KR970003484B1

KR970003484B1 - Scissors sharpener

Info

Publication number: KR970003484B1
Application number: KR1019880003828A
Authority: KR
Inventors: 페트로프 시브탄
Original assignee: 맥퍼슨스 리미티드; 브레인 에프. 몬거
Priority date: 1987-04-06
Filing date: 1988-04-06
Publication date: 1997-03-18
Also published as: IN170985B; DK178688A; FI90509C; DK178688D0; FI881564A0; KR880012308A; FI90509B; FI881564A; JPS63318249A; ZA882241B; US4825544A; BR8801586A; GR880100224A; CA1277838C; NZ224037A; PH24856A

Abstract

없음none

Description

Scissors Polishing Device and Polishing Method

제1도는 본 발명에 따라 연마기를 사용할 수 있는 종류의 가위를 나타낸 도면이고,1 is a view showing a kind of scissors that can be used in the polishing machine according to the present invention,

제2도는 제1도의 선 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절취된 확대 단면도이고,2 is an enlarged cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1,

제3도는 개방상태로 있는 제1도의 가위날을 나타낸 도면이고,FIG. 3 is a view of the shear blade of FIG. 1 in an open state,

제4도는 제3도의 선 Ⅳ-Ⅳ를 따라 절취된 확대 단면도이고,4 is an enlarged cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG. 3,

제5도는 본 발명의 한 실시예에 따른 연마기를 나타낸 도면이고,5 is a view showing a polishing machine according to an embodiment of the present invention,

제6도는 설명의 편의상 제5도 연마기의 일부만을 나타낸 도면이고,FIG. 6 is a view showing only a part of the polishing machine of FIG. 5 for convenience of description.

제7도는 제6도의 선 Ⅶ-Ⅶ을 따라 절취된 확대 단면도이고,FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 6,

제8도는 제7도의 선 Ⅷ-Ⅷ을 따라 절취된 단면도이고,8 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 7,

제9도는 제5도 연마기의 일부만을 나타낸 분해 사시도이고,9 is an exploded perspective view showing only a part of the polishing machine of FIG.

제10도는 제8도의 선 Ⅹ-Ⅹ를 따라 절취된 확대 단면도이고,10 is an enlarged cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 8,

제11도는 제8도와 유사하나 상호간에 측면 이동하는 연마 요소를 나타낸 도면이고,FIG. 11 is a view similar to that of FIG. 8 but showing the laterally shifting polishing elements, FIG.

제12도는 제11도의 선 XII-XII를 따라 절취된 확대 단면도이고,12 is an enlarged sectional view taken along the line XII-XII of FIG. 11,

제13도는 제5도와 유사하나 연마기내에 취히한 가위를 나타낸 도면이고,FIG. 13 is a view similar to FIG. 5 but showing scissors cut in a grinder,

제14도는 연마조작의 착수를 위해 위치한 가위를 구비한 연마기의 반개략도이고,14 is a half schematic view of a grinder with scissors positioned for undertaking the grinding operation,

제15도는 제14도와 유사하나 연마조작이 완결된 상태의 가위를 나타낸 도면이고,FIG. 15 is a view similar to FIG. 14 but shows scissors in a state in which polishing is completed.

제16도 및 제17도는 연마요소와 가위날의 절단모서리간의 접촉부분 이동을 나타낸 도면이고,16 and 17 are views showing the movement of the contact portion between the abrasive element and the cutting edge of the scissors blade,

제18도는 제14도의 선 XⅧ-XⅧ을 따라 절취된 확대 단면도이고,18 is an enlarged cross-sectional view taken along the line X'-X 'of FIG. 14,

제19도는 제14도의 선 XⅨ-XⅨ을 따라 절취된 확대 단면도이고,19 is an enlarged sectional view taken along the line X'-X 'of FIG. 14,

제20도는 닫힌 가위를 포함하는 상태의 연마기를 나타낸 도면이다.20 is a view showing a grinder in a state including a closed scissors.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 가위2,3 : 날1, scissors 2: 3

11 : 연마기6,7 : 모서리11: grinder 6,7: corner

12 : 연마요소13 : 연마리세스12: polishing element 13: polishing recess

15,17 : 플레이트18 : 커버부재15,17: plate 18: cover member

23 : 기둥24,25 : 멈추개23: pillar 24, 25: stop

30,41 : 돌기32 : 지지단30,41: protrusion 32: support end

33 : 핸들34,35 : 플랜지33: handle 34, 35: flange

37 : 벽39 : 리셉터클부37 wall 39 receptacle

40 : 폐쇄부40: closed part

본 발명은 가위를 연마하는 장치와 방법에 관한 것으로, 특히 단일 조작으로 가위의 양날을 연마할 수 있는 장치와 방법에 관한 것이다. 용어 "가위"는 선회하는 날 절단기구에 대한 일반적인 용어로서 사용되었고, 따라서 본 발명은 예를들면 절단기를 연마하는 장치에 까지도 확대되는 것으로 이해되어야 한다.The present invention relates to an apparatus and method for grinding scissors, and more particularly, to an apparatus and method capable of grinding both edges of the scissors in a single operation. The term "scissors" has been used as a general term for a turning blade cutter tool, and therefore the present invention should be understood to extend to, for example, a device for grinding a cutter.

종래 가위 연마장치는 일반적으로 연마작업이 가위날의 길이방향에서 일어나도록 배열되었고, 상기 장치의 하나는 미합중국 특허 제4,348,809호의 주제를 이룬다.Conventional scissors polishing devices are generally arranged such that the polishing takes place in the longitudinal direction of the scissors blade, one of which is the subject of US Pat. No. 4,348,809.

연마작업은 연마요소가 이동하는 날의 길이방향 모서리 표면에 작은 홈 또는 찰흔을 생성하고, 이들 찰흔은 각 날의 길이 방향으로 연장된다. 반대로 상기 길이방향의 찰흔은 가위날과 이들 날 사이에 맞물린 물건 또는 물체간의 상대적 침식을 촉진하기 때문에 어떤 상황에서는 가위의 조작에 영향을 미칠 수 있다.The grinding operation creates small grooves or scratches on the surface of the longitudinal edges of the blades on which the polishing elements move, and these scratches extend in the longitudinal direction of each blade. Conversely, the longitudinal scratches can affect the manipulation of the scissors in some situations because they promote relative erosion between the blade and the object or object engaged between them.

물건 또는 물체가 가위를 사용하여 절단될 때마다 이 절단 작업에 의해 발생된 힘의 성분은 물건 또는 물체를 날의 선단으로 미는 경향이 있다. 상기에 언급한 길이방향 찰흔은 상기 상대적 이동 또는 침식을 조장하고 이에 따라 어떤 물체 특히 비교적 두꺼운 물체를 절단하는 것을 어렵게 한다.Each time an object or object is cut using scissors, the component of the force generated by this cutting operation tends to push the object or object to the tip of the blade. The aforementioned longitudinal marks promote the relative movement or erosion and thus make it difficult to cut certain objects, especially relatively thick objects.

