Claims (11)
복수의 패턴을 포함하는 화상으로부터 소정의 크기의 대상 화상을 순차로 잘라내는 단계와, 본 대상 화상의 각각과 미리 기억된 참조 화상을 비교하는 단계와, 상기 대상 화상과 상기 참조 화상의 비교 결과에 의거하여 출력되는 2개값의 플래그 정보를 순차로 배열하여 이차원의 2개값 플래그 화상을 작성하는 단계와, 이 2개값 플래그 화상으로부터 참조 플래그 화상과 동일한 크기의 대상 플래그 화상을 순차로 잘라내는 단계와, 이 대상 플래그 화상과 미리 기억되어 있던 참조 플래그 화상을 각각 비교하는 단계와, 이 비교 결과에 의거하여 상기 화상내의 패턴의 결함의 유무를 결정하는 단계로 이루어진 패턴 검사 방법.Sequentially cutting a target image having a predetermined size from an image including a plurality of patterns, comparing each of the target images with a previously stored reference image, and comparing the target image with the reference image. Creating two-dimensional two-value flag images by sequentially arranging two values of flag information to be output based on them, and sequentially cutting out a target flag image having the same size as the reference flag image from the two-value flag images; And a step of comparing the target flag image with a reference flag image previously stored, and determining the presence or absence of a defect in the pattern on the basis of the comparison result.
복수의 패턴을 포함하는 화상으로부터 소정의 크기의 대상 화상을 각각 잘라내는 단계와, 본 대상 화상의 각각과 미리 기억된 참조 화상을 비교하는 단계와, 상기 대상 화상과 상기 참조 화상의 비교 결과에 의거하여 출력되는 2개값의 플래그 정보를 순차로 배열하여 이차원의 2개값 플래그 화상을 작성하는 단계와, 이 2개 플래그 화상으로부터 소정의 크기의 대상 플래그 화상을 순차로 잘라내는 단계와, 이 대상 플래그 호상을 상기 2개값의 플래그 정보를 적어도 하나 포함하는 복수의요소로 분할함과 동시에, 이 요소 각각에 포함되는 2개값의 플래그 정보에 의거하여 각 요소를 2개값으로 나타내어 대상 요소 화상을 순차로 작성하는 단계와, 이 대상 요소 화상과 미리 기억된 참조 요소 화상을 각각 비교하는 단계와, 이 비교 결과에 의거하여 상기 화상내의 패턴의 결함의 유무를 결정하는 단계로 이루어진 패턴 검사 방법.Based on a step of cutting each target image of a predetermined size from an image including a plurality of patterns, comparing each of the target images with a previously stored reference image, and comparing the target image with the reference image. Generating two-dimensional two-value flag images by sequentially arranging two-value flag information to be outputted, and sequentially cutting out a target flag image having a predetermined size from the two flag images; Is divided into a plurality of elements including at least one of the two pieces of flag information, and each element is represented by two values based on two pieces of flag information included in each of these elements to sequentially create a target element image. Comparing the target element image with a reference element image stored in advance, and based on the comparison result, Pattern inspection method comprising determining the presence or absence of defects in the pattern in the image.
제1항에 있어서, 상기 패턴을 프린트 기판의 배선 패턴이며, 프린트 기판의 설계 자료에 의거하여 미리 상기 참조 화상을 작성하고 프린트 기판을 광전기적으로 (photoelectrically) 촬상하여 상기 화상을 작성하는 단계를 더 구비하는 패턴 검사 방법.The method according to claim 1, wherein the pattern is a wiring pattern of a printed board, and the step of creating the image by creating the reference image in advance and photoelectrically imaging the printed board based on the design data of the printed board. Pattern inspection method provided.
