기를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 액정공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지.
- 반사액정공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지에 있어서 : 기판의 외측 에지에 인접하는 제어 단자와 화소와 이 화소에 대해 제1전기 접촉을 한정하는 기판상에 위치된 전기 접촉 거울을 구비하고, 그 내부에 형성된 복수의 제어 회로를 갖춘 기판과, 액정공간 광변조 재료를 통과하는 광이 액정공간 광변조 재료를 지나 반사되도록 전기 접촉 거울에 대해 중첩 관계로 위치된 액정공간 광변조 재료층과, 각 화소에 대해 제2전기 접촉을 형성하도록 액정공간 광변조 재료의 대향면상에 위치된 전기적으로 도전성이고 광학적으로 투명한 층과, 내부에 대향하는 평탄면을 가진 폐쇄 공동내에 포함되고, 기판의 표면, 기판의 표면에 고정된 스페이서와 내면과 이 내면의 나머지에 고정된 전기적으로 도전성이고 광학적으로 투명한 층의 하나에 고정된 전기 접촉 거울과 함께 스페이서 위에 고정된 유리판에 의해 한정되는 액정공간 광변조 재료층을 구비하는 반사액정공간 광변조 스택과; 광편광층과; 광학적으로 투명한 플라스틱으로 구성되고, 광출력면과 오버몰드 하우징내에 위치된 반사액정공간 광변조 스택으로부터의 광을 광출력면을 향하게 하기 위한 복수의 거울면을 가진 평행사변형 단면의 광웨이브가이드를 한정하는 오버몰드 하우징과; 반사액정공간 광변조 스택으로부터의 반사된 광이 편광층, 광웨이브가이드를 지나 거울면을 향하도록 위치된 반사액정공간 광변조 스택의 어레이를 광원으로부터의 광이 균일하게 조사하도록 하기 위해, 광이 편광층을 지나 반사액정공간 광변조 스택을 향하도록 위치되고 반사액정공간 광변조 스택으로부터 이격된 광원과; 반사액정공간 광변조 스택으로부터의 반사광에 대해 상평면을 형성하기 위해 광웨이브가이드의 광출력면에 대해 중첩 관계로 장착된 화산기와, 상기 오버몰드 하우징에 의해 한정된 상기 광웨이브가이드의 하면에 위치되고, 각 제어 회로의 기판의 외측 에지에 인접하는 제어 단자와 전기적으로 접촉하도록 회로판에 형성된 콘택트를 구비하고, 제어 회로에 대해 외부 콘택트를 형성하기 위해 오버몰드 하우징의 외부로 연장하는 복수의 리드를 가지는 인쇄 회로판을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사액정공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지.
- 반사공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지의 제조방법에 있어서 ;공간 광변조기 어레이의 각 공간 광변조기를 위한 기판에 형성된 구동전자 소자를 갖춘 반도체 기판상의 2차원 어레이로 형성된 복수의 반사공간 광변조기와 기판의 외측 에지에 인접하여 위치된 구동 전자 소자용 제어 단자와, 각 공간 광변조기에 대해 광입력과 광출력을 반사공간 광변조기의 2차원 어레이로 한정하는 광학적으로 투명한 면을 부가적으로 구비하는 스택을 제공하는 공정과; 광입력면과, 광을 오버몰드 하우징내에 장착된 스택으로부터 광출력면으로 향하게 하기 위한 복수의 거울면을 가진 광웨이브가이드를 한정하는 오버몰드 하우징을 형성하는 공정과, 인쇄 회로판을 상기 광웨이브가이드의 하면에 위치시키고, 구동 전자소자용 제어 단자와 전기적으로 연통하는 내부 전기 콘택트와 오버몰드 하우징의 외면으로 연장하는 복수의 리드를 제공하도록 각각 내부에 위치된 복수의 콘택트를 가지는 공정과; 인쇄 회로판에 중첩 관계로 스택을 위치시킴으로써 인쇄 회로판을 지지하는 공정과; 광이 광원과 스택 사이에 위치된 편광층을 지나도록 광원을 설치하는 공정과; 스택으로부터의 반사광이 광웨이브가이드를 통해 거울면을 향하도록 위치된 스택을 광원으로부터의 광이 균일하게 조사하도록 스택으로부터 이격된 광원을 위치시키는 공정과; 상을 형성하기 위해 스택으로부터 반사된 광을 확산하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사공간 광변조기용 집적 전기-광학 패키지의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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