예를들면, 메니큐어 가위는 날의 길이방향 작업모서리가 길이방향으로 연장된 찰흔을 갖는다면 사용할 수 없다.For example, manicure scissors cannot be used if the longitudinal working edge of the blade has a longitudinally extending scratch.

본 발명의 목적은 양날을 동시에 연마하기 위해 조작되고 연마조작하는 동안에 길이방향의 찰흔은 생성하지 않는 가위연마장치와 연마방법을 제공하는 데 있다. 본 발명의 또다른 목적은 가위집 또는 가위 보관 용기의 부분을 형성하는 상기 연마장치와 방법을 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a scissor polishing apparatus and a polishing method which are operated to simultaneously polish both blades and do not generate longitudinal scratches during the polishing operation. It is a further object of the present invention to provide such a polishing apparatus and method for forming part of a scissors or scissors storage container.

본 발명에 따른 연마장치는 미합중국 특허 제4,279,076호에 기술된 일반적인 종류의 가위에 대한 용도로서 설계되었다.The polishing apparatus according to the present invention is designed for use with scissors of the general kind described in US Pat. No. 4,279,076.

상기 가위는 닫힌 상태에서 각 날의 절단 모서리가 다른 날의 뒤모서리와 실질적으로 일치하거나, 또는 뒤 모서리를 지나서 위치하도록 배열된 두개의 날을 갖는다. 즉, 각각의 절단 모서리는 닫힌 날조립체의 각 길이방향 경계를 이루고, 이러한 양상은 두개의 날의 편리한 동시적 연마를 가능하게 한다.The scissors has two blades arranged in a closed state such that the cutting edge of each blade substantially coincides with the back edge of the other blade or is positioned beyond the rear edge. That is, each cutting edge constitutes each longitudinal boundary of the closed blade assembly, which aspect allows for convenient simultaneous polishing of the two blades.

본 발명의 연마장치의 특징은 연마리세스가 두개의 연마요소 사이를 한정하고, 이들 요소의 각각은 리세스를 통해 측면으로 이동된 하나의 가위날의 두 절단 모서리의 각각에 작용하기에 적합하도록 된 것이다. 즉 가위날은 날 절단 모서리의 길이 방향에 대해 교차 방향으로 움직인다. 가위의 날은 조작의 목적에 있어서 닫힌 상태로 있고, 바람직하게 리세스는 실질적으로 두개의 날에 의해 형성된 조립체의 주변형태를 보조하는 형태를 갖는다. 적어도 리세스의 각 측면은 실질적으로 날 절단 모서리의 각각을 보조하고, 실질적으로 동일한 길이 방향 형태를 가지며 상기 모서리의 전체 길이에 걸쳐 연장된다.A feature of the polishing apparatus of the present invention is that the polishing recess is confined between two polishing elements, each of which is adapted to act on each of the two cutting edges of one shear blade moved laterally through the recess. It is. The shear blades move in the cross direction with respect to the length of the cutting edge of the blade. The blade of the scissors is in the closed state for the purpose of operation, and preferably the recess is shaped to assist the periphery of the assembly formed by substantially two blades. At least each side of the recess substantially assists each of the blade cutting edges, has substantially the same longitudinal shape and extends over the entire length of the edge.

절단 모서리의 길이방향 형상은 날의 선회축과 날의 선단을 통하여 지나는 날조립체의 가상중심선에 대한 모서리의 윤곽선으로서 이해되어야 한다. 상기 윤곽선은 직선이나 곡선 또는 직선과 곡선의 조합일 수 있다. 또한 육곽선은 특정날 조립체의 각 절단 모서리와 다를 수 있다.The longitudinal shape of the cutting edge should be understood as the contour of the edge to the virtual centerline of the blade assembly passing through the pivot axis of the blade and the tip of the blade. The contour may be a straight line or a curve or a combination of a straight line and a curve. The outline may also be different from each cut edge of the particular blade assembly.

본 발명의 바람직한 형태는 또한 연마요소가 진보적인 양식으로 가위의 각 절단 모서리를 처리하도록 배열됨을 특징으로 한다. 즉, 연마 효과는 연마조작이 실행됨에 따라 각 절단 모서리의 길이를 따라 점진적으로 이동된다.A preferred form of the invention is also characterized in that the abrasive element is arranged to treat each cutting edge of the scissors in a progressive fashion. That is, the polishing effect is gradually moved along the length of each cutting edge as the polishing operation is performed.

본 발명의 한 양상에 따라, 본 발명의 지지체, 상기 지지체에 연결된 두개의 연마요소, 상기 요소사이를 한정하는 연마리세스를 포함하는 가위연마장치를 제공하고, 상기 각 요소가 상기 리세스의 두 측면의 개개를 형성하며, 상기 각 측면이 상호연결된 가위날의 두 절단모서리의 개개의 길이방향 범위보다 실질적으로 작지 않은 길이방향범위를 갖고, 상기 닫힌 가위날이 상기 측면의 길이방향에서 일반적으로 연장하는 상기 절단모서리로 상기 리세스를 통하여 측방향으로 이동됨에 따라 상기 각 절단모서리가 개개의 요소에 접하는 결과로써 상기 요소는 닫히 가위날의 두 절단 모서리를 동시에 연마조작되도록 배열된다.According to one aspect of the invention, there is provided a scissor polishing apparatus comprising a support of the invention, two polishing elements connected to the support, a polishing recess defining between the elements, wherein each element comprises two of the recesses. Forming the individual pieces of the side, each side having a longitudinal range not substantially smaller than the individual longitudinal ranges of the two cutting edges of the interconnected shear blades, wherein the closed shear blades generally extend in the longitudinal direction of the side As the lateral edges are moved laterally through the recesses, the elements are arranged to simultaneously polish the two cutting edges of the shear blade as a result of the contact of the respective cutting edges to the individual elements.

본 발명의 다른 양상에 따라 본 발명은 베이스부재, 상기 베이스부재를 가로질러 연장되며 베이스부재에 연결된 두개의 가늘고 긴 연마요소, 상기 요소들 사이를 한정하는 연마리세스를 포함하는 가위연마장치를 제공하고, 상기 각 요소가 상기 리세스의 두 측면의 개개를 형성하며, 상기 리세스측면은 닫힌 가위날의 두 절단 모서리 사이를 한정하는 형상을 실질적으로 보조하는 형상을 갖고, 상기 각 리세스 측면은 상기 절단 모서리의 개개의 길이방향 범위보다 실질적으로 작지 않은 길이방향범위를 가지며, 지지단은 가위핸들에 결합가능하도록 상기 요소로 부터 외측으로 위치되고, 상기 가위의 핸들이 상기 지지단에 결합 가능하고 상기 절단 모서리가 상기 측면들의 길이방향에서 일반적으로 연장되는 반면에 상기 가위날이 상기 리세스를 통하여 전방측면으로 부터 기초가 되는 베이스부재를 향하여 측방향으로 이동함에 따라 상기 각 절단 모서리가 상기 개개 요소와 접하는 결과로써 상기 요소는 닫힌 가위날의 두 절단 모서리를 동시에 연마하기 위해 조작되도록 배열된다.According to another aspect of the present invention, the present invention provides a scissors polishing device comprising a base member, two elongated abrasive elements extending across the base member and connected to the base member, and an abrasive recess defining between the elements. Wherein each element defines an individual of two sides of the recess, the recess side having a shape substantially assisting a shape defining between two cutting edges of the closed shear blade, wherein each recess side is Has a longitudinal range not substantially smaller than the respective longitudinal range of the cutting edge, the support end being positioned outwardly from the element to engage the scissors handle, the handle of the scissors being engageable to the support end, The cutting edge extends generally in the longitudinal direction of the sides while the shear blade passes through the recess. Said each cutting edge as a result of contact with the respective element the element is arranged to be operated in order to polish the two cutting edges of the scissors closed day at the same time as it moves toward the base member where the base from the front lateral side.