제2항에 있어서, 상기 패턴을 프린트 기판의 배선 패턴이며, 프린트 기판의 설계 자료에 의거하여 미리 참조 화상을 작성하고 프린트 기판을 광전기적으로 촬상하여 상기 화상을 작성하는 단계를 더 구비하는 패턴 검사 방법.The pattern inspection according to claim 2, wherein the pattern is a wiring pattern of a printed board, and further comprising: creating a reference image in advance based on design data of the printed board, and imaging the printed board photoelectrically to create the image. Way.
제4항에 있어서, 상기 참조 화상은 상기 프린트 기판 설계 자료중의 패턴(pl.)에 따라서 복수 종류 작성되며, 각 참조 화상에 대응하는 프린트 기판 설계 자료중의 패턴의 출현도수(frequency of occurrence)를 카운트하는 단계를 더 구비하며, 상기 패턴 결함의 유무를 결정하는 단계에 있어서 상기 카운트의 결과를 고려하는 패턴 검사 방법.5. The method according to claim 4, wherein a plurality of kinds of the reference image are created according to a pattern (pl.) In the printed circuit board design data, and the frequency of occurrence of the pattern in the printed circuit board design data corresponding to each reference image. The method of claim 1, further comprising the step of: counting the pattern defect, and determining the presence or absence of the pattern defect.
복수의 패턴을 포함하는 화상으로부터 소정의 크기의 대상 화상을 순차로 잘라내는 수단, 이 대상 화상의 각각과 미리 기억된 참조 화상을 비교하는 수단, 상기 대상 화상과 상기 참조 화상의 비교 결과에 의거하여 출력되는 2개값의 플래그 정보를 순차로 배열하여 이차원의 2개값 플래그 화상을 작성하는 수단, 이 2개값 플래그 화상으로부터 참조 플래그 화상과 동일한 크기의 대상 플래그 화상을 순차로 잘라내는 수단, 이 대상 플래그 화상과 미리 기억되어 있던 참조 플래그 화상을 각각 비교하는 수단 그리고 이 비교 결과에 의거하여 상기 화상내의 패턴의 결함의 유무를 결정하는 수단으로 이루어진 패턴 검사 장치.Means for sequentially cutting out a target image having a predetermined size from an image including a plurality of patterns, means for comparing each of the target images with a reference image stored in advance, and a comparison result between the target image and the reference image. A means for creating two-dimensional two-value flag images by sequentially arranging two-value flag information to be output, a means for sequentially cutting out a target flag image having the same size as the reference flag image from the two-value flag image, and this target flag image And means for comparing the reference flag images previously stored, and means for determining the presence or absence of a defect in the pattern on the basis of the comparison result.
복수의 패턴을 포함하는 화상으로부터 소정의 크기의 대상 화상을 순차로 잘라내는 수단, 이 대상 화상의 각각과 미리 기억된 참조 화상을 비교하는 수단, 상기 대상 화상과 상기 참조 화상의 비교 결과에 의거하여 출력되는 2개값의 플래그 정보를 순차로 배열하여 이차원의 2개값 플래그 화상을 작성하는 수단, 이 2개값 플래그 화상으로부터 소정의 크기의 대상 플래그 화상을 순차로 잘라내는 수단, 이 대상 플래그 화상을 상기 2개밧의 플래그 정보를 적어도 하나 포함되는 2개밧의 플래그 정보에 의거하여 각 요소를 2개값으로 나타내어 대상 요소 화상을 순차로 작성하는 수단, 이 대상 요소 화상과 미리 기억된 참조 요소 화상을 각각 비교하는 수단이 그리고 이 비교 결과에 의거하여 상기 화상내의 패턴의 결함의 유무를 결정하는 수단으로 이루어진 패턴 검사 장치.Means for sequentially cutting out a target image having a predetermined size from an image including a plurality of patterns, means for comparing each of the target images with a reference image stored in advance, and a comparison result between the target image and the reference image. Means for creating two-dimensional two-value flag images by sequentially arranging two-value flag information to be output, means for sequentially cutting a target flag image having a predetermined size from the two-value flag image, and the target flag image Means for sequentially creating a target element image by representing each element as two values based on two batt flag information including at least one Gavat flag information, and means for comparing the target element image with a previously stored reference element image, respectively And means for determining the presence or absence of a defect of the pattern in the image based on the comparison result. Pattern inspection apparatus.
패턴의 화상으로부터 잘라내어진 대상 화상과 그것에 대응하는 참조 화상을 비교하여 그 결과 2개값의 플래그 정보가 얻어지고, 이 2개값의 플래그 정보에 따른 2개값 플래그 화상으로부터 잘라내어진 대상 플래그 화상과 이것에 대응하는 참조 플래그 화상을 비교하여 그 결과 상기 패턴의 결함이 검출되는 단계로 이루어진 패턴 검사 방법.The target image cut out from the image of the pattern and the reference image corresponding thereto are compared, and as a result, two values of flag information are obtained, and the target flag image cut out from the two value flag images corresponding to the two values of flag information and corresponding thereto. And a step of comparing the reference flag image to detect a defect of the pattern as a result.
패턴의 화상으로부터 잘라내어진 대상 화상과 그것에 대응하는 참조 화상을 비교하여 그 결과 2개값의 플래그 정보가 얻어지고, 이 2개값의 플래그 정보에 따른 2개값 플래그 화상으로부터 잘라내어진 대상 플래그 화상을 복수의 요소로 분할하고, 이 요소마다 2개값의 요소 화상을 작성하며 그리고 이 요소 화상과 이것에 대응하는 참조 플래그 화상을 비교하여 그 결과 상기 패턴의 결함이 검출되는 단계로 이루어진 패턴 검사 방법.Comparing the target image cut out from the image of the pattern with the corresponding reference image, two values of flag information are obtained as a result, and a plurality of elements of the target flag image cut out from the two value flag image according to the two values of flag information are obtained. And a two-element element image is created for each element, and the element image and the reference flag image corresponding thereto are compared, and as a result, a defect of the pattern is detected.
패턴의 화상을 기억하는 메모리를 가지며, 이 화상으로부터 잘라내어진 대상 화상과 이것에 대응하는 참조 화상을 비교하여 2개값의 플래그 정보를 출력하는 제1의 장치(first device)와, 이 제1의 위치에 접속되고, 상기 2개값의 플래그 정보에 따른 2개값 플래그 화상으로부터 잘라내어진 대상 플래그 화상과 이것에 대응하는 참조 플래그 화상을 비교하여 상기 패턴의 결함을 검출하는 제2의 장치 (second device)로 이루어진 패턴 검사 장치.A first device having a memory for storing an image of a pattern, comparing a target image cut out from the image with a reference image corresponding thereto and outputting two pieces of flag information, and the first position A second device connected to the target flag image cut out from the two-value flag image according to the two-value flag information and a reference flag image corresponding thereto to detect a defect of the pattern. Pattern inspection device.
패턴의 화상을 기억하는 메모리를 가지며, 이 화상으로부터 잘라내어진 대상 화상과 이것에 대응하는 참조 화상을 비교하여 2개값의 플래그 정보를 출력하는 제1의 장치와, 이 제1의 장치에 접속되고, 이 2개값의 플래그 정보에 따른 2개값 플래그 화상으로부터 잘라내어진 대상 플래그 화상을, 복수의 2개값의 요소 화상으로 변환하고, 이 요소 화상과 이것에 대응하는 참조 요소 화상을 비교하여 상기 패턴의 결함을 검출하는 제2의 장치로 이루어진 패턴 검사 장치.A first device which has a memory for storing an image of a pattern, compares a target image cut out from this image with a reference image corresponding thereto, and outputs two pieces of flag information, and the first apparatus; The target flag image cut out from the two-value flag image corresponding to the two-value flag information is converted into a plurality of two-element element images, and the element image and the corresponding reference element image are compared to correct the defect of the pattern. The pattern inspection apparatus which consists of a 2nd apparatus which detects.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.