KR950006117B1 - Heat treatment method and apparatus for synthetic resin articles - Google Patents

Heat treatment method and apparatus for synthetic resin articles Download PDF

Info

Publication number
KR950006117B1
KR950006117B1 KR1019920011749A KR920011749A KR950006117B1 KR 950006117 B1 KR950006117 B1 KR 950006117B1 KR 1019920011749 A KR1019920011749 A KR 1019920011749A KR 920011749 A KR920011749 A KR 920011749A KR 950006117 B1 KR950006117 B1 KR 950006117B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
heat treatment
heating element
oven
product
temperature controlled
Prior art date
Application number
KR1019920011749A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR940000241A (en
Inventor
이병철
김화준
김태민
이건주
최동진
권병노
Original Assignee
엘지전선주식회사
박원근
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지전선주식회사, 박원근 filed Critical 엘지전선주식회사
Priority to KR1019920011749A priority Critical patent/KR950006117B1/en
Publication of KR940000241A publication Critical patent/KR940000241A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR950006117B1 publication Critical patent/KR950006117B1/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C71/00After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor
    • B29C71/02Thermal after-treatment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)

Abstract

The method for increasing the productivity and quality in manufacturing the self temp. controlled polymer heating element, repeats the heating and cooling process in a short while. The heating element is only linearly moved at the heating state, and is rotated and bent at the cooling state. The apparatus comprises more than two of pulleys separated from each other; a tunnel-type heat-treating oven positioned between two pulleys; a cooling device positioned between the exit of the oven and the pulley; and a resistance monitoring device for measuring the cooled polymer heating element.

Description

자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복, 연속 열처리 방법 및 열처리 장치Repeating, Continuous Heat Treatment Method, and Heat Treatment Apparatus for Autonomous Temperature Controlled Polymer Heating Element

제1도는 본 발명의 반복, 연속 열처리 장치의 개략 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of a repeating, continuous heat treatment apparatus of the present invention.

제2도는 본 발명의 터널형 열처리 오븐의 구조를 나타내는 사시도.2 is a perspective view showing the structure of the tunnel-type heat treatment oven of the present invention.

제3도는 본 발명의 풀리의 구조를 나타내는 정면도 및 측면도.3 is a front view and a side view showing the structure of the pulley of the present invention.

제4도는 본 발명의 저항 모니터링 전극의 구조 및 그의 배열 상태를 나타내는 개략도.4 is a schematic diagram showing the structure of the resistance monitoring electrode of the present invention and the arrangement thereof.

제5도는 본 발명의 반복, 연속 열처리 장치를 이용한 열처리 반복 횟수에 따른 저항 감소 상태를 나타내는 그래프.5 is a graph showing a resistance reduction state according to the number of heat treatment repetitions using the repetitive and continuous heat treatment apparatus of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 터널형 열처리 오븐 2 : 지지 롤러1: Tunnel type heat treatment oven 2: Support roller

3 : 히터 4 : 좌측 풀리3: heater 4: left pulley

5 : 우측 풀리 6 : 송출기5: right pulley 6: discharger

7 : 권취기 8 : 냉각 장치7: winder 8: cooling device

9 : 팬 10 : 저항 모니터링 전극9: fan 10: resistance monitoring electrode

11 : 저항 측정기 12 : 컴퓨터11: resistance meter 12: computer

13 : 발열체 14 : 입구13: heating element 14: inlet

15 : 출구 16 : 오븐 뚜껑15 outlet 16: oven lid

17 : 접촉 전극17: contact electrode

본 발명은 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 제조 공정중 열처리 공정에 관한 것으로, 특히 생산성과 품질의 균일성을 크게 향상시킬 수 있는 반복, 연속 열처리 방법 및 열처리 장치의 개량에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment process during the manufacturing process of the autonomous temperature controlled polymer heating element, and more particularly, to an iterative, continuous heat treatment method and improvement of the heat treatment apparatus which can greatly improve the uniformity of productivity and quality.