본 발명의 또 다른 양상에 따라 본 발명은 날들이 닫힌 상태에 있을 때 각 날들의 절단모서리가 다른 날의 뒤모서리와 실질적으로 일치하여 배열되는 종류의 가위연마 방법을 제공하고, 상기 방법은 상기 날들을 닫는 단계와, 절단 모서리가 연마요소의 길이방향에서 일반적으로 연장되도록 두개의 가늘고 긴 연마요소 사이를 한정하는 V자 형상 리세스위에 상기 날을 위치시키는 단계와, 상기 각 절단모서리의 실질적인 전체 길이가 이동중에 상기 요소의 개개에 대하여 결합되도록 상기 리세스를 통하여 축방향으로 닫힌 날을 이동시키는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, the present invention provides a method of scissor polishing of the kind in which the cutting edges of the respective blades are arranged substantially coincident with the back edges of the other blades when the blades are in the closed state. Closing the blade, positioning the blade over a V-shaped recess defining between the two elongated abrasive elements such that the cutting edge extends generally in the longitudinal direction of the abrasive element, and substantially the entire length of each cutting edge. Moving the axially closed blade through the recess such that is engaged with each of the elements during movement.

본 발명의 한 실시예는 첨부도면을 참고하는 명세서의 다음 설명에서 상세히 설명된다. 도면은 본 발명이 어떻게 실행되는가를 단순히 설명하기 위한 것이고, 도시한 바와 같이 여러 특징과 특정한 형태와 배열은 본 발명을 한정하는 것으로써 이해되지 않아야 한다.One embodiment of the invention is described in detail in the following description of the specification with reference to the accompanying drawings. The drawings are intended to merely explain how the invention may be practiced and, as shown, various features and specific forms and arrangements should not be construed as limiting the invention.

이하에서 선회축(5)으로 상호연결된 날(2), (3)의 끝에 있는 정점(4)에서 끝나는 비교적 좁은 날(2), (3)을 갖는 것으로 제1도 내지 제4도에서 도시한 바와 같은 종류의 메니큐어가위(1)를 특히 참고하는 본 발명을 설명한다.It is shown below in FIGS. 1 to 4 with relatively narrow blades (2), (3) ending at the vertex (4) at the ends of the blades (2), (3) interconnected by the pivot axis (5) The present invention will be described with particular reference to a manicure scissors 1 of the type as described above.

보통 절단모서리(6)는 실질적으로 동일한 윤곽선을 가지며, 이 윤곽선은 직선이나 또는 단부들 사이에서 약간 만곡된 곡선이고, 각 날(2), (3)의 뒤모서리는 동일한 윤곽선을 갖는다.Usually the cutting edge 6 has substantially the same contour, which is a straight line or a slightly curved curve between the ends, and the back edges of each of the blades 2 and 3 have the same contour.

이런 가위(1)의 각 날(2), (3)은 다른 날의 대향하는 면(8)에 인접한 내부면(8)과 다른 날로부터 먼 외부면(9)을 갖는 판과 같은 형태의 것이다. 두개의 내부면(8)은 날(2), (3)이 닫힐 때 겹쳐져 대립된 관계에 있다. 각 절단 모서리(6)는 내부 및 외부면(8)(9) 사이로 연장되는 좁은 길이방향 모서리 표면(10)과 각 내부면의 교차점에서 형상된다.Each blade (2), (3) of this scissors (1) is of a plate-like form having an inner surface (8) adjacent to the opposing face (8) of the other blade and an outer surface (9) far from the other blade. . The two inner surfaces 8 are in overlapping opposition when the blades 2 and 3 are closed. Each cut edge 6 is shaped at the intersection of each inner surface with a narrow longitudinal edge surface 10 extending between the inner and outer surfaces 8, 9.

이 모서리표면(10)은 제2도와 4도에 도시한 바와 같이 내부면(8)으로 부터 개개날(2) 또는 (3)의 뒤모서리(7)를 향하여 외측으로 적은 각도로 경사진다. 또한 날(2), (3)이 제1도에 도시한 바와같이 닫힌 상태에 있을 때 각 절단 모서리(6)는 제2도에 도시한 바와 같이 다른 날의 뒤모서리(7)에 실질적으로 인접한다.This corner surface 10 is inclined outwardly from the inner surface 8 toward the rear edge 7 of the individual blade 2 or 3 as shown in FIGS. 2 and 4. In addition, when the blades 2 and 3 are in the closed state as shown in FIG. 1, each cutting edge 6 is substantially adjacent to the back edge 7 of the other blade as shown in FIG. do.

상기와 같이 가위(1)에 사용하도록 채택된 본 발명의 실시예를 설명한다. 그러나 특히 연마기가 상기 설명한 것과 다른 날을 갖는 가위에 사용된다면 본 발명의 다른 형태를 가질 수 있다는 것을 이해할 수 있다.An embodiment of the present invention adopted for use in the scissors 1 as described above will be described. However, it will be appreciated that the grinder may have other forms of the invention, especially if the grinder is used for scissors having a blade different from that described above.

제5도에 도시된 연마기(11)는 제8도에 잘 도시된 바와같이 부분적으로 중첩되는 관계로 배열된 연마요소(12)를 포함하여 연마요소들 사이로 연마리세스(13)를 한정한다.The polishing machine 11 shown in FIG. 5 includes polishing elements 12 arranged in a partially overlapping relationship as well shown in FIG. 8 to define the polishing recess 13 between the polishing elements.

리세스(13)는 닫혔을 때 연마기(11)를 사용하도록 가위의 날(2), (3)의 절단모서리들(6) 사이를 한정하는 형상을 실질적으로 보조하는 형상을 갖는 좁고 깊은 V자 형상이다. 각 요소(12)는 리세스(13)의 측면들의 개개를 형성하고, 이런 각 측면의 길이방향 범위는 절단모서리(6)의 개개의 길이방향 범위보다 바람직하게 더 작지 않다. 리세스(13)는 이하에서 설명될 바와같이 가위날의 접근을 허용하기 위한 개방상부 또는 전방부와, 두 요소(12)의 중첩부로 부터 먼 단부에 있는 개방구(14)를 구비한다.The recess 13 is narrow and deep V with a shape substantially assisting the shape defining between the cutting edges 6 of the scissors 2, 3 to use the grinder 11 when closed. Shape. Each element 12 forms an individual of the sides of the recess 13, and the longitudinal range of each of these sides is preferably not smaller than the individual longitudinal range of the cutting edge 6. The recess 13 has an open top or front to allow access of the scissor blades as will be described below, and an opening 14 at an end remote from the overlap of the two elements 12.

연마요소(12)를 형성하기 위해 어떤 적절한 재료를 이용할 수 있으나, 단단한 세라믹재료가 일반적으로 바람직하다.Although any suitable material may be used to form the polishing element 12, a hard ceramic material is generally preferred.

각 연마요소(12)는 닫힌 가위날(2), (3)이 연마리세스(13)를 통하여 전방부로 부터 베이스플레이트(15)를 향하여 측방향으로 이동하도록 허용하는 방식으로 도시된 구조에서 간단한 베이스플레이트(15)인 적절한 지지대상에 장착된다. 즉 연마조작이 일어날 수 있도록 하기 위해 연마요소(12)와 베이스플레이트(15) 사이에 충분한 공간이 있어야 한다. 도시한 배열에서 연마조작의 완료시 날(2), (3)을 수용하도록 공동 또는 포켓(16)(제7도 참조)을 형성하는 공간이 요소(12)의 아래에 있다.Each abrasive element 12 is simple in the construction shown in a manner that allows the closed shear blades 2, 3 to move laterally from the front towards the base plate 15 through the abrasive recess 13. The base plate 15 is mounted on an appropriate support object. That is, there must be enough space between the polishing element 12 and the base plate 15 in order for the polishing operation to take place. In the arrangement shown is a space below the element 12 that forms a cavity or pocket 16 (see FIG. 7) to receive the blades 2, 3 upon completion of the polishing operation.

바람직하게 적어도 연마요소(12)들중 하나는 다른 연마요소(12)에 관하여 상대이동을 허용하는 방식으로 베이스플레이트(15)상에 장착된다. 특히 연마리세스(13)가 탄력 있는 저항에 대항하여 측면으로 확대될 수 있도록 연마요소(12)를 배열하는 것이 바람직하다. 이런 배열은 연마리세스(13)를 통하여 이동됨에 따라 가위(2), (3)의 절단모서리(6)에 연마요소가 압력을 가하게 함으로써 연마조작을 편리하게 한다.Preferably at least one of the abrasive elements 12 is mounted on the base plate 15 in a manner that allows relative movement with respect to the other abrasive element 12. In particular, it is preferable to arrange the polishing elements 12 so that the polishing recesses 13 can extend laterally against the elastic resistance. This arrangement facilitates the polishing operation by applying pressure to the cutting edge 6 of the scissors 2, 3 as it is moved through the polishing recess 13.

도시하지 않은 다른 배열예에서 연마조작시 가위(1)에 앞을 향하는 타파력을 가함으로써 동일한 효과가 달성될 수 있다.In other arrangements not shown, the same effect can be achieved by applying a forward breaking force to the scissors 1 during the polishing operation.

즉, 가위(1)는 탄력있는 멈추개 또는 장벽에 대항하여 요소(12)의 중첩단부로부터 길이방향으로 이동할 수 있다.That is, the scissors 1 can move longitudinally from the overlapping end of the element 12 against an elastic stop or barrier.

도시한 배열에서 연마요소(12)의 각각을 위한 장착수단은 제8도 및 제9도에 잘 도시된 바와같이 한쌍의 탄력있는 디플렉터플레이트(17)를 포함한다. 이들 플레이트(17)의 각각은 베이스플레이트(15)에서 직립하거나 또는 커부부재(18)에 연결되고, 개개의 연마요소(12)의 각 대향단부에 위치된다.The mounting means for each of the polishing elements 12 in the arrangement shown includes a pair of resilient deflector plates 17 as well shown in FIGS. 8 and 9. Each of these plates 17 is upright in the base plate 15 or connected to the kerf member 18 and is located at each opposite end of the individual polishing element 12.

도시한 특정구조에서 한쌍의 디플렉터플레이트(17)는 제9도에 도시한 바와같이 베이스플레이트와 일체로 형성되고, 다른 쌍의 플레이트는 커버부재(18)와 일체로 형성된다. 다른 배열도 분명하게 가능하다.In the specific structure shown, the pair of deflector plates 17 are integrally formed with the base plate as shown in FIG. 9, and the other pair of plates are integrally formed with the cover member 18. As shown in FIG. Other arrangements are obviously possible.

각 디플렉터플레이트(17)는 제12도에 도시한 바와 같이 베이스플레이트(15) 또는 커버부재(18)에 관하여 편향 또는 굽힘될 수 있는 두께를 갖는다. 연마요소(12)는 네개의 디플렉터플레이트(17) 사이에 위치되어 각각이 이들 플레이트(17)중 각 두개에 대향하여 반응하고 연마리세스(13)가 닫힌 가위날(2), (3)의 강제도입으로 확대됨에 따라 플레이트(17)를 외측으로 편향되게 한다. 제8도 및 제10도는 플레이트(17)가 편향되지 않고 요소(12)가 그들의 일반적인 휴지위치에 유지되는 것을 도시한다. 제11도 및 제12도는 리세스(13)가 확대되고 플레이트(7)가 그 확대된 것을 수용하도록 굽혀지거나 편향되는 것을 도시한다.Each deflector plate 17 has a thickness that can be deflected or bent relative to the base plate 15 or cover member 18 as shown in FIG. The abrasive element 12 is positioned between the four deflector plates 17, each of which reacts against each of the two of these plates 17, and the abrasive recess 13 is closed of the shear blades 2, 3 The plate 17 is deflected outward as it is enlarged by forced introduction. 8 and 10 show that the plate 17 is not deflected and the elements 12 are held in their normal resting position. 11 and 12 show that the recess 13 is enlarged and the plate 7 is bent or deflected to accommodate the enlargement.

도시한 특정실시예에서 각 연마요소(12)는 직경에 관하여 실질적으로 길이를 갖는 원통형 부재의 형태이다. 이것은 이하에서 설명될 이유로 편리한 형태이며, 유일하게 가능한 형태는 아니다. 각 요소(12)는 곧은 원통형이어서 이들 사이에 한정되는 연마리세스(13)가 곧은 측면은 V자 형상이다.In the particular embodiment shown, each abrasive element 12 is in the form of a cylindrical member having a length substantially in relation to the diameter. This is a convenient form for the reasons described below, and is not the only possible form. Each element 12 is a straight cylindrical shape with a V-shape at the straight side of the abrasive recess 13 defined therebetween.

상기와 같은 연마될 가위날(2), (3)의 절단모서리(6)가 길이방향에서 약간 만곡될 수 있고, 이에 따라 연마리세스(13)의 측면과 다른 길이방향 형상을 갖는다. 그러나 이 차이는 실질적인 것이 아니고, 연마조작의 유효성을 방해하지 않는다.The cutting edges 6 of the scissors blades 2 and 3 to be polished as described above may be slightly curved in the longitudinal direction, and thus have a longitudinal shape different from that of the side of the abrasive recess 13. However, this difference is not substantial and does not interfere with the effectiveness of the polishing operation.

두개의 연마요소(12)는 서로서로에 관하여 각을 이루어서 배열되어 그들 사이의 연마리세스(13)를 한정하게 되고, 요소(12)들은 바람직하게 제8도에 도시한 바와 같이 한 단부에서 중첩된다. 각 요소(12)가 제7도에 도시한 바와같이 기초로 되는 베이스플레이트(15)의 일반적인 평면에 관하여 경사진다. 이 경사의 범위는 크지 않아야 하고 예를 들면 5°정도이어야 하고, 도시한 바와 같이 연마요소(12)의 각각에 대한 방향에서 바람직하게 대향된다.The two abrasive elements 12 are arranged at an angle with respect to each other to define an abrasive recess 13 therebetween, and the elements 12 preferably overlap at one end as shown in FIG. do. Each element 12 is inclined with respect to the general plane of the base plate 15 on which it is based, as shown in FIG. The range of this inclination should not be large and should be, for example, about 5 ° and preferably opposed in the direction for each of the polishing elements 12 as shown.

즉 요소들(12)중 하나는 단부로 부터 상측으로 경사지고, 이에 반해 다른 요소는 대향 단부로 부터 하측으로 경사진다.That is, one of the elements 12 is inclined upwards from the end, while the other is inclined downwards from the opposite end.

도시한 바와 같이 바람직한 배열에서 요소들(12)중 하나는 연마리세스1(3)의 선단 또는 베이스에 인접한 단부(19)로 부터 상측으로 경사져 베이스나 선단으로 부터 먼 그 요소의 단부(20)가 베이스플레이트(15)에 관하여 더 높은 고도를 갖는다. 다른 요소(12)는 상기 요소(12)의 인접단부(19)에 적어도 부분적으로 중첩되는 베이스 또는 선단(21)을 가지며, 그 단부(21)로 부터 하측으로 경사지게 배열되어 다른 단부(22)가 상기 요소(12)의 인접한 보다 더 낮게 위치된다. 도시한 예에서 각 요소(12)의 베이스나 선단은 다른 요소(12)의 먼 단부와 같이 베이스플레이트(15)에 관하여 실질적으로 같은 고도를 갖는다.In the preferred arrangement, as shown, one of the elements 12 is inclined upwardly from an end 19 adjacent to the tip or base of the abrasive recess 1 3 so that the end 20 of the element is remote from the base or tip. Has a higher altitude with respect to the baseplate 15. The other element 12 has a base or tip 21 which at least partially overlaps the adjacent end 19 of the element 12 and is arranged obliquely downward from the end 21 so that the other end 22 is arranged. It is located lower than adjacent of the element 12. In the example shown, the base or tip of each element 12 has substantially the same elevation relative to the baseplate 15 as the far end of the other element 12.

어떤 적절한 수단이 상기 배열에서 각 연마요소(12)를 지지하도록 제공될 수 있다. 도시한 예에서 각 요소(12)는 다수의 기동(23)의 각각에 유지되며, 이 기둥들은 베이스플레이트(15)로 부터 직립하고 개개요소(12)의 길이방향에서 이격되어 있다. 이들 기공들(23)의 개개 그룹은 제9도에 도시한 바와같이 각 요소(12)를 위해 제공된다. 적절한 단부 멈추개(24), (25)는 각 요소(12)의 길이방향 이동을 방지하도록 제공되고, 리테이너수단은 개개의 디플렉터플레이트(17)에 인접하여 또는 대항하여 각 요소(12)를 유지시키도록 제공될 수 있다.Any suitable means may be provided to support each polishing element 12 in the arrangement. In the example shown each element 12 is held in each of the plurality of maneuvers 23, the posts standing upright from the baseplate 15 and spaced apart in the longitudinal direction of the individual elements 12. Individual groups of these pores 23 are provided for each element 12 as shown in FIG. Suitable end stops 24, 25 are provided to prevent longitudinal movement of each element 12, and retainer means retain each element 12 adjacent or against the individual deflector plate 17. It may be provided to make.

도시한 배열에서 각 연마요소(12)를 위한 리테이너 수단은 작은 브래킷(26)을 포함하고, 이 브래킷은 개개요소(12)의 단부구멍(28)(제9도 참조)내에 회전가능하게 위치된 측부(27)와, 요소(12)의 단부(20) 또는 (22)에서 디플렉터플레이트(17)의 둘레에 위치된 플레이트부(29)를 갖는다.The retainer means for each abrasive element 12 in the arrangement shown includes a small bracket 26, which bracket is rotatably positioned in the end hole 28 (see FIG. 9) of the individual element 12. It has a side portion 27 and a plate portion 29 located around the deflector plate 17 at the end 20 or 22 of the element 12.

배열은 플레이트부(29)와 여나요소(12)가 디플렉터플레이트(17)의 개개 대향측면상에 있도록 되어 있다. 각 연마요소(12)를 위한 리테이너 수단은 또한 러그를 포함하고, 이 러그는 단부(19) 또는 (21)에서 개개요소(12)의 내부측 표면에 대해 결합된다. 이 내부측 표면은 연마리세스(13)의 경계를 한정하는 표면이다. 도시한 특정구조에서 요소단부(19),(21)에 인접한 디플렉터플레이트(17)는 리테이너 러그로써 작용한다.The arrangement is such that the plate portion 29 and the spacer element 12 are on respective opposite sides of the deflector plate 17. The retainer means for each abrasive element 12 also comprises a lug, which is joined to the inner surface of the individual element 12 at the end 19 or 21. This inner surface is a surface defining the boundary of the polishing recess 13. In the particular structure shown, the deflector plates 17 adjacent to the element ends 19, 21 act as retainer lugs.

또한 도시한 특정배열에서 리테이너수단은 베이스플레이트(15)에 연결되며 위에 있고 부분적으로 연마요소(12)를 에워싸는 중공커버부재(18)을 포함한다. 이 커버부재(18)는 이 부재위에 형성되거나 또는 이 부재에 부착된 두개의 디플렉터플레이트(17)를 가지며, 베이스플레이트(15)로부터 이탈하는 상측방향에서 연마요서(12)의 이동을 방지하도록 배열된다. 이렇게 하기 위해 커버부재(18)는 다수의 하측으로 연장된 두그룹의 돌기(30)(제7도 참조)를 구비하며, 이들의 각각은 그 요소(12)와 결합가능하도록 연마요소(12)의 개개위에 있다.Also in the particular arrangement shown, the retainer means comprise a hollow cover member 18 which is connected to the base plate 15 and which partially surrounds the polishing element 12. The cover member 18 has two deflector plates 17 formed on or attached to the member and arranged to prevent the movement of the polishing request 12 in an upward direction away from the base plate 15. do. To do this the cover member 18 has a plurality of downwardly extending two groups of projections 30 (see FIG. 7), each of which is in engagement with the element 12. On top of each other.

