Claims (13)
마스크의 패턴상을 감광기판상에 투영하는 투영광학계, 상기 감광기판을 유지하고 상기 투영광학계의 광축방향 및 광축에 수직한 방향으로 이동가능한 스테이지, 상기 감광기판상에 패턴상을 투사하는 동시에 상기 감광기판으로부터의 반사광을 광점검출하므로써 상기 투영광학계의 결상면과 상기 감광기판 표면의 상기 투영 광학계 광축방향의 편차에 대응한 검출신호를 출력하는 초점검출계, 상기 스테이지상에 수광면이 배치되고 상기 패턴상을 광점검출하는 수광시스템, 상기 패턴상을 상기 수광면에 투사했을때 상기 수관시스템에서 출력되는 광전신호에 기초하여 상기 패턴상의 결상상태를 검출하는 검출시스템, 상기 검출된 결상상태에 기초하여 상기 감광기판상에서의 패턴상의 핀트를 조정하는 조정장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.A projection optical system for projecting a pattern image of a mask onto a photosensitive substrate, a stage holding the photosensitive substrate and movable in an optical axis direction and a direction perpendicular to the optical axis of the projection optical system, and simultaneously projecting the pattern image onto the photosensitive substrate A focus detection system for outputting a detection signal corresponding to a deviation of an imaging plane of the projection optical system and an optical axis direction of the projection optical system on the surface of the photosensitive substrate by detecting light spots from a substrate, and a light receiving surface is disposed on the stage, and the pattern A light receiving system for detecting light spots of an image, a detection system for detecting an image formation state of the pattern image based on a photoelectric signal output from the water pipe system when the pattern image is projected onto the light receiving surface, and based on the detected image state And an adjusting device for adjusting the focus on the pattern on the photosensitive substrate. Young exposure apparatus.
제1항에 있어서, 상기 초점 검출계는 상기 패턴상을 상기 기판상에 투사하는 투광계를 가지며, 상기 조정 장치는 상기 투광계를 구성하는 복수의 광학요소 중 적어도 하나를 상기 투광계의 광축방향으로 구동할 구동부재를 갖는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.The optical focusing apparatus of claim 1, wherein the focus detection system has a light projection system for projecting the pattern image onto the substrate, and the adjustment device is configured to display at least one of a plurality of optical elements constituting the light transmission system in an optical axis direction of the light transmission system. Projection exposure apparatus characterized by having a drive member to drive.
제1항에 있어서, 상기 수광 시스템은 상기 패턴상을 촬상하는 촬상소자를 갖는것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.The method of claim 1, wherein the light receiving system is a projection exposure apparatus, characterized in that is has an image pickup device for capturing an image of a said pattern.
제1항에 있어서, 상기 수광시스템으로부터의 광전신호에 기초하여 상기 광축과 수직한 면내에서의 패턴상 형성위치를 검출하는 위치검출장치와, 상기 패턴상이 소정위치에 설정되도록 상기 검출된 형성위치에 따라 상기 패턴상을 이동시키는 이동장치를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.2. A position detecting apparatus according to claim 1, further comprising: a position detecting device for detecting a pattern forming position in a plane perpendicular to the optical axis based on the photoelectric signal from the light receiving system, and at the detected forming position such that the pattern image is set at a predetermined position. And a moving device for moving the pattern image according to the pattern.
제4항에 있어서, 상기 이동 장치는, 상기 초점 검출계에서 설치되고, 상기 광축과 수직한 면내에서 상기 패턴상을 시프트시키는 광학부재를 구동하는 구동부재를 갖는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.The projection exposure apparatus according to claim 4, wherein the moving device has a drive member which is provided in the focus detection system and drives an optical member which shifts the pattern image in a plane perpendicular to the optical axis.
마스크의 패턴상을 감광기판상에 투영하는 투영광학계, 상기 감광기판을 유지하고 상기 투영 광학계의 광축방향 및 광축에 수직한 방향으로 이동 가능한 스테이지, 상기 감광기판상에 패턴상을 투사하는 동시에 상기 감광기판으로부터의 반사광을 광전검출하므로써 상기 투영광학계의 결상면과 상기 감광기판 표면의 상기 투영 광학계 광축방향의 편차에 대응한 검출신호를 출력하는 초점 검출계, 상기 스테이지상에 수광면이 배치되고 반사율이 다른 적어도 2개의 영역으로 된 반사부재, 상기 패턴상과 반사부재의 상대주사에 수반하여 상기 초점검출계에서 출력하는 검출신호에 기초하여 상기 패턴상의 결상상태를 검출하는 검출 시스템, 상기 검출된 결상상태에 기초하여 상기 감광기판상에서의 패턴상의 핀트를 조정하는 조정장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.A projection optical system for projecting a pattern image of a mask onto a photosensitive substrate, a stage holding the photosensitive substrate and movable in an optical axis direction and a direction perpendicular to the optical axis of the projection optical system, and simultaneously projecting the pattern image onto the photosensitive substrate A focus detection system for outputting a detection signal corresponding to a deviation of an imaging plane of the projection optical system and an optical axis direction of the projection optical system of the surface of the photosensitive substrate by photodetecting the reflected light from the substrate; A detection system for detecting an image formation state of the pattern image based on a reflection member having at least two other regions, the detection image output from the focus detection system in association with the pattern image and the relative scanning of the reflection member, and the detected image formation state Comprising an adjusting device for adjusting the focus on the pattern on the photosensitive substrate based on the Projection exposure apparatus characterized by the above-mentioned.
제6항에 있어서, 상기 초점검출계는 상기 패턴상을 상기 기판상에 투사하는 투광계를 가지고, 상기조정장치는 상기 투광계를 구성하는 복수의 광학요소 중 적어도 하나를 상기 투광계의 광축방향으로 구동하는 구동부재를 갖는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.The optical axis of claim 6, wherein the focus detection system has a light projection system for projecting the pattern image onto the substrate, and the adjustment device is configured to display at least one of a plurality of optical elements constituting the light transmission system in an optical axis direction of the light transmission system. Projection exposure apparatus characterized by having a drive member for driving.
제6항에 있어서, 상기 초점검출계로부터의 검출신호의 강도변화에 기초하여, 상기 광축과 수직한 면내에서의 패턴상 형성위치를 검출하는 위치 검출장치와, 상기 패턴상이 소정위치에 설정되도록 상기 검출된 형성위치에 따라 상기 패턴상을 이동시키는 이동장치를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.The position detecting apparatus according to claim 6, further comprising a position detecting device for detecting a pattern forming position in a plane perpendicular to the optical axis based on a change in intensity of the detection signal from the focus detecting system, and the pattern image being set at a predetermined position. And a moving device for moving the pattern image in accordance with the detected position of formation.
제8항에 있어서, 상기 이동장치는, 상기 초점검출계에서 설치되고 상기 광축에 수직한 면내에서 상기 패턴상의 위치를 시프트시키는 광학부재를 구동하는 구동부재를 갖는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.The projection exposure apparatus according to claim 8, wherein the moving device has a drive member which is installed in the focus detection system and drives an optical member which shifts the position on the pattern in a plane perpendicular to the optical axis.
마스크의 패턴상을 감광기판상에 투영하는 투영광학계, 상기 감광기판상에 패턴상을 투사하는 동시에 상기 감광기판으로부터의 반사광을 광점검출하므로써 상기 감광기판의 상기 투영광학계의 광축방향 위치 또는 위치 어긋남을 검출하는 위치 검출계, 상기 패턴상의 결상상태와 상기 투영광학계의 광축과 수직한 면내에서의패턴상 위치 중 적어도 한쪽을 조정하는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.Projection optical system for projecting the pattern image of the mask onto the photosensitive substrate, and projecting the pattern image onto the photosensitive substrate while detecting light spots from the photosensitive substrate to detect the optical axis position or positional deviation of the projection optical system of the photosensitive substrate. And a device for adjusting at least one of a position detection system to detect, an image forming state of the pattern image, and a pattern image position in a plane perpendicular to the optical axis of the projection optical system.
제10항에 있어서, 상기 조정장치는, 상기 위치검출계를 구성하는 적어도 하나의 광학요소를 구동하는 부재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.The projection exposure apparatus according to claim 10, wherein the adjustment device comprises a member for driving at least one optical element constituting the position detection system.
투영 광학계를 통해 마스크상의 패턴으로 감광기판을 노광하는 투영노광방법으로서, 상기 투영 광학계의 결상면과 상기 감광기판 표면의 상기 투영광학계 광축방향 편차를 검출하기 위해 상기 감광기판상에 투사하는 패턴상의 결상상태를 검출하는 스텝과, 상기 검출된 결상상태에 기초하여 상기 감광기판상에서의 상기 패턴상의 핀트를 조정하흔 스텝을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.A projection exposure method for exposing a photosensitive substrate in a pattern on a mask through a projection optical system, wherein the image formation on the photosensitive substrate is projected onto the photosensitive substrate in order to detect an optical axis direction deviation of the imaging optical system surface and the projection optical system surface of the photosensitive substrate surface. And a step of detecting a state and adjusting a focus of the pattern on the photosensitive substrate based on the detected image formation state.
제12항에 있어서, 상기 투영광학계의 광축과 수직한 면내에서의 상기 패턴상의 위치를 검출하는 스텝과, 상기 검출된 위치에 기초하여 상기 패턴상을 이동하는 스텝을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.13. The method of claim 12, further comprising detecting a position of the pattern image in a plane perpendicular to the optical axis of the projection optical system, and moving the pattern image based on the detected position. Projection exposure method.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.