자율 온도 제어형 고분자 발열체의 제조 공정에 있어서 열처리 공정은 매우 중요한 역할을 한다. 첫째 발열체 재료내에 카본 블랙의 도전 통로를 형성시켜 제품의 저항을 감소시키는 역할을 하는데, 이러한 열처리 공정을 통하여 제품의 저항을 원하는 수준까지 감소시킴으로써 원하는 출력의 제품을 제조할 수 있다. 둘째 제품의 기계적 특성, 전기적 특성, 열적 특성을 안정화시켜 장기 사용시에도 일정한 출력을 낼 수 있도록 한다.The heat treatment process plays a very important role in the manufacturing process of the autonomous temperature controlled polymer heating element. First, the conductive path of carbon black is formed in the heating element to reduce the resistance of the product. Through the heat treatment process, the product of the desired output can be manufactured by reducing the resistance of the product to a desired level. Second, it stabilizes the mechanical, electrical and thermal properties of the product so that it can produce a constant output even in long-term use.

이러한 열처리 공정에 있어서 종래에 사용되던 방식은 크게 배치식 방법과 연속식 방법으로 나눌 수 있다.Conventionally used in such a heat treatment process can be largely divided into a batch method and a continuous method.

배치식 열처리 방법으로는 제품을 가열된 오븐속에 일정시간 투입하거나, 기 출원한 바와 같이 열처리중 제품의 저항 감소를 모니터링하여 원하는 수준에 도달했을때 열처리를 중지하는 방법을 이용하였는데, 이러한 배치식 열처리 방법은 제품의 저항값을 정확하게 조정할 수 있는 장점이 있지만 생산성이 낮은 단점이 있었다.As a batch heat treatment method, a product was put into a heated oven for a predetermined time, or as previously applied, a method of monitoring a decrease in resistance of a product during heat treatment and stopping the heat treatment when a desired level was reached was used. The method has the advantage of accurately adjusting the resistance value of the product, but has the disadvantage of low productivity.

한편 연속식 열처리 방법은 연속적인 생산이 가능하고 제품의 길이 방향으로 일정한 열처리 조건을 제공할 수 있기 때문에, 생산성이 높고 균일한 특성의 제품을 얻을 수 있는 방법인데 이에 사용되는 터널형 오븐의 길이를 무한정 길게할 수 없기 때문에 터널의 길이를 줄일 수 있는 방법이 모색되어야 했다. 이것의 한 방법으로서 기 출원한 바와 같이 오븐속에서 풀리를 이용하여 제품을 왕복 운동시켜 좁은 공간의 오븐속에서도 비교적 긴 열처리 시간을 얻을 수 있도록 한 것이 있는데, 이 방법은 열처리 발열체의 용융 온도 이상의 고온에서 이루어지므로 제품이 풀리에 밀착되어 회전할때 변형이 발생하는 단점이 있었다. 또다른 방법으로서 기 출원한 바와 같이 원통형 드럼의 회전 운동과 미끄럼 운동을 이용한 연속식 열처리 방법은 제품이 일정한 굴곡을 가지고 체인에 실려서 진행하므로 제품의 변형이 발생하지 않고 비교적 장시간의 열처리가 가능하지만 설비의 구조가 복잡하고 오랜시간 사용시 설비가 마모되는 문제점이 있었다.On the other hand, the continuous heat treatment method enables continuous production and provides a uniform heat treatment condition in the length direction of the product, thereby obtaining a product with high productivity and uniform characteristics. Since it could not be infinitely long, a way to reduce the length of the tunnel had to be sought. One method of this is to reciprocate a product by using a pulley in an oven to obtain a relatively long heat treatment time even in a narrow space oven. Since the product is in close contact with the pulley rotates there was a disadvantage that the deformation occurs. As another method, as previously applied, the continuous heat treatment method using the rotational and sliding motions of the cylindrical drum is carried on the chain with a certain curvature so that the product does not deform and heat treatment is possible for a relatively long time. The structure of the complex and there was a problem that the equipment is worn out for a long time use.

종래의 연속식 열처리 방법의 또 한가지 단점은 제품의 변형을 방지하기 위하여 발열체 위에 용융 온도가 열처리 온도보다 높은 특성의 절연 쟈켓을 씌운 후에 열처리하기 때문에 열처리후 잘라서 저항을 측정하기 전에는 완제품의 저항을 검사할 수 없고 열처리 작업중 열처리가 원하는 수준으로 진행되고 있는지 알 수 없다는 문제점이 있었다.Another disadvantage of the conventional continuous heat treatment method is that the heat treatment is performed after the insulation jacket is put on the heating element to have a higher melting temperature than the heat treatment temperature to prevent deformation of the product. There was a problem that can not know whether the heat treatment is proceeding to the desired level during the heat treatment operation.

본 발명은 이와 같은 종래의 연속식 열처리 방법의 문제점들을 해결하기 위하여, 가열, 냉각이 연속적으로 반복될 수 있고, 오랜시간의 열처리 효과를 가지면서도 제품에 변형이 발생하지 않는 반복, 연속 열처리 장치와 그 열처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the conventional continuous heat treatment method, the present invention can be repeatedly repeated heating and cooling, and a repetitive, continuous heat treatment apparatus having a long time heat treatment effect and no deformation in the product and It is an object to provide the heat treatment method.

본 발명의 열처리 방법은 비교적 짧은 시간 동안의 가열, 냉각을 여러차례 반복하면, 긴 시간의 1회 열처리와 비슷한 열처리 효과를 준다는 실험 사실에 근거하여, 비교적 짧은 시간 동안의 가열, 냉각을 여러차례 반복하도록 구성하고, 열처리중 고온의 가열 상태에서는 직선 운동만 하고, 냉각 상태에서만 회전, 굽힘 운동이 이루어지도록 구성되어 제품에 변형이 발생하지 않도록 한 것이다.The heat treatment method of the present invention is configured to repeat the heating and cooling several times for a relatively short time, based on the fact that if the heating and cooling for a relatively short time is repeated several times, the heat treatment effect is similar to that of the one-time heat treatment for a long time. In addition, it is configured so that only linear motion is performed in a heated state of high temperature during heat treatment, and rotation and bending motion are performed only in a cooled state so that deformation does not occur in the product.

또한 본 발명의 열처리 장치는 서로 평행한 회전축을 가지고 떨어져 있는 두개 이상의 풀리와 ; 이 풀리 사이에 위치하는 터널형 열처리 오븐과 ; 이 열처리 오븐의 출구와 상기 풀리중 어느 한 풀리 사이에 위치하는 냉각 장치와 ; 이 냉각 장치를 통과한 발열체의 저항을 측정하기 위하여 발열체의 라인 중 전부 또는 일부에 설치된 저항 모니터링 장치로 구성되어, 비교적 짧은 길이의 터널형 열처리 오븐을 사용하면서도 좁은 오븐 공간을 효율적으로 사용할 수 있으며 변형이 발생하지 아니하는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the heat treatment apparatus of the present invention and two or more pulleys having a rotation axis parallel to each other; A tunnel heat treatment oven located between the pulleys; A cooling device located between the outlet of the heat treatment oven and any one of the pulleys; It consists of a resistance monitoring device installed on all or a part of the line of the heating element to measure the resistance of the heating element passing through the cooling device, so that a narrow oven space can be efficiently used while using a relatively short length tunnel type heat treatment oven. The effect that this does not occur can be obtained.

이하, 본 발명을 첨부 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1도는 본 발명의 반복, 연속 열처리 장치를 나타낸 개략 단면도로서 그 구성은 크게 터널형 열처리 오븐(1), 냉각 장치(8), 풀리(4)(5), 저항 모니터링 장치(10)(11)(12)로 구성되어 있다. 터널형 열처리 오븐(1)은 두개의 풀리(4)(5) 사이의 한쪽에 위치하고, 냉각 장치(8)는 열처리 오븐(1)으로부터 출구(15)와 풀리(5) 사이에 위치하며, 저항 모니터링 전극(10)은 제품이 냉각된 어느 위치에 설치된다. 열처리되는 발열체(13)는 송출기(6)에서 풀려나와 두개의 풀리(4)(5)와 권취기(7)의 구동력에 의하여 진행하게 되며 가열된 터널형 열처리 오븐(1)과 냉각 장치(8)를 지정된 횟수만큼 반복 통과하도록 되어 있다. 그러므로 가열된 열처리 오븐(1)속을 통과할때는 직선 운동만 하게 되며 왕복 운동을 위한 풀리(5)에 도달하기 전에 냉각 장치(8)에서 충분히 냉각되므로 풀리에서의 회전, 굽힘 운동시에는 변형이 발생하지 않는다.1 is a schematic cross-sectional view showing a repeated, continuous heat treatment apparatus of the present invention, the configuration of which is largely tunnel-type heat treatment oven (1), cooling device (8), pulley (4) (5), resistance monitoring device (10) (11) (12). The tunnel heat treatment oven 1 is located on one side between two pulleys 4 and 5, and the cooling device 8 is located between the outlet 15 and the pulley 5 from the heat treatment oven 1, and the resistance The monitoring electrode 10 is installed at a position where the product is cooled. The heat generating element 13 to be heat-treated is released by the discharger (6) proceeds by the driving force of the two pulleys (4) (5) and the winder (7) and the heated tunnel-type heat treatment oven (1) and cooling device (8) ) Is repeated through the specified number of times. Therefore, when passing through the heated heat treatment oven (1), only linear motion is performed, and the cooling device (8) is sufficiently cooled before reaching the pulley (5) for reciprocating motion so that deformation occurs during rotation and bending motion in the pulley. I never do that.

터널형 열처리 오븐(1)은 제2도에 나타낸 바와 같이 발열체의 입구(14), 출구(15)를 가지며 상하로 균일하게 배치된 히터와 발열체의 늘어짐을 방지하기 위한 다수의 지지 롤러(2)를 가진다. 또한 초기 세팅시 등 작업상의 편의를 위하여 뚜껑(16)을 설치하여 열고 닫을 수 있도록 하였다. 오븐의 길이는 1회 열처리의 가열 시간, 적정 선속 등에 따라 달라질 수 있으며 길이를 길게 할수록 열처리 가열 시간의 조정이 자유롭게 된다. 1회 열처리의 적정 가열 시간은 10분 내지 20분 정도인데 이 경우 10m 내지 20m의 오븐 길이를 가지면 1m/분 정도의 선속을 가질 수 있다. 오븐의 길이가 길고 입구(14), 출구(15) 부분에서 열손실이 발생하기 때문에 오븐을 여러개의 구역으로 나누어 히터, 온도 조절기를 따로 설치하여 각 부분마다 정확한 온도를 유지할 수 있도록 한다. 제2도의 형태로 제작된 단위 열처리 오븐을 제1도에 도시된 바와 같이 직렬로 길게 연결, 설치함으로써 열처리 오븐의 길이를 쉽게 증감시킬 수 있고 각 구역의 온도를 정확하게 조절할 수 있다.The tunnel-type heat treatment oven 1 has an inlet 14 and an outlet 15 of the heating element as shown in FIG. 2 and a plurality of supporting rollers 2 for preventing sagging of the heater and the heating element uniformly arranged up and down. Has In addition, for the convenience of operation, such as during the initial setting was to install the lid 16 to open and close. The length of the oven may vary depending on the heating time of a single heat treatment, an appropriate ship speed, etc., and the longer the length, the more free the adjustment of the heat treatment heating time. The proper heating time of the one-time heat treatment is about 10 to 20 minutes in this case, if the oven length of 10m to 20m can have a line speed of about 1m / min. Since the length of the oven is long and heat loss occurs at the inlet 14 and the outlet 15, the oven is divided into several zones so that a heater and a temperature controller are separately installed to maintain the correct temperature in each portion. By connecting and installing the unit heat treatment oven manufactured in the form of FIG. 2 in series as shown in FIG. 1, the length of the heat treatment oven can be easily increased or decreased and the temperature of each zone can be precisely controlled.

자율 온도 제어형 고분자 발열체의 열처리 공정에서는 가열뿐만 아니라 냉각 과정도 매우 중요하며 일정한 냉각 과정을 가지도록 해야 한다. 냉각 장치(8)는 일정한 냉각 특성을 가지도록 하기 위하여 일정한 형태의 밀폐된 공간속에 냉각팬(9)을 설치한 것으로 냉각 장치를 통과하는 가열된 상태의 발열체(13)가 서서히 냉각되도록 한 것이다.In the heat treatment process of the autonomous temperature controlled polymer heating element, not only heating but also cooling process is very important, and it is necessary to have a constant cooling process. The cooling device 8 is provided with a cooling fan 9 in a sealed space of a certain form in order to have a constant cooling characteristics, so that the heating element 13 in the heated state passing through the cooling device is gradually cooled.

풀리(3)는 제3도에서 보인 것과 같은 간단한 구조를 가지는데 홈의 크기는 발열체의 폭보다 커야 하고, 홈의 수는 열처리 반복 횟수에 따라 달라지며, 홈 사이의 간격은 저항 모니터링 전극을 각 열처리 반복 횟수마다 설치할 수 있는 공간을 두어야 한다.The pulley 3 has a simple structure as shown in FIG. 3, wherein the size of the grooves should be larger than the width of the heating element, the number of grooves depends on the number of heat treatment repetitions, and the spacing between the grooves is used for the resistance monitoring electrode. Space should be provided for each repetition of heat treatment.

저항 모니터링 전극(10)의 구조를 제4도에 나타내었는데 각 열처리 횟수마다 냉각된 위치에 제품의 두께방향으로 두개의 전극(17)을 설치하고 저항 측정기(11)에 연결하였다. 각각의 전극(17)은 스프링 장치에 의하여 발열체(13)와 접촉되는데 발열체에 기계적 긁힘이나 변형을 주지 않도록 고정되어야 한다.The structure of the resistance monitoring electrode 10 is shown in FIG. 4, and two electrodes 17 are installed in the thickness direction of the product at the cooled position for each number of heat treatments and connected to the resistance meter 11. Each electrode 17 is in contact with the heating element 13 by a spring device, and must be fixed so as not to cause mechanical scratches or deformation on the heating element.

컴퓨터(12)에서는 저항 측정기(11)에서 측정된 저항값을 각 열처리 반복 횟수별로 분석하여 열처리 공정의 진행 상황을 작업자에게 보여준다. 여기에서 측정되는 두께 방향의 저항값은 전극과 발열체와의 접촉 면적에 따라 달라질 수 있는데 접촉 면적이 클수록 정확성이 커지게 된다. 이 값은 완제품의 저항값, 출력과 직접 비례하는 특성을 보여준다.The computer 12 analyzes the resistance value measured by the resistance measuring device 11 for each heat treatment repetition number and shows the progress of the heat treatment process to the worker. The resistance value in the thickness direction measured here may vary depending on the contact area between the electrode and the heating element. The larger the contact area, the greater the accuracy. This value shows the property directly proportional to the resistance value and output of the finished product.

따라서 본 발명의 연속 열처리 장치는 비교적 짧은 길이의 터널형 열처리 오븐을 사용하면서도 좁은 오븐 공간을 효율적으로 사용할 수 있고 변형이 발생하지 아니하며, 또한 1회 열처리의 가열 시간은 터널형 오븐의 길이 및 선속과 관계되므로, 선속을 조정하므로써 가열 시간을 조절할 수 있고 열처리 반복 횟수는 풀리의 홈 수를 증가시킴으로서 간단히 늘릴 수 있는 장점이 있다.Therefore, the continuous heat treatment apparatus of the present invention can efficiently use a narrow oven space while using a relatively short length tunnel type heat treatment oven, and no deformation occurs, and the heating time of a single heat treatment is determined by the length and flux of the tunnel type oven. Therefore, the heating time can be adjusted by adjusting the flux and the number of heat treatment repetitions can be easily increased by increasing the number of grooves of the pulley.

또한 반복 열처리의 횟수가 증가하면 제품의 저항이 일정한 값으로 포화되는 경향을 갖기 때문에 더욱 균일한 제품을 얻을 수 있다. 더 나아가서는 본 발명의 열처리 장치에서는 연속적인 저항 모니터링이 가능하다. 본 발명의 반복, 연속 열처리 장치를 이용할 경우 1회 열처리시 가열의 적정 시간은 10분 내지 20분으로서 이와 같은 짧은 시간의 열처리에서는 용융 온도 이상의 고온에서 열처리하더라도 발열체에 큰 변형이 발생하지 않으므로 발열체만으로 열처리 공정이 가능한 장점이 있고 이 경우 냉각된 발열체에 적절한 형태의 전극을 물리적으로 접촉시키므로서 연속적으로 저항을 모니터링할 수 있다.In addition, since the number of times of repeated heat treatment increases, the resistance of the product tends to saturate to a constant value, thereby obtaining a more uniform product. Furthermore, in the heat treatment apparatus of the present invention, continuous resistance monitoring is possible. In the case of using the repetitive and continuous heat treatment apparatus of the present invention, an appropriate time for heating in one heat treatment is 10 minutes to 20 minutes. In such a short heat treatment, even if heat treatment is performed at a high temperature above the melting temperature, no large deformation occurs in the heating element. The heat treatment process has the advantage of being possible, in which case the resistance can be continuously monitored by physically contacting the electrode of the appropriate type with the cooled heating element.

본 발명의 반복, 연속 열처리 장치를 이용한 열처리 작업 순서는 다음과 같다. 압축 작업 완료된 발열체 보빈을 송출기(6)에 고정시키고, 두개의 풀리(4)(5), 터널형 열처리 오븐(1), 냉각 장치(8), 저항 모니터링 전극(10) 등을 통과하도록 제1도와 같이 연결시킨다. 송출기(6)로부터 풀려나온 발열체는 좌측 풀리(4)의 첫번째 홈에 연결되고 1회 왕복한 후에는 두번째 홈에 연결되며 마지막 왕복후에는 우측 풀리(5)의 마지막 홈에 연결된 후 권취기(7)의 보빈에 감기게 된다. 히터(3)를 가동시켜 열처리 오븐이 원하는 세팅 온도까지 가열되면 냉각 장치(8), 두개의 풀리(4)(5), 권취기(7), 저항 모니터링 장치(10)(11)(12) 등을 켜고 작업을 시작한다. 마지막 왕복후 열처리 완료된 제품의 모니터링 저항이 원하는 규격치에 들어오는지를 확인하고 저항값이 원하는 규격치에 들도록 오븐의 온도, 선속 등을 조절한다.The heat treatment operation sequence using the repeated and continuous heat treatment apparatus of the present invention is as follows. The first heating element bobbin, which has been compressed, is fixed to the discharger 6 and passed through two pulleys 4 and 5, a tunnel heat treatment oven 1, a cooling device 8, a resistance monitoring electrode 10, and the like. Connect with tiles. The heating element released from the feeder (6) is connected to the first groove of the left pulley (4), after one round trip, to the second groove, and after the last round trip to the last groove of the right pulley (5) and then to the winder (7). Coiled to the bobbin). When the heater 3 is activated and the heat treatment oven is heated to the desired setting temperature, the cooling device 8, two pulleys 4, 5, the winder 7, the resistance monitoring device 10, 11, 12 Turn on the light and start working. After the last reciprocation, check whether the monitoring resistance of the heat-treated product is within the desired standard value and adjust the oven temperature and speed so that the resistance value is within the desired standard value.

이와 같은 작업 방법으로 진행된 실시예는 다음과 같다.Embodiments proceeded with such a working method is as follows.

[실시예]EXAMPLE

사용한 오븐의 길이는 15m, 열처리 온도는 140℃, 선속은 1m/min, 열처리 반복 횟수는 20회였고, 냉각라인의 길이는 5m였다.The length of the oven used was 15 m, the heat treatment temperature was 140 ° C., the line speed was 1 m / min, the number of heat treatment repetitions was 20 times, and the length of the cooling line was 5 m.

그러므로 1회 열처리의 가열 시간은 15분이었고 냉각 장치에서의 냉각 시간은 5분, 총 냉각 시간은 25분 이상이었다. 이와 같은 조건으로 열처리 작업하였을때 저항 모니터링 장치에서 얻은 두께 방향 저항의 감소경향은 제5도에 나타낸 바와 같았다. 열처리 반복 횟수가 10회 이상이 되면 추가적인 저항 감소는 크게 나타나지 않았으며 20회 정도 반복 열처리 하면 제품의 길이 방향으로 저항값이 매우 균일한 제품을 얻을 수 있었다. 1회 열처리 가열 시간을 늘리면 반복 횟수에 따른 저항 감소율이 더 커지며 필요한 반복 열처리 횟수를 줄일 수 있었다. 1회 열처리의 가열 시간을 10분 내지 20분 사이로 조정할때 제품의 구조 변화는 거의 발생하지 않았다.Therefore, the heating time of one heat treatment was 15 minutes, the cooling time in the cooling device was 5 minutes, and the total cooling time was more than 25 minutes. When the heat treatment was performed under such conditions, the decreasing tendency of the thickness direction resistance obtained by the resistance monitoring device was as shown in FIG. When the number of times of heat treatment was repeated more than 10 times, there was no significant decrease in additional resistance. When the heat treatment was repeated 20 times, a product having a very uniform resistance in the longitudinal direction of the product was obtained. Increasing the one-time heat treatment time increases the resistance reduction rate according to the number of repetitions and reduces the number of repetitive heat treatments required. When the heating time of the single heat treatment was adjusted between 10 minutes and 20 minutes, the structural change of the product hardly occurred.

Claims (7)

자율 온도 제어형 고분자 발열체의 연속 열처리 방법에 있어서, 비교적 짧은 시간 동안의 가열, 냉각을 여러차례 반복하도록 구성된 것으로, 상기 자율 온도 제어형 고분자 발열체가 열처리중 고온이 열처리 상태에서는 직선 운동만 하고, 냉각된 상태에서만 회전, 굽힘 운동이 이루어지도록 함으로써, 제품에 변형이 발생하지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복 연속 열처리 방법.In the continuous heat treatment method of the autonomous temperature controlled polymer heating element, it is configured to repeat the heating and cooling several times for a relatively short time, the high temperature during the heat treatment of the autonomous temperature controlled polymer heating element is only linear movement in the heat treatment state, only in the cooled state A continuous continuous heat treatment method of an autonomous temperature controlled polymer heating element, characterized in that deformation is not generated in a product by rotating and bending. 서로 평행한 회전축을 가지고 떨어져 있는 두개 이상의 풀리, 상기 풀리 사이에 위치한 터널형 열처리 오븐, 상기 열처리 오븐의 출구와 상기 풀리중 어느 하나의 풀리 사이에 위치하는 냉각 장치 및 냉각된 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 저항을 측정하기 위하여 라인의 임의 위치에 설치되어 있는 저항 모니터링 장치로 구성되어, 가열 냉각 공정을 여러차례 반복할 수 있고 고온 가열 상태에서는 직선 운동만 하고, 냉각된 상태에서만 회전, 굽힘 운동을 하는 것을 특징으로 하는 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복 연속 열처리 장치.Two or more pulleys having a parallel axis of rotation separated from each other, a tunnel-type heat treatment oven located between the pulleys, a cooling device located between the outlet of the heat treatment oven and one of the pulleys, and a cooled autonomous temperature controlled polymer heating element. It consists of a resistance monitoring device installed at an arbitrary position on the line to measure the resistance. The heating and cooling process can be repeated several times, and the linear motion is only performed in the high temperature heating state, and the rotation and bending motion only in the cooled state. A repeating continuous heat treatment apparatus for an autonomous temperature controlled type polymer heating element. 제2항에 있어서, 상기 터널형 열처리 오븐은 여러개의 단위 열처리 오븐이 직렬로 연결된 것으로서, 상기 단위 열처리 오븐은 상기 발열체 제품이 외부로부터 도입될 수 있는 입구와 ; 열처리후 상기 열처리 제품이 외부로 나갈 수 있는 출구와 ; 오븐 내부의 제품 진행로에 설치되어 가열된 상기 제품이 직선 운동시 늘어남을 방지하기 위한 다수의 지지 롤러와 ; 상하에 규칙적으로 배치된 히터와 ; 위면에 설치된 열고 닫을 수 있는 오븐 뚜껑을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복 연속 열처리 장치.According to claim 2, wherein the tunnel-type heat treatment oven is a plurality of unit heat treatment oven is connected in series, the unit heat treatment oven has an inlet through which the heating element product can be introduced from the outside; An outlet through which the heat treated product can go out after heat treatment; A plurality of support rollers installed in the product path inside the oven to prevent the heated product from stretching during linear motion; Heaters regularly arranged above and below; Repeated continuous heat treatment apparatus of the autonomous temperature control type polymer heating element characterized in that it is provided with an open and close oven lid installed on the upper surface. 제2항에 있어서, 상기 풀리는 터널형 열처리 오븐의 외부에 설치되어 있고, 둘레에 여러개의 납작한 홈을 구비하여, 상기 제품이 연속적으로 옆의 홈에 인가되어 열처리 오븐과 냉각 장치를 여러차례 왕복 운동할 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복, 연속 열처리 장치.3. The pulley of claim 2, wherein the pulley is provided outside of the tunnel heat treatment oven and has a plurality of flat grooves around the product so that the product is continuously applied to a side groove to reciprocate the heat treatment oven and the cooling device several times. Repeating, continuous heat treatment apparatus of the autonomous temperature controlled polymer heating element, characterized in that configured to be. 제2항에 있어서, 상기 냉각 장치는 밀폐 공간을 가지고 냉각팬이 설치된 것을 특징으로 하는 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복, 연속 열처리 장치.3. The repeating and continuous heat treatment apparatus of an autonomous temperature controlled polymer heating element according to claim 2, wherein the cooling device has a sealed space and a cooling fan is installed. 제2항에 있어서, 상기 저항 모니터링 장치는 반복, 연속 열처리 라인의 냉각된 어느 위치에 설치되며, 상기 제품의 두께 방향으로 한쌍이 설치되어 있는 모니터링 전극과, 상기 모니터링 전극에 연결되어 있는 저항 측정 설비와, 상기 저항 측정 설비에 연결되어 자료를 종합 분석할 수 있는 컴퓨터로 구성되며, 상기 저항 모니터링 장치는 각 열처리 횟수마다 모두 설치하거나 일부 라인에만 설치할 수 있고, 상기 모니터링 전극은 탄성을 가지는 스프링 장치에 의하여 제품 표면과 접촉되는 것을 특징으로 하는 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복, 연속 열처리 장치.3. The resistance monitoring apparatus according to claim 2, wherein the resistance monitoring device is installed at a cooled position of a repetitive and continuous heat treatment line, and has a pair of monitoring electrodes installed in a thickness direction of the product, and a resistance measuring device connected to the monitoring electrodes. And a computer that is connected to the resistance measurement facility and comprehensively analyzes the data, wherein the resistance monitoring device may be installed at every number of heat treatments or may be installed at only a part of the lines, and the monitoring electrode may be provided at a spring device having elasticity. Repeating, continuous heat treatment apparatus of the autonomous temperature controlled polymer heating element, characterized in that in contact with the surface of the product. 제2항에 있어서, 상기 발열체는 절연 쟈켓이 없는 발열체이거나, 절연 쟈켓을 씌운 발열체인 것을 특징으로 하는 자율 온도 제어형 고분자 발열체의 반복, 연속 열처리 장치.3. The repeated and continuous heat treatment apparatus of an autonomous temperature controlled polymer heating element according to claim 2, wherein the heating element is a heating element without an insulation jacket or a heating element with an insulation jacket.
KR1019920011749A 1992-06-30 1992-06-30 Heat treatment method and apparatus for synthetic resin articles KR950006117B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920011749A KR950006117B1 (en) 1992-06-30 1992-06-30 Heat treatment method and apparatus for synthetic resin articles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920011749A KR950006117B1 (en) 1992-06-30 1992-06-30 Heat treatment method and apparatus for synthetic resin articles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940000241A KR940000241A (en) 1994-01-03
KR950006117B1 true KR950006117B1 (en) 1995-06-09

Family

ID=19335739

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920011749A KR950006117B1 (en) 1992-06-30 1992-06-30 Heat treatment method and apparatus for synthetic resin articles

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR950006117B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR940000241A (en) 1994-01-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10537931B2 (en) Heating method, heating apparatus and method for manufacturing press-molded article
US3211893A (en) Temperature controlled electrically heated roller
KR950006117B1 (en) Heat treatment method and apparatus for synthetic resin articles
US4229236A (en) Process and apparatus for heat treating steel using infrared radiation
KR20080074048A (en) Method of and apparatus for stretch-leveling metal strip
US3506804A (en) Devices for heating filaments or treads
US3842239A (en) Power control circuit for resistance heating moving conductors
US4034205A (en) Apparatus having multiple heating wires for heating of a flat workpiece
WO2018123249A1 (en) Microwave heating device, and device and method for producing carbon fibers
US7011720B2 (en) Double-taper steel wire and continuous heat treating method and device therefor
US4035880A (en) Apparatus for drawing and crimping yarn
GB498472A (en) Improvements in or relating to a method of and apparatus for heat treating metal strip, wire or flexible tubing
JPH0748747A (en) Heat treatment apparatus for moving yarn
US1386645A (en) Electrically-heated strip and wire tempering and annealing device
GB1430181A (en) Apparatus for use in the manufacture of electrical wire-cable
KR950014782B1 (en) Forming method for conductivity high molecular sheet
US1971666A (en) Apparatus for heat treating strip metal
JP2773032B2 (en) Direct current heating and rolling method for bars and wires
US3273101A (en) Heating apparatus for use in electrically heated rolls
US5918455A (en) Drawing/false-twist-texturizing process and novel type of oven enabling it to be implemented
US5174835A (en) Method of strip elongation control in continuous annealing furnaces
US3723709A (en) Strand heating device
US3479709A (en) Strand treatment
SU903144A1 (en) Roll to roll-type machines for processing polymer materials
US3515848A (en) Temperature controllable strand annealer

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee