Claims (16)
구동기관(1) 표면에 신호전극(2)을 선택적으로 형성하고 그 신호전극(2)위에 일정간격마다 접착제(20)가 채워져 있는 세라믹 웨이퍼(21)를 형성하고 표면을 폴리싱하는 단계와; 상기 세라믹 웨이퍼(21) 표면의 중앙에 바이어스 전극(22)을 선택적으로 형성하고 그 바이어스 전극(22)과 접착제(20) 영역의 표면에 티타늄(23)을 선택적으로 형성하는 단계와; 상기 바이어스 전극(22)의 중앙영역을 제외한 표면에 거울(24)을 선택적으로 형성하고 접착제(20) 영역을 제외한 드러난 상기 티타늄(23)을 제거하는 단계로된 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.Selectively forming a signal electrode (2) on the surface of the drive engine (1), forming a ceramic wafer (21) filled with an adhesive (20) at predetermined intervals on the signal electrode (2), and polishing the surface; Selectively forming a bias electrode (22) in the center of the ceramic wafer (21) surface and selectively forming titanium (23) on the surface of the bias electrode (22) and the adhesive (20) region; Manufacture of the optical path control apparatus of the projection type image display device by selectively forming a mirror 24 on the surface of the bias electrode 22 except for the center region and removing the titanium 23 except the adhesive 20 region. Way.
제1항에 있어서, 상기 거울(24)을 형성하기 전에 형성할 거울 영역에 나이트라이드를 선택적으로 형성한후 거울(24)을 형성하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.2. A method according to claim 1, wherein nitride is selectively formed in the mirror area to be formed before forming the mirror (24) and then the mirror (24) is formed.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 신호전극(2)으로 금속을 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.3. A method according to claim 1 or 2, wherein a metal is used as said signal electrode (2).
제3항에 있어서, 상기 금속으로 알루미늄, 구리, 니켈중 적어도 하나를 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.4. The method of claim 3, wherein at least one of aluminum, copper, and nickel is used as the metal.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 접착제(20)로 에폭시를 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.The method of manufacturing an optical path control apparatus according to claim 1 or 2, wherein an epoxy is used as the adhesive (20).
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 접착제(20)의 두께 5㎛가 되도록 하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method of manufacturing an optical path control apparatus for a projection image display device according to claim 1 or 2, wherein the adhesive (20) has a thickness of 5 m.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 세라믹 웨이퍼(21)로 전왜세라믹 또는 압전 세라믹을 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.The method of manufacturing an optical path control apparatus for a projection image display device according to claim 1 or 2, wherein an electrostrictive ceramic or piezoelectric ceramic is used as the ceramic wafer (21).
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 세라믹 웨이퍼(21)의 두께를 100㎛가 되도록 하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method of manufacturing an optical path control apparatus for a projection image display device according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the ceramic wafer (21) is 100 mu m.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 티타늄(23)의 두께를 1㎛가 되도록 하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method of manufacturing an optical path control apparatus for a projection image display device according to claim 1 or 2, wherein the titanium (23) has a thickness of 1 µm.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 바이어스 전극(22)으로 금속을 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method according to claim 1 or 2, wherein a metal is used as the bias electrode (22).
제10항에 있어서, 상기 금속으로 크롬을 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.The method of manufacturing an optical path control apparatus according to claim 10, wherein chromium is used as the metal.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 거울(24)로 금속을 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method according to claim 1 or 2, wherein a metal is used as the mirror (24).
제12항에 있어서, 상기 금속으로 알루미늄을 사용하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.13. The method of claim 12, wherein aluminum is used as the metal.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 거울(24)의 폭이 90㎛가 되도록 하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method according to claim 1 or 2, wherein the mirror (24) has a width of 90 mu m.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 접착제(20) 영역의 티타늄(23)과 바이어스 전극(22)의 사이견격이 2㎛-3㎛가 되도록 하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method according to claim 1 or 2, wherein the distance between the titanium (23) and the bias electrode (22) in the area of the adhesive (20) is 2 µm-3 µm.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 신호전극(2)을 2차원 매트릭스 형태가 되도록 하는 투사형 화상표시장치의 광로조절장치 제조방법.A method according to claim 1 or 2, wherein the signal electrode (2) is in the form of a two-dimensional matrix.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.