출입구(31)(제5도 참조)는 가위날(2), (3)이 연마리세스(13)로 도입되도록 허용하기 위해 커버부재(28)에 형성된다.An entrance 31 (see FIG. 5) is formed in the cover member 28 to allow the scissors blades 2, 3 to be introduced into the abrasive recess 13.

이 출입구(31)는 연마리세스(13)의 것과 유사한 원추형상을 가질 수 있고, 가위날(2), (3)이 리세스(13)로 도입되는 것을 방해받지 않도록 하기 위해 리세스(13)보다 일반적으로 더 크다.This doorway 31 may have a conical shape similar to that of the abrasive recess 13, and the recess 13 in order to prevent the scissors blades 2, 3 from being introduced into the recess 13. Generally larger than

베이스플레이트(15)는 가위(1)의 핸들(33)을 위해 지지단(32)을 제공하도록 연마리세스(13)의 개방구(14)를 지나 연장되는 것이 바람직하다. 위치수단은 연마요소(12)에 관하여 가위(1)의 위치정정을 편리하게 하도록 지지단(32)상에 제공될 수 있다. 도시한 바와 같이 위치수단이 두개의 플랜지(34), (35)를 포함할 수 있고, 이 플랜지는 지지단(32)으로 부터 직립하며 가위핸들(33)의 손가락 개구(36)들중 한 개구내에 위치하도록 배열된다. 위치수단은 벽(37)을 포함할 수 있고, 지지단(32)의 적어도 원주부로 부터 직립하며 제13도에 도시한 바와 같이 가위핸들(32)의 외측의 둘레에 위치된다.The baseplate 15 preferably extends beyond the opening 14 of the abrasive recess 13 to provide a support end 32 for the handle 33 of the scissors 1. Positioning means may be provided on the support end 32 to facilitate positioning of the scissors 1 with respect to the polishing element 12. As shown, the positioning means may comprise two flanges 34, 35, which are upright from the support end 32 and one of the finger openings 36 of the scissors handle 33. It is arranged to be located in the premises. The positioning means may comprise a wall 37, which is erected from at least the circumference of the support end 32 and located around the outside of the scissors handle 32 as shown in FIG. 13.

위치수단(34), (35), (37)에 의해 위치가 정정되는 가위(1)는 커버부재(18)의 출입구(31)로 연장되며 기초로 되는 연마요소(12)상에 유지되는 날(2), (3)(닫힌 상태)을 갖도록 배열된다. 이 상태에서 가위(1)는 제14도에 도시한 바와같이 지지단(32)에 관하여 핸들단부로 부터 상측으로 경사진다.The scissors 1 whose position is corrected by the positioning means 34, 35, 37 are extended to the doorway 31 of the cover member 18 and are held on the underlying polishing element 12. It is arranged to have (2) and (3) (closed state). In this state, the scissors 1 are inclined upward from the handle end with respect to the support end 32 as shown in FIG.

각 가위날(2), (3)은 전체길이를 따른다기 보다는 오히려 불연속영역에서 연마요소(12)의 개개와 결합된다. 도시예에서 날(3)의 절단모서리(6)의 선단부는 한 연마요소(12)의 상상하는 단부와 결합되고, 다른 날(2)의 절단모서리(6)의 대향하는 선단부는 다른 요소(12)의 상승하는 단부와 결합된다.Each shear blade 2, 3 is engaged with the individual polishing element 12 in a discontinuous region rather than along its entire length. In the example shown, the leading end of the cutting edge 6 of the blade 3 is engaged with the imaginary end of one polishing element 12, and the opposite leading end of the cutting edge 6 of the other blade 2 is connected to the other element 12. ) With the rising end of

연마는 제15도에 도시한 위치를 갖도록 연마리세스(13)를 통하여 기초로 되는 베이스플레이트(15)를 향하여 측면으로 날(2), (3)을 밀기 위해 가위(1)에 하향력을 가함으로써 실행된다. 위치수단(34), (35), (37)은 연마조작을 통하여 리세스(13)로 부터 날(2), (3)의 길이방향이동을 방지하기 위하여 가위핸들(33)과 협력한다. 날(2), (3)이 연마리세스(13)로 힘을 받을 수 있도록 연마요소(12)의 원통 표면은 캠핑 또는 램핑능력을 제공하고, 디플렉터플레이트(17)는 리세스(13)의 점진적인 축방향 확대를 허용하기 위해 외측으로 굽혀진다. 디플렉터플레이트(17)의 탄력성의 견지에서 이 플레이트들은 연마요소(12)상에 내측으로 작용하는 바이어스를 유지시켜 적절한 압력이 이들 요소(12)와 결합하는 날절단모서리(6)사이에서 유지된다. 그러나, 다른 바이어싱 수단이 상기 목적을 위해 사용될 수 있는 것이다.The grinding forces downward force on the scissors 1 to push the blades 2 and 3 laterally through the polishing recess 13 toward the base base 15 to have the position shown in FIG. Is executed. The positioning means 34, 35, 37 cooperate with the scissors handle 33 to prevent the longitudinal movement of the blades 2, 3 from the recess 13 via the grinding operation. The cylindrical surface of the polishing element 12 provides for camping or ramping capability so that the blades 2 and 3 are forced into the polishing recess 13, and the deflector plate 17 of the recess 13 It is bent outward to allow progressive axial expansion. In view of the resiliency of the deflector plate 17 these plates maintain an inwardly acting bias on the polishing element 12 such that an appropriate pressure is maintained between the cutting edges 6 that engage these elements 12. However, other biasing means can be used for this purpose.

날(2), (3)이 연마리세스(13)를 통하여 하측으로 이동됨에 따라 각 절단모서리(6)와 개개의 연마요소(12) 사이의 접촉영역(38)(제16도 및 17도 참조)은 점차리세스(13)의 길이 방향으로 이동한다. 이 이동방향은 각 가위날(2), (3)에 대하여 대향할 것이고, 제16도와 17도는 날(3)과 연결되어 일어나는 이동을 도시한다. 여하튼 상대적으로 작은 접촉영역은 연마요소(12)를 떨어져서 이동하는데에 필요한 힘을 극소화하고, 이에 의해 날(2), (3)이 리세스(13)를 통하여 지날 수 있게 되고, 이 영역(38)의 점진적인 이동은 각 절단모서리(6)의 전체 길이가 연마되게 한다.As the blades 2 and 3 are moved downwardly through the abrasive recess 13, the contact area 38 between each cutting edge 6 and the individual abrasive elements 12 (16 and 17 degrees) Gradually moves in the longitudinal direction of the recess 13. This direction of movement will be opposed to each of the shear blades 2 and 3, with the sixteenth and seventeenth degrees showing the movement occurring in connection with the blade 3. In any case, the relatively small contact area minimizes the force required to move the polishing element 12 apart, thereby allowing the blades 2 and 3 to pass through the recess 13, and this area 38. The gradual movement of) causes the entire length of each cutting edge 6 to be ground.

날(2)(3)이 이들 요소(12)와의 결합을 벗어나도록 연마요소(12)의 아래에 이동될 때 연마조작이 중단된다. 날(2), (3)은 보관되는 동안에 보호되도록 포켓이나 공동(16)에 포함되어 있다.The polishing operation is stopped when the blades 2 and 3 are moved underneath the polishing element 12 so as to be out of engagement with these elements 12. The blades 2 and 3 are contained in pockets or cavities 16 to be protected during storage.

이 보관 상태로 부터 가위(1)의 제거는 지지단(32)으로부터 핸들(33)을 들어 올리고 다음에 보관포켓(16)으로 부터 길이 방향으로 날(2), (3)을 꺼냄으로써 실행된다. 즉 연마리세스(13)를 통하여 날(2), (3)을 복귀시킬 필요가 없다.Removal of the scissors 1 from this storage state is carried out by lifting the handle 33 from the support end 32 and then pulling the blades 2 and 3 in the longitudinal direction from the storage pocket 16. . That is, it is not necessary to return the blades 2 and 3 through the abrasive recess 13.

바람직하다면 날(2), (3)은 연마가 일어나지 않도록 역방식으로 보관포켓(16)에 복귀될 수 있다.If desired, the blades 2 and 3 can be returned to the storage pocket 16 in the reverse manner such that no grinding occurs.

가위날(2), (3)이 제18도에 도시한 바와같이 연마조작시 연마리세스(13)의 한 측면으로부터 측방향으로 점차 이동되는 것이 설명된 특정구조의 특징이다. 이 이동의 범위는 아주 작을 수 있고, 각 날의 좁은 길이 방향 모서리 표면(10)의 각을 이룬 배열로 좌우된다. 연마작용은 이동표면(10)의 각각을 가로질러서 일어나고, 이에 따라서 날(2), (3)이 이 목적을 위해 연마시 적절한 통로를 지날 필요가 있다.It is a feature of the specific structure described that the scissor blades 2, 3 are gradually moved laterally from one side of the polishing recess 13 during the polishing operation as shown in FIG. The range of this movement can be very small and depends on the angled arrangement of the narrow longitudinal edge surface 10 of each blade. Polishing takes place across each of the moving surfaces 10, so that the blades 2 and 3 need to pass through the appropriate passages for polishing for this purpose.

연마요소(12)의 원통특성이 상기 결과에 기여한다. 한날(2) 또는 (3)의 좁은 길이방향 모서리표면(10)은 그 요소(12)의 축상의 한 위치에서 개개 연마요소(12)의 원통형 표면과 우선 결합하고, 이에 반하여 다른 날이 결합은 개개요소(12)의 축에서 또는 축의 아래에서 일어난다. 따라서 날(2)에 대하여 연마는 연마리세스(13)의 면 측면을 향하여 방향에서 곡선표면을 가로질러 실행되고, 이에 반하여 다른 날(3)에 대하여 연마는 연마리세스(13)의 관련된 면 측면으로 부터 이탈하는 방향에서 곡선표면을 가로질러 실행된다. 두 방향은 평행하고, 베이스플레이트(15)의 일반 평면에 대하여 직각 이외의 다른 각도에 있다,The cylindrical characteristics of the polishing element 12 contribute to this result. The narrow longitudinal edge surface 10 of one edge (2) or (3) first engages the cylindrical surface of the individual abrasive element 12 at a location on the axis of the element 12, while the other edge It occurs at or below the axis of the individual elements 12. Thus, polishing against the blade 2 is carried out across the curved surface in the direction towards the face side of the polishing recess 13, while polishing against the other edge 3 involves the associated face of the polishing recess 13. It runs across the curved surface in the direction away from the side. The two directions are parallel and at an angle other than perpendicular to the general plane of the baseplate 15,

상기의 결과가 비원통형의 연마 요소로 달성될 수 있다는 것은 쉽게 이해할 수 있다.It is readily understood that the above results can be achieved with a non-cylindrical polishing element.

도시한 배열에 따라 베이스플레이트(15)와 지지단(32)은 가위(1)을 위한 용기의 리셉터클부(39)를 형성한다. 다른 폐쇄부(40)는 각 제13도와 20도에 도시한 바와 같이 개방 및 폐쇄위치사이의 이동을 위해 그 리셉터클부(39)에 힌지되어 연결되고, 적절한 수단이 폐쇄상태에서 두 부품(39), (40)을 해제 가능하게 유지되도록 하기 위해 제공될 수 있다. 예를들면 스냅결합 클릭이 후자의 목적을 위해 채용될 수 있다.According to the arrangement shown, the baseplate 15 and the support end 32 form a receptacle portion 39 of the container for the scissors 1. The other closure 40 is hingedly connected to the receptacle portion 39 for movement between the open and closed positions, as shown in each of FIGS. 13 and 20 degrees, and the two parts 39 in the closed state with appropriate means. , 40 may be provided to keep releaseable. For example, snap-clicks can be employed for the latter purpose.

용기가 폐쇄될 때 가위(1)의 제거를 방지하도록 배열된다.It is arranged to prevent the removal of the scissors 1 when the container is closed.

용기가 폐쇄됨에 따라 연마리세스(13)를 통하여 가위날(2), (3)을 자동적으로 이용시키기 위한 수단이 제공될 수 있다. 이 수단은 커버부(40)의 폐쇄이동의 후자단계 동안에 연마리세스(13)를 통하여 날(2), (3)을 밀기 위해 날 선회축(5)의 영역에서 가위(1)와 결합가능한 커버부(40)의 내측에 돌기(41)를 구비한다. 명백하게 다른 수단이 동일한 목적을 위해 채택될 수 있다.Means may be provided for automatically using the shear blades 2, 3 through the abrasive recess 13 as the container is closed. This means is engageable with the scissors 1 in the region of the blade pivot 5 for pushing the blades 2, 3 through the abrasive recess 13 during the latter phase of the closing movement of the cover 40. The protrusion 41 is provided inside the cover portion 40. Obviously, other means can be employed for the same purpose.

네일파일(42)(제13도 참조)을 보유하기 위한 설비가 용기의 어느 부분내에 제공될 수 있다.A facility for holding the nail pile 42 (see also FIG. 13) may be provided in any part of the container.

본 발명에 따른 연마기가 횡단하는 방식으로 가위날을 연마하기 위해 편리하고 효과적인 수단을 제공한다는 것은 상기 설명으로 부터 명백하다. 즉, 연마는 날 절단모서리의 길이방향이라기 보다는 가로질러 실행된다.It is apparent from the above description that the grinding machine according to the invention provides a convenient and effective means for grinding the shear blades in a transverse manner. That is, the polishing is performed across rather than in the longitudinal direction of the blade cutting edge.

본 명세서에서 사용된 바와 같이 "상측", "하측", "상부" 및 "하부"와 같은 상대적인 용어는 단지 설명의 편의상 사용되고, 연마가 특정 배열에서 사용되어야 하는 것으로 이해되지 않아야 한다.As used herein, relative terms such as "top", "bottom", "top" and "bottom" are used merely for convenience of description and should not be understood that polishing should be used in a particular arrangement.

본 발명의 여러 변경, 변형 및/또는 부가하는 첨부하는 청구범위를 한정되는 바와 같이 본 발명의 정신 또는 범위를 벗어남 없이 상술된 구조 및 배열에 도입될 수 있다.Various modifications, variations and / or additions of the invention may be incorporated into the above-described structures and arrangements without departing from the spirit or scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims

A support, two polishing elements connected to the support, and a polishing recess defining between the elements, wherein each polishing element forms an individual of two sides of the recess, wherein each side is interconnected. Having a longitudinal extent not substantially smaller than the respective longitudinal extent of the two cutting edges of the shear blade, the closed shear blade being laterally through the recess with the cutting edge extending generally in the longitudinal direction of the side surface And the elements are arranged to simultaneously manipulate the polishing of the two cutting edges of the closed shear blades as a result of each cutting edge being in contact with the respective element as it moves.

2. The scissors polishing device of claim 1, wherein the elements are arranged relative to each other in such a way that the recess has a shape that substantially assists the shape defining between the cutting edges of the closed scissors blade.

2. The scissors polishing device of claim 1, comprising resilient means operable to maintain pressure between the element and the cutting edge upon movement of the blade through the recess.

4. The device of claim 3, wherein at least one of the elements is mounted to move laterally with respect to the other element, and wherein the resilient means rests on the moving element to resist movement of this element away from the other element. Scissor polishing device, characterized in that the action.

5. The method of claim 4, wherein the resilient means comprises at least one deflector plate, the resilient means being coupled to the side of the moving element and resilient to permit movement of the element in one direction deviating from a vertical stop position. Scissor polishing apparatus, characterized in that the deflection.

4. The scissors polishing apparatus according to claim 3, wherein said resilient means acts on said each element.

The recess of claim 1, wherein the recess has an opening at one end of the sides and an open front extending from the one end toward the opposite end of the sides, the opening and the opening front being at the recess. Scissors polishing device, characterized in that for allowing the movement of the scissors blade closed from the front to the rear through.

8. The device of claim 7, wherein the support is located behind the recess, a blade receiving space is provided between the element and the support, the closed blade being longitudinally from and to the space without passing through the recess. Scissors polishing device, characterized in that arranged to be moved in.

2. The scissors polishing device as claimed in claim 1, comprising positioning means for positioning the scissors by positioning relative to the element such that the blades move through the recess to perform the polishing.

10. The method of claim 9, wherein the support portion includes a support end, wherein the positioning means is provided to the support end, and the scissors handle is supported by the support end as the scissors blade is moved through the polishing recess. Scissors polishing machine.

11. The scissors polishing device according to claim 10, wherein the positioning means cooperates with the scissors to prevent longitudinal movement of the blade from the recess during the polishing tank operation.

12. The support of claim 10 wherein the support end is arranged to support the scissors with respect to the element such that each cutting edge is gradually polished along its length from one end to the other as the blades move through the recess. Scissor polishing device characterized in that.

The polishing zone of claim 12, wherein the polishing zone of the other cutting edge is gradually moved in an opposite direction in the one direction so that the polishing zone of the cutting edge is gradually moved from one end of the cutting edge to the other end in one direction. Scissor polishing apparatus, characterized in that the elements are arranged relative to the manipulator.

15. The method of claim 13, wherein the elements interoperate with the shear blades during the polishing operation such that the blades move laterally away from another element towards one of the elements, and wherein the lateral movement crosses the support. Scissors polishing device, characterized in that in the.

2. The support of claim 1 wherein the support forms part of the container for scissors, the closure part is connected with the container part for movement between the open and closed positions, and the closure part moves through the recess when the closure part moves. Scissor polishing apparatus, characterized in that it is operated to move to the closed position.

2. The scissors polishing device of claim 1, wherein each element is in the form of a cylindrical rod, the rods overlapping at one end and branching from the end to define a recess therebetween.

17. The rod of claim 16, wherein the rod is mounted on a base plate forming the support, and one rod is inclined outwardly from the base plate in a direction away from one end such that the other rod ends one end of the rod. Scissors polishing device, characterized in that inclined outward from the base plate in the direction facing.

17. The scissors polishing apparatus according to claim 16, wherein each rod is mounted to rotate about the support.

The rod of claim 16, wherein the rods are arranged to cooperate with the shear blades during the polishing operation such that the one rod has a joining area between the one abrasive edge located above the longitudinal axis of the one rod, and the other rod and the other abrasive rod. Scissors polishing device, characterized in that the joining area between the edge is located below the longitudinal axis of the other rod.

20. The method of claim 19, wherein each coupling zone is at a point in time at a portion of the terminal of the individual rod, and wherein the coupling zone moves in the longitudinal direction of the individual rod as the blade is moved through the recess. Scissor polishing device characterized in that.

21. The method of claim 20, wherein the engagement zone moves laterally across the surface of the one rod upon movement of the blades through the recess such that the engagement zone is closer to the other rod, and the engagement zone of the other rod is directed to the one rod. Scissors polishing device, characterized in that moving to the side to move forward.

The cover member of claim 1, wherein the elements are connected to the base plate of the support, a hollow cover member is over the elements, the elements are retained between the cover member and the base plate, and an entrance is provided to the cover member. Scissor polishing apparatus, characterized in that the closed scissors blade is moved in the recess to perform the polishing.

A base member, two elongated abrasive elements extending across said base member and connected to said base member, and a polishing recess defined between said elements, each of said elements defining an individual of two sides of said recess. And define a shape therebetween, wherein the recess side substantially assists the shape defined between the two cutting edges of the closed shear blade, wherein each recess side is substantially smaller than the respective longitudinal range of the cutting edges. Having a longitudinal extent, the support end being positioned outwardly from the elements such that the support end is engageable with the scissors handle, the scissors handle engaging the support end and the cutting edge extending generally in the longitudinal direction of the sides While the scissor blade is cut from the anterior side through the recess As a result the Dara As each of the cutting move to the switch member toward the lateral edges in contact with the individual elements scissors polishing apparatus, characterized in that the said elements are arranged to operate the polishing of the two cutting edges of the scissors closed day at the same time.

24. The scissors polishing apparatus according to claim 23, wherein at least one rod is mounted to move laterally from another rod and the resilient means is operated to resist the movement.

25. The scissors polishing device as claimed in claim 24, wherein said resilient means comprises a deflector plate for engaging each of the two opposite ends of said rod.

In scissors of the kind in which the cutting edge of one blade is arranged substantially coincident with the rear edge of the other blade when the blades are in a closed state, the closing of the blades and the cutting edge generally extending in the longitudinal direction of the elements Positioning the fringing blades on a V-shaped recess defined between two elongated abrasive elements, and through the recesses such that the substantial overall length of each cutting edge engages the individual of the elements as they move. Scissor polishing method comprising the step of moving the closed blades laterally.

17. The scissors polishing apparatus according to claim 16, wherein each cutting edge is gradually engaged with the individual elements, and the coupling is advanced from one end of the cutting edge toward the other end.

28. The method of claim 27 wherein the advancing engagement direction is opposite for each of the two cutting edges.

27. The method of claim 26 wherein the blades move laterally in one direction as they move through the